泵监视装置及真空泵

文档序号:1426478 发布日期:2020-03-17 浏览:27次 >En<

阅读说明:本技术 泵监视装置及真空泵 (Pump monitoring device and vacuum pump ) 是由 渡边耕太 于 2019-07-26 设计创作,主要内容包括:本发明提供一种泵监视装置及真空泵。泵监视装置,其高精度地判定泵异常。泵监视装置是对针对处理对象实施各种工艺的工艺腔室内进行排气的真空泵(1)的监视装置,其包括:获取部(24a),获取表示真空泵(1)的运转状态的物理量;比较部(24d),对马达电流值的实测波形与基准波形进行比较;以及判定部(24e),基于比较部(24d)中的比较结果,判定真空泵(1)的负荷。(The invention provides a pump monitoring device and a vacuum pump. A pump monitoring device determines a pump abnormality with high accuracy. A pump monitoring device is a monitoring device for a vacuum pump (1) for exhausting gas from a process chamber in which various processes are performed on a processing object, and comprises: an acquisition unit (24a) that acquires a physical quantity indicating the operating state of the vacuum pump (1); a comparison unit (24d) that compares the actual measurement waveform of the motor current value with a reference waveform; and a determination unit (24e) that determines the load on the vacuum pump (1) based on the comparison result in the comparison unit (24 d).)

泵监视装置及真空泵

技术领域

本发明涉及一种泵监视装置及搭载泵监视装置的真空泵。

背景技术

在半导体或液晶面板的制造的干式蚀刻或化学气相沉积(Chemical VaporDeposition,CVD)等步骤中,在高真空的工艺腔室(process chamber)内进行处理,因此例如利用如涡轮分子泵那样的真空泵对工艺腔室内的气体进行排气来维持高真空。当对干式蚀刻或CVD等的工艺腔室内的气体进行排气时,伴随气体的排气,反应产物堆积在泵内。

关于此种反应产物的堆积,在专利文献1中公开了一种探测已堆积在泵内的产物的方法。在专利文献1中公开的堆积物探测方法中,测量对泵的旋转体进行旋转驱动的马达的电流值,在相对于马达电流初始值的测量值的变化量为规定值以上的情况下发出警告。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利第5767632号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

但是,实际上,即便在单一的工艺内,被排气的气体流量也大幅度变动,因此伴随气体流量的变动,对旋转体进行旋转驱动的马达的电流值也大幅度变动。因此,无法避免错误判定。

[解决问题的技术手段]

(1)根据本发明的泵监视装置是对针对处理对象实施各种工艺的工艺腔室内进行排气的真空泵的监视装置,其包括:获取部,获取表示所述真空泵的运转状态的物理量;比较部,对所述物理量的实测波形与基准波形进行比较;以及判定部,基于比较部中的比较结果,判定真空泵的由负荷增大所引起的异常。

(2)泵监视装置的所述比较部优选为将针对所述工艺所选择的所述基准波形与所述实测波形进行比较。

(3)泵监视装置的所述基准波形优选为基于使所述真空泵启动后的规定时间内的所述物理量的信号波形来获取。

(4)泵监视装置的所述比较部优选为针对一个工艺中的物理量变成最大的时间范围内的所述实测波形与所述基准波形,分别算出所述实测波形与所述基准波形的物理量的平均值,并计算所述各个平均值的差值来进行波形比较。

(5)在泵监视装置的优选的形态中,当将对多个所述处理对象的各个连续地实施了同一工艺时所获得的所述物理量的信号波形定义成单位波形时,所述基准波形与所述实测波形分别包含在规定期间内重复的多个单位波形,且所述比较部对包含所述多个单位波形的所述基准波形与所述实测波形进行比较。

(6)泵监视装置的所述物理量优选为对所述真空泵的转子进行旋转驱动的马达的电流值。

(7)本发明的另一形态的真空泵包括:泵本体,具有转子、定子、及对转子进行旋转驱动的马达;以及泵控制器,包含所述泵监视装置,且对所述马达进行驱动控制。

[发明的效果]

根据本发明,可正确地判定由工艺腔室内的工艺所引起的真空泵的负荷的异常,例如由伴随生成杂质的堆积物的泵负荷增大所引起的异常。

附图说明

图1是表示第一实施方式的真空处理装置的图。

图2是表示泵本体的详细情况的剖面图。

图3(a)是表示真空泵及泵监视装置的框图,图3(b)是泵监视部的功能框图。

图4是表示马达电流值的实测波形与基准波形的图。

图5是表示真空泵的运转控制处理的主流程的一例的流程图。

图6是表示第一实施方式的泵监视处理的一例的流程图。

图7是表示异常判定处理的一例的流程图。

图8(a)及图8(b)是表示马达电流值的实测波形与基准波形的图。

图9是表示第二实施方式的泵监视处理的一例的流程图。

符号的说明

1:真空泵

2:工艺腔室

3:真空阀

10:真空处理装置

11:泵本体

12:泵控制器

14:泵转子

16:马达

17:磁轴承

17A、17B:径向磁轴承

17C:轴向磁轴承

22:磁轴承控制部

23:马达控制部

24:泵监视部

24a:基准波形获取部

24b:波形比较部

24c:异常判定部

25:存储部

41:实测波形

42:基准波形

100:主控制器

具体实施方式

以下,参照图对用于实施本发明的形态进行说明。

-第一实施方式-

图1是表示第一实施方式的搭载泵监视装置的真空处理装置10的图。真空处理装置10为例如蚀刻处理装置或成膜装置。真空泵1经由阀3而安装在工艺腔室2。真空处理装置10包括对包含真空泵1及阀3的真空处理装置10整体进行控制的主控制器100。真空泵1包括泵本体11、及对泵本体11进行驱动控制的泵控制器12。真空泵1的泵控制器12经由通信线路40而与主控制器100连接。如后述那样,泵控制器12包括对真空泵1是否异常进行监视的泵监视部24,而对真空泵1的异常进行监视。本说明书的泵异常伴随由从工艺腔室2(图2)流入泵内的气体所形成的产物附着在泵转子等而产生。

图2是表示泵本体11的详细情况的剖面图。本实施方式的真空泵1是磁轴承式的涡轮分子泵,在泵本体11设置有旋转体R。旋转体R包括泵转子14、及紧固在转子14的转子轴15。

在泵转子14,在上游侧形成有多段旋转叶片14a,在下游侧形成有构成螺纹槽泵的圆筒部14b。对应于旋转叶片14a与圆筒部14b,在固定侧设置有多个固定叶片定子62、及圆筒状的螺杆定子64。有在螺杆定子64的内周面形成螺纹槽的形式、及在圆筒部14b的外周面形成螺纹槽的形式。各固定叶片定子62经由间隔圈(spacer ring)63而载置在底座60上。

转子轴15由设置在底座60的径向磁轴承17A、径向磁轴承17B与轴向磁轴承17C进行磁悬浮支撑,并由马达16进行旋转驱动。各磁轴承17A~磁轴承17C包括电磁铁与位移传感器,通过位移传感器来检测转子轴15的悬浮位置。转子轴15的转速通过转速传感器18来检测。在磁轴承17A~磁轴承17C不工作的情况下,转子轴15由紧急用机械轴承66a、机械轴承66b来支撑。

在底座60,通过螺栓来固定形成有吸气口61a的泵壳61。在底座60的排气口60a设置有排气端口65,所述排气端口65与前级泵(back pump)连接。若通过马达16来使紧固有泵转子14的转子轴15进行高速旋转,则吸气口61a侧的气体分子被朝排气端口65侧排气。

在底座60设置有加热器19、及冷却水等冷媒进行流动的冷媒配管20。冷媒配管20与未图示的冷媒供给配管连接,可通过设置在冷媒供给配管的电磁开关阀的开关控制,而调整朝冷媒配管20的冷媒流量。当对反应产物容易堆积的气体进行排气时,为了抑制朝螺纹槽泵部分或下游侧的旋转叶片14a的产物堆积,通过打开/关闭加热器19、及打开/关闭在冷媒配管20中流动的冷媒的流量,而以例如螺杆定子固定部附近的底座温度变成规定温度的方式进行温度调整。

图3(a)、图3(b)是表示设置在真空处理装置10的真空泵1的结构与主控制器100的结构的框图。如在图2中也表示那样,真空泵1的泵本体11包括马达16、磁轴承(MagneticBearing,MB)17及转速传感器18。泵控制器12包括马达控制部23、磁轴承控制部(MB控制部)22、泵监视部24、及存储部25。再者,在图3(a)中,将图2的径向磁轴承17A、径向磁轴承17B及轴向磁轴承17C一并记载为磁轴承17。

主控制器100包括主控制部110、显示部120、及存储部130。

马达控制部23基于由转速传感器18所检测到的旋转信号来推断转子轴15的转速,并基于经推断的转速来将马达16控制成规定目标转速。若气体流量变大,则对于泵转子14的负荷增加,因此马达16的转速下降。马达控制部23以由转速传感器18所检测到的转速与规定目标转速的差变成零的方式控制马达电流,由此维持规定目标转速(额定转速)。

磁轴承17包括轴承电磁铁、及用于检测转子轴15的悬浮位置的位移传感器。

如上所述,设置在泵控制器12的泵监视部24是对在安装在工艺腔室2的真空泵1是否产生了异常进行监视的装置。在第一实施方式中,特别将因反应产物的过剩的堆积而导致真空泵1无法正常地运转的状态定义成泵异常状态。而且,为了将所述泵异常状态防患于未然,在与产生泵异常状态的时间点相比具有足够的富余时间之前的时间点,预测泵异常产生。但是,此处将已预测到泵异常的时间点称为泵异常检测。

若参照图3(b),则泵监视部24包括:获取部24a,获取表示真空泵1的运转状态的物理量,例如马达电流值;设定部24b、设定部24c,设定马达电流值的实测波形及基准波形;比较部24d,对经设定的实测波形与基准波形进行比较;以及判定部24e,根据比较部24d中的比较结果,进行基于真空泵1的负荷的异常判定。这些功能如在图5~图7中详细说明那样,通过软件来实现。

真空泵1的泵控制器12与主控制器100通过通信线路40来进行信息的发送/接收。通信线路40例如通过串行通信来进行信息的发送/接收。

(监视方法的说明)

泵监视部24将表示泵转子14的旋转状态的信号用作用于检测真空泵1的异常的信息。在本实施方式中,对将真空泵1的马达电流值用作表示泵转子14的旋转状态的信号的情况进行说明。

在泵控制器12的马达控制部23中,基于转速传感器18的检测值来算出马达16的旋转速度,并以被检测的旋转速度变成目标旋转速度的方式进行反馈控制。在正进行一连串的工艺的状态下,马达控制部23进行将旋转速度维持成额定旋转速度的恒定运转控制。例如,当朝工艺腔室2内导入气体时,对于泵转子14的负荷增加。马达控制部23进行将马达旋转速度维持成额定旋转速度的控制,因此伴随气体负荷的增加,马达电流值上升。相反地,伴随气体负荷的减少,马达电流值减少。

由马达控制部23所获取的真空泵1的马达电流值被输入泵监视部24。泵监视部24计算马达电流值的波形与事先获取的基准波形之间的一致度。当一致度低时,泵监视部24判定泵异常,当一致度高时,泵监视部24判定泵正常。

图4是表示在真空处理装置10中连续地重复进行同一真空处理工艺,例如对多块基板连续地重复进行蚀刻工艺时的马达电流值的时间序列波形的一例的图。具体而言,表示在同一工艺中连续的对于第一块基板的工艺P1、对于第二块基板的工艺P2、对于第三块基板的工艺P3的马达电流值的时间序列波形。各波形的实线41是经实测的马达电流值的波形(以下,称为实测波形),虚线42是成为基准的马达电流值的波形(以下,称为基准波形)。

在图4中,对于第一块基板的工艺P1在时刻t1~时刻t2之间进行,对于第二块基板的工艺P2在时刻t2~时刻t3之间进行,对于第三块基板的工艺P3在时刻t3~时刻t4之间进行。如图4所示,工艺P1~工艺P3以等时间间隔(interval)来执行,实测波形41大致相同。

在时刻t1处,若使第一块基板已被搬入的工艺腔室2的压力朝向高真空来进行排气,则马达电流值急速上升,在时刻t1a处变成最大值,然后下降至时刻t1b为止。其后,从时刻t1b起导入工艺气体,马达电流值上升并在时刻t1c处变成最大值。从时刻t1c至时刻t1d为止,在固定的真空压力下进行工艺处理,因此变成固定的马达电流值。在时刻t1d处,对于第一块基板的工艺处理结束,停止工艺气体的导入,马达电流值急剧地下降,并下降至时刻t1e为止。其后,取得时刻t1f、时刻t1g的两个峰值,从时刻t1g的峰值起急剧地下降而到达时刻t2。在此期间内第一块基板被搬出,第二块基板被搬入。在从时刻t2开始的对于第二块基板的工艺P2、及从时刻t3开始的对于第三块基板的工艺P3中,也显示与工艺P1相同的马达电流值的变动。

在第一实施方式的泵监视部24中,在真空泵1被启动并到达额定转速后开始工艺处理。在从所述工艺处理开始起规定期间内,对针对多块基板连续地进行了同一真空处理工艺时的马达电流值进行实测。将在通过规定期间内的多次的工艺处理所获得的时间序列中变化的马达电流值的波形作为基准波形来存储。规定期间是在所述工艺中不产生由堆积物所造成的影响的具有足够的富余时间的期间。所述规定期间通过实验来决定、或根据经验来决定。

所谓基准波形,例如是指如以下(1)、(2)者。

(1)将对多个处理对象的各个实施了同一工艺(例如蚀刻工艺)时所获得的马达电流值的信号波形定义成单位波形。若利用图4进行说明,则时刻t1~时刻t2的工艺P1的区间的马达电流值的信号波形是单位波形。基准波形是进行工艺P1、工艺P2、工艺P3……工艺PN的规定期间内的N个单位波形集合而成的波形。规定期间如上所述,是不显现由堆积物所造成的影响的期间。

(2)在所述规定期间内所获得的N个基准波形为大致相同的图案。也可以基于N个单位波形,将具有一个平均的信号图案的波形设为基准波形。若利用图4进行说明,则例如也可以将时刻t1~时刻t2~时刻t3~时刻t4的三个区间各自的信号图案的平均值设为基准波形。

在以下的说明中,将所述(1)中所说明的基准波形作为与实测波形进行比较者来进行说明。

在与基准波形之间被计算图案的一致度的实测波形是在生成基准波形后的规定期间内所获得的马达电流值的重复图案。将实测波形与如所述(1)那样具有多个信号图案的基准波形进行比较。或者,将实测波形的多个单位波形的各个与如所述(2)那样作为一个信号图案的单位波形的基准波形进行比较。

第一实施方式的泵监视部24对实测波形41与基准波形42的形状进行比较,在可将两波形看作同一或类似的波形的情况下,判定泵无异常即正常。在无法将两波形看作同一或类似的波形的情况下,判定泵有异常。

图5是表示由泵控制器12所执行的泵运转控制顺序的流程图。所述顺序通过使已被存储在存储部25的程序伴随泵启动而启动来执行。

在步骤S51中,执行泵运转状态检测处理。在第一实施方式中,例如检测转子轴15的转速、在马达16中流动的马达电流值、施加至马达16的马达电压、防止产物的堆积的控制中所使用的底座温度等。转子轴15的转速由设置在泵本体11内的转速传感器18来检测。马达电流值由泵控制器12的马达控制部23来检测。马达电压在利用马达控制部23将马达转速控制成恒定转速时得到检测。底座温度由设置在底座60的温度传感器来检测。

在步骤S52中,使用步骤S51中所获得的转子转速、马达电流、马达电压、底座温度等,执行将马达16的转速、底座温度控制成适当值的泵控制处理。

在步骤S53中,执行监视泵异常状态的有无的泵监视处理。泵监视处理的详细情况在图6、图7中进行说明。

再者,在泵控制处理中,重复进行马达转速控制或定子温度控制等。每当在步骤S52的泵控制处理中结束一次各种控制时执行步骤S53的泵监视处理、或者在将各种控制重复多次后执行步骤S53的泵监视处理。因此,步骤S51~步骤S53被重复执行。

参照图6及图7,对图5的步骤S53的泵监视处理的详细情况进行说明。在步骤S1中,判定在泵转速到达额定转速后,是否已获取基准波形42。若被否定,则进入步骤S2。在步骤S2中,以规定时间间隔对马达电流值进行采样。在步骤S3中,判定是否经过了规定期间,在被肯定之前继续进行马达电流值的采样。被采样的马达电流值被存储在存储部25。

若步骤S3被肯定,则进入步骤S4,将已被存储在存储部25的马达电流值的时间序列数据作为基准波形42的数据来设定。由图4的虚线表示的波形42是以所述方式获取的马达电流值的基准波形42。

当在步骤S1中判定已获取基准波形时,进入步骤S5。

在继步骤S4之后的步骤S5中,以规定时间间隔对马达电流值进行采样。在步骤S6中,判定是否经过了规定期间,在被肯定之前继续进行马达电流值的采样。被采样的马达电流值被存储在存储部25。若步骤S6被肯定,则进入步骤S7,将已被存储在存储部25的马达电流值的时间序列数据作为实测波形41的数据来设定。由图4的实线表示的波形41是以所述方式获取的马达电流值的实测波形41。在继步骤S7之后的步骤S8中,执行泵异常判定处理。

图7是说明步骤S8的泵异常判定处理的流程图。所谓泵异常判定处理,是指使用已获取的基准波形42与实测波形41来检测泵异常状态的处理。

在步骤S11中,读出已被存储在存储部25的基准波形42的数据与实测波形41的数据。在步骤S12中,执行对基准波形42的数据与实测波形41的数据进行比较的处理。在步骤S13中,基于比较处理的比较结果,判定两波形的一致度。在同一或类似的情况下,判定两波形一致并在步骤S14中设置正常旗标。在并非同一或类似的情况下,判定两波形不一致并在步骤S15中设置异常旗标。在步骤S16中,判定异常旗标/正常旗标的有无,若有异常旗标,则进入步骤S17并输出泵异常。若有正常旗标,则跳过步骤S17而返回至规定的处理。

若将利用图5~图7中所示的程序处理所进行的泵异常状态的检测处理加以总结,则如下所示。

若使真空泵1启动的指令被输入泵控制器12,则泵控制器12以使转子轴15以恒定转速进行旋转的方式进行马达控制。即,泵控制器12获取转速传感器18的检测信号,并利用马达控制部23以使转子轴15以额定转速进行旋转的方式对马达16进行控制。在转子轴15的转速到达额定转速后,继续获取来自转速传感器18的转速信号,以使转子轴15以额定转速进行旋转的方式进行马达控制。

在转子轴15以额定转速进行旋转后,开始对于基板等处理对象的工艺处理。从工艺处理开始至经过规定期间为止,由堆积物所造成的对于马达控制的影响小。将在所述规定期间内已获取的马达电流的时间序列变化的波形作为基准波形42来存储。在获取基准波形后也继续将马达电流的时间序列变化的波形作为实测波形41来存储。对基准波形42与实测波形41进行比较来检测泵异常状态。波形比较是利用图案匹配法计算两波形的一致度来进行。例如,将一致度与规定的阈值进行比较,若比阈值高,则设为正常,若比阈值低,则设为异常。若一致度高,则设定无异常的正常旗标,若一致度低,则设定有异常的异常旗标。泵控制器12基于异常旗标而将泵异常状态输出至主控制器100。

在图4中,工艺P1~工艺P3的基准波形42与实测波形41均大致一致,表示真空泵正常。图8(a)、图8(b)表示工艺P11~工艺P13与工艺P21~工艺P23的与图4相同的马达电流的时间序列波形。

在图8(a)所示的电流值波形中,在工艺P11中遍及全部区间,实测波形41与基准波形42的差小。因此,工艺P11的波形的一致度变大,判定真空泵正常。工艺P12的时刻t12c~时刻t12d的区间的实测波形41与基准波形42的差大,工艺P12的波形的一致度小。在工艺P12中判定真空泵异常。推断其原因在于:因堆积物而导致泵负荷变大。

工艺P13的时刻t13c~时刻t13d的区间的实测波形41也与工艺P12的实测波形41相同,继续判定泵异常。

图8(a)的椭圆区域C1、椭圆区域C2、椭圆区域C3、椭圆区域C4是算出电流值波形图案的一致度时的实测波形与基准波形的差值计算区域。实际上,实测波形与基准波形是以规定时间间隔对在各工艺的各区域内所设定的规定时间范围内的电流值进行采样来获取。在差值计算区域内计算它们的差值。规定时间范围内的差值越大,对用于一致度计算的分数给予越小的值。基于在各区域内所计算的一致度计算分数的合计值,判定波形的一致度。分数的总和越大,一致度越高。

图案匹配计算并不限定于所述例子,也可以是其它各种方法。

在图8(b)所示的电流值波形中,工艺P21、工艺P22的实测波形41与基准波形42的差小,因此波形图案的一致度高,判定泵正常。但是,在工艺P23中,区域C4-1、区域C4-2中的波形大不相同,因此在所述时间范围内所计算的差值的和变大。因此,工艺P23的波形的一致度变小,判定真空泵异常。

若将以上所说明的第一实施方式的泵监视装置的动作加以总结,则如下所示。

(1)泵监视装置是对针对基板等处理对象实施各种工艺的工艺腔室2进行排气的真空泵1的监视装置,其包括:获取部24a,获取作为表示真空泵1的运转状态的物理量的马达电流值;比较部24d,对马达电流值的实测波形41与基准波形42进行比较;以及判定部24e,基于比较部24d中的比较结果,判定真空泵1的由负荷增大所引起的异常。

因此,与现有技术相比,可抑制错误地通知警告的机会,所述现有技术中测量对真空泵的转子进行旋转驱动的马达的电流值,在相对于马达电流初始值的测量值的变化量为规定值以上的情况下发出警告。

(2)泵监视装置的设定部24b获取使真空泵1启动并到达额定转速后的规定时间内的马达电流值的信号波形,并将其作为基准波形42来设定。

由于如此构成,因此若使真空泵1启动,换言之,若使工艺开始并经过规定期间,则设定基准波形41,因此可省略仅为了设定基准波形的无益的步骤。

-第二实施方式-

在第一实施方式中,设为针对一个工艺(例如蚀刻工艺),对基准波形与实测波形进行比较来监视泵的异常者。在第二实施方式中,针对两个以上的工艺,例如不同种类的两个蚀刻工艺分别获取基准波形,并在各工艺中对固有的基准波形与实测波形进行比较来监视泵异常。例如,在不同的两个蚀刻工艺中,工艺的一个区间中的马达电流值的波形不同,因此为了正确地进行图案匹配,必须在各工艺中变更基准波形。

图9是表示第二实施方式的图5的步骤S53的泵监视处理的详细情况的图。对与第一实施方式的图6相同的地方赋予相同的符号,主要对不同点进行说明。

在步骤S91中,对正在真空处理装置10中进行的工艺进行识别。其后,在步骤S92中,判定是否已获取经识别的工艺的基准波形。当未获取时,在步骤S2~步骤S4中,如上所述在规定期间内重复对马达电流值进行采样,并设定经识别的工艺的基准波形。其后,在步骤S5中进行马达电流值的采样,在步骤S93中,判定在规定期间内工艺是否已切换。

当在步骤S93中未判定工艺的切换时,在步骤S6中进行实测波形的存储保存,直至规定期间结束为止。其后,在步骤S7中设定实测波形,在步骤S8中进行泵异常判定。

当在步骤S93中判定在规定期间内工艺已切换时,跳过步骤S7的所述工艺的实测波形的设定、及步骤S8中的实测波形与基准波形的比较,而进行返回处理。

步骤S91的工艺的识别能够以如下方式进行。

例如在不同的两个蚀刻工艺中,工艺处理的一个单位处理时间不同。若利用图4进行说明,则单位处理时间是时刻t1~时刻t2的间隔时间。因此,可对马达电流值的一个图案的间隔时间进行监视,将间隔时间已改变时识别为工艺的切换。

或者,当从一个蚀刻工艺切换成另一个蚀刻工艺时,进行清洁处理。也可以对所述清洁处理进行识别来对已从一个蚀刻工艺切换成另一个蚀刻工艺进行识别,从而识别工艺切换。

或者,泵控制器12可先从真空处理装置10的主控制器100获得真空处理方案,并按照方案切换基准波形。

在第二实施方式的泵监视装置中,对在真空处理装置10中进行的多种工艺之中,当前正在处理的工艺进行识别,获取所述工艺的基准波形,并对基准波形与实测波形进行比较来算出波形的一致度。若一致度高,则判定正常(无异常),若一致度低,则判定有异常。

若将此种第二实施方式的泵监视装置加以总结,则如下所示。

(3)泵监视装置的设定部24b、设定部24c针对各工艺设定基准波形42与实测波形41,比较部24d将对应于工艺的基准波形42与实测波形41进行比较。换言之,将针对各工艺所选择的基准波形42与实测波形41进行比较。

由于如此构成,因此可将针对在真空处理装置10中进行的多种工艺分别适当地选择的基准波形与实测波形进行比较来判定泵异常。其结果,可高精度地判定真空泵1的由堆积物所引起的异常。

(变形例1)

如图4、图8(a)及图8(b)所示,在第一实施方式及第二实施方式中,针对同一工艺的一个步骤整个区域(例如图4的工艺P1的间隔区间)中的马达电流值的波形,进行基准波形42与实测波形41之间的图案匹配来判定泵异常。但是,例如也可以仅进行图8(a)的区域C3的时间范围内的基准波形与实测波形的图案匹配来进行异常判定。

即,在变形例1的泵监视装置中,着眼于在一个工艺处理中马达电流值等物理量变成最大的区域C3,比较部24b计算区域C3的实测波形41与基准波形42的各采样时刻的马达电流值的差值,并基于差值的和来判定一致度。

因此,与在同一工艺的一个步骤整个区域中进行图案匹配的情况相比,异常判定算法被简化,成本减少,并且也可以缩短判定时间。

(变形例2)

变形例2的泵监视装置针对实测波形41与基准波形42,算出变形例1的区域,即马达电流值变成最大的区域C3的时间范围内的电流值的平均值,若平均值彼此的差值为规定的阈值以上,则判定泵异常,若未满规定的阈值,则判定正常。即,变形例2的泵监视装置的比较部24d分别算出马达电流值变成最大的区域C3的实测波形41与基准波形42的马达电流值的平均值,并计算各个平均值的差值来进行波形比较。

当以最大电流值来驱动马达时,与以小的电流值驱动马达的情况相比,由堆积物所引起的负荷的增大率大,因此可高精度地监视泵异常。

(变形例3)

在变形例3的泵监视装置中,也可以使用图8(a)的区域C1~区域C4的任意两个以上的区域的电流值波形进行泵异常判定。

(变形例4)

也可以将变形例2的由泵监视装置进行的使用平均值的泵异常判定算法、与第一实施方式及第二实施方式中的使用图案匹配的泵异常判定算法组合来判定泵异常。

(变形例5)

也可以不利用马达电流值来判定泵异常,而利用马达转速、磁轴承控制的控制电流值等来进行泵异常判定。这些物理量可用作表示由堆积物所引起的泵负荷的指标。

(变形例6)

在第一实施方式及第二实施方式、变形例中,将真空泵1到达额定转速后的规定期间内的时间序列的马达电流值作为基准波形来设定。也可以在工艺开始前事先对各工艺设定基准波形,然后读出对应于工艺的基准波形。

以上,将工艺气体的杂质成分附着在转子等而引起的泵负荷的增大作为一例进行了说明。但是,不论泵负荷的异常的增大的原因是由堆积物引起,如本发明那样根据基准波形与实测波形的比较来监视伴随泵负荷增大的泵异常的装置也可以用于泵负荷因其它因素而增大的泵异常的监视。

以上对各种实施方式进行了说明,但本发明并不限定于这些内容。在本发明的技术思想的范围内可想到的其它形态也包含在本发明的范围内。另外,也可以将多个实施方式加以组合。

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