阅读说明：本技术 一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法 (sapphire wafer cleaning agent and preparation method thereof ) 是由 秦俊 于 2019-10-17 设计创作，主要内容包括：本发明属于宝石晶片加工技术领域,具体涉及一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法。所述蓝宝石晶片清洗剂包括以下质量份组分：二氧化硅35-48份、乙醚38-44份、壳聚糖8-15份、聚乙二醇7-11份、二硼化钛8-14份、甘油11-15份、炭黑6-7份、椰子油6-9份、茶树油1-3.5份、表面活性剂4-7份、去离子水150-180份。本发明制备得到的清洁剂可祛除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留等研磨、抛光过程中留下来的残留物,清洗后无任何可见杂物残留,且本发明的制备方法简单有效,对环境友好,适合工业化生产。(The invention belongs to the technical field of sapphire wafer processing, and particularly relates to sapphire wafer cleaning agents and a preparation method thereof.)

一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法

技术领域

本发明属于宝石晶片加工技术领域，具体涉及一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法。

背景技术

蓝宝石是一种具有良好透光性和导热性的单晶材料，同时由于其具有优异的耐温性( 熔点高达2200℃)和超高的硬度(莫氏硬度高达9.0，仅次于硬度为10的金刚石)，蓝宝石单晶常用于军工中导弹的制导窗口，精密仪表盘面，高档手表表面等。蓝宝石在生产加工过程中，需要经过研磨、抛光等工艺。在研磨过程中会用到钻石液等，抛光过程中会用到抛光液等，所以经外形加工及表面抛光后的蓝宝石触摸屏表面和凹槽内会残留重油污钻石液。

现有技术中的清洁剂存在对环境不友好，清洁力度不够等问题。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法，本发明制备得到的清洁剂可祛除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留等研磨、抛光过程中留下来的残留物，清洗后无任何可见杂物残留，且本发明的制备方法简单有效，对环境友好，适合工业化生产。

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅35-48份、***38-44份、壳聚糖8-15份、聚乙二醇7-11份、二硼化钛8-14份、甘油11-15份、炭黑6-7份、椰子油6-9份、茶树油1-3.5份、表面活性剂4-7份、去离子水150-180份。

优选地，所述蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅42份、***42份、壳聚糖13份、聚乙二醇8份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、椰子油7份、茶树油2.5份、表面活性剂6份、去离子水170份。

优选地，所述蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅44份、***40份、壳聚糖14份、聚乙二醇9份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、椰子油8份、茶树油2份、表面活性剂6份、去离子水160份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至30-50℃，搅拌10-20分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌30-50分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

优选地，所述第三步步骤如下：将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至45℃，搅拌15分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌40分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1. 本发明制备得到的清洁剂可祛除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留等研磨、抛光过程中留下来的残留物，清洗后无任何可见杂物残留；

2. 本发明的制备方法简单有效，对环境友好，适合工业化生产；

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步详细说明。但本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限定本发明的范围。实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件按照说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。

实施例1

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅35份、***38份、壳聚糖8份、聚乙二醇7份、二硼化钛8份、甘油11份、炭黑6份、椰子油6份、茶树油1份、表面活性剂4份、去离子水150份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至30℃，搅拌10分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌30分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

实施例2

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅48份、***44份、壳聚糖15份、聚乙二醇11份、二硼化钛14份、甘油15份、炭黑7份、椰子油9份、茶树油3.5份、表面活性剂7份、去离子水180份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至50℃，搅拌20分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌50分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

实施例3

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅42份、***42份、壳聚糖13份、聚乙二醇8份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、椰子油7份、茶树油2.5份、表面活性剂6份、去离子水170份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至40℃，搅拌18分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌35分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

实施例4

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅44份、***40份、壳聚糖14份、聚乙二醇9份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、椰子油8份、茶树油2份、表面活性剂6份、去离子水160份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至45℃，搅拌15分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌40分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

对比例1

同实施例4，不同之处在于未添加壳聚糖。

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅44份、***40份、聚乙二醇9份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、椰子油8份、茶树油2份、表面活性剂6份、去离子水160份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至45℃，搅拌15分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油、椰子油、茶树油和表面活性剂，继续搅拌40分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

对比例2

同实施例4，不同之处在于未添加椰子油、茶树油。

一种蓝宝石晶片清洗剂，包括以下质量份组分：二氧化硅44份、***40份、壳聚糖14份、聚乙二醇9份、二硼化钛12份、甘油13份、炭黑6份、表面活性剂6份、去离子水160份。

一种蓝宝石晶片清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

第一步，称取原料；

第二步，将二氧化硅、炭黑、壳聚糖和二硼化钛研磨处理，得到粒径≤50nm的纳米混合物；

第三步，将纳米混合物溶解于去离子水中并加热至45℃，搅拌15分钟后，再加入***、聚乙二醇、甘油和表面活性剂，继续搅拌40分钟，制得蓝宝石晶片清洗剂。

将实施例1-4和对比例1-2所得蓝宝石晶片清洗剂进行清洗测试，测试效果如下：在蓝宝石晶片清洗过程中，实施例1-4所得的蓝宝石晶片清洗液表面颗粒、金属离子和有机物残留的去除率达到了百分之99.99%；对比例1-2的蓝宝石晶片蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留的去除率达到了百分之90.00%。

以上所述，仅是本发明较佳的实施例而已，并非对本发明的技术范围作任何限制，故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何细微修改、等同变化和修饰，均属于本发明技术方案的范围内。