具体实施方式

在下面的描述中，出于解释的目的，阐述了许多特定细节，从而提供对本发明的各种实施例或实施方式的透彻理解。如在本文中所使用，“实施例”和“实施方式”是可互换的词，这些词是采用在本文中公开的发明构思中的一个或多个的装置或方法的非限制性示例。然而，明显的是，可以不利用这些特定细节或者利用一个或多个等效布置实践各种实施例。在其它情形中，以框图形式示出公知的结构和装置，从而避免不必要地混淆各种实施例。此外，各种实施例可以不同，但是不必是排它的。例如，在不脱离本发明构思的情况下，实施例的特定形状、配置和特性可以在另一实施例中被使用或实施。

除非另外指出，否则所说明的实施例将被理解为提供在实践中可以实施本发明构思的某些方式的变化细节的示例性特征。因此，除非另外指出，否则在不脱离本发明构思的情况下，各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中单独或统称为“元件”)可以另外组合、分离、互换和/或重新布置。

通常在附图中提供交叉影线和/或阴影阐明相邻元件之间的边界。如此，除非指出，否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或表明对元件的具体材料、材料性能、尺度、比例、所示元件之间的共通性和/或任意其它特性、属性、性能等的任意偏爱或要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当实施例可以不同地实施时，可以与所描述的顺序不同地执行特定工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行，或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。另外，相同的附图标记表示相同的元件。

当诸如层的元件被称为在另一元件“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件时，元件可以直接在另一元件上、直接连接到或耦接到另一元件，或者可以存在中间元件。然而，当元件被称为“直接在”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接耦接到”另一元件时，不存在中间元件。为此，术语“连接”可以指利用或者不利用中间元件的物理、电和/或流体连接。此外，X轴、Y轴和Z轴不限于诸如x轴、y轴和z轴的直角坐标系的三个轴，并且可以在更广意义上解释。例如，X轴、Y轴和Z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个(种)”和“选自由X、Y和Z组成的组中的至少一个(种)”可以解释为仅X，仅Y，仅Z，或X、Y和Z中的两个(种)或更多个(种)的任意组合，诸如，比如XYZ、XYY、YZ和ZZ。如在本文中所使用，术语“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任意组合和所有组合。

尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等描述各种类型的元件，但是这些元件不应受到这些术语限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因而，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。

诸如“在…之下”、“在…下”、“在…下方”、“下(部)”、“在…上”、“上(部)”、“在…上方”、“较高的”和“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语可以在本文中用于描述目的，并且由此描述如图中所示的一个元件与另一元件(另外多个元件)的关系。空间相对术语旨在涵盖除附图中描绘的定向以外的设备在使用、操作和/或制造中的不同定向。例如，如果附图中的设备翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下”或“之下”的元件将定向为“在”其它元件或特征“之上”。因而，示例性术语“在…下”可以涵盖“在…上”和“在…下”两种定向。此外，设备可以以其它方式定向(例如，旋转90度或处于其它定向)，并且如此，在本文中使用的空间相对术语可以被相应地解释。

在本文中使用的术语是用于描述具体实施例的目的，并且不旨在是限制的。除非上下文另外明确指出，否则如在本文中所使用的单数形式“一”、“一个(种)”和“所述(该)”也旨在包括复数形式。此外，当在本说明书中使用时，术语“包括(comprises、comprising)”和/或“包含(includes、including)”指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在，但是不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在或添加。还指出的是，如在本文中所使用，术语“基本上”、“大约”以及其它类似术语用作近似术语并且不是用作程度术语，并且如此用于说明本领域普通技术人员将认可的测量、计算和/或提供的值的固有偏差。

在本文中参考截面图和/或分解图描述各种实施例，截面图和/或分解图是理想化的实施例和/或中间结构的示意图。如此，例如由于制造技术和/或公差导致的偏离图的形状将被预期。因而，在本文中公开的实施例不必一定解释为限于区域的具体示出的形状，而是包括由比如制造引起的形状偏差。以这种方式，附图中示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，并且如此，不一定旨在是限制的。

作为本领域中的惯例，在附图中从功能块、单元和/或模块的角度描述和示出一些实施例。本领域技术人员将理解，这些块、单元和/或模块由诸如逻辑电路、分立组件、微处理器、硬连线电路、存储器元件和布线连接等的电子电路(或光路)物理地实施，电子电路(或光路)可以使用基于半导体的制作技术或其它制造技术形成。在由微处理器或其它类似硬件实施的块、单元和/或模块的情况下，它们可以使用软件(例如，微代码)编程和控制以执行在本文中讨论的各种功能，并且可以可选地由固件和/或软件驱动。还设想的是，每个块、单元和/或模块可以由专用硬件实施，或者实施为执行一些功能的专用硬件和执行其它功能的处理器(例如，一个或多个编程的微处理器和相关电路系统)的组合。另外，在不脱离本发明的范围的情况下，一些实施例的每个块、单元和/或模块可以在物理上分离为两个或更多个相互作用且分立的块、单元和/或模块。此外，在不脱离本发明的范围的情况下，一些实施例的块、单元和/或模块可以物理地组合成更复杂的块、单元和/或模块。

除非另外定义，否则在本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的相同含义。除非在本文中明确如此定义，否则诸如在常用词典中定义的术语的术语应解释为具有与在相关领域的上下文中它们的含义一致的含义，并且不应以理想化的或过于正式的意义解释。

图1是激光结晶设备的实施例的视图，以及图2是激光结晶设备的实施例的视图。

参考图1和图2，激光结晶设备10包括多个激光发生器100、多个衰减器200和光学模块300。

多个激光发生器100中的每一个可以产生第一激光束L1，并且将第一激光束L1供应到多个衰减器200中的对应衰减器。在实施例中，例如，激光发生器100可以包括激光振荡器和窗口。激光振荡器可以产生第一激光束L1，并且第一激光束L1可以穿过窗口以被供应到衰减器200。多个激光发生器100中的每一个可以产生具有相同能量大小或相同能量密度的第一激光束L1。

在实施例中，例如，从激光发生器100产生的第一激光束L1可以具有大约300纳米(nm)至大约550nm的波长，但是本发明不限于此。在实施例中，例如，从激光发生器100产生的第一激光束L1可以包括P偏振光和S偏振光。

多个衰减器200中的每一个可以调节由对应激光发生器100产生的第一激光束L1的能量强度以获得第二激光束L2，并且可以将第二激光束L2供应到光学模块300。多个衰减器200中的一些衰减器200可以衰减对应第一激光束L1的能量强度，并且多个衰减器200中的其它衰减器200可以保持对应第一激光束L1的能量强度。在实施例中，例如，一些衰减器200可以分别减小对应第一激光束L1的P偏振光和S偏振光，以输出第二激光束L2。其它衰减器200可以分别保持对应第一激光束L1的P偏振光和S偏振光，以输出第二激光束L2。

多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110、第二激光发生器120、第三激光发生器130、第四激光发生器140、第五激光发生器150和第六激光发生器160，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210、第二衰减器220、第三衰减器230、第四衰减器240、第五衰减器250和第六衰减器260。第一激光发生器110至第六激光发生器160可以分别与第一衰减器210至第六衰减器260对应，并且可以将第一激光束L1分别供应到第一衰减器210至第六衰减器260。第一衰减器210至第六衰减器260中的每一个可以衰减或保持第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2供应到光学模块300。本文中所称“衰减器”也可以称为“激光能量调节元件”，用于衰减或保持激光束的能量强度。

通过使从多个衰减器200输出的第二激光束L2重叠，光学模块300可以输出线束L3，并且光学模块300可以将线束L3供应到设置在基底20上的薄膜21。这里，在由激光结晶设备10执行激光结晶工艺时，其上设置有薄膜21的基底20可以设置(例如，安装)在载物台30上并且由载物台30支撑和固定。薄膜21可以是非晶硅层。在实施例中，可以通过低压化学气相沉积法、大气压化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积(“PECVD”)法、溅射法或真空蒸发法提供非晶硅层。例如，线束L3可以使基底20上的非晶硅结晶。

光学模块300可以包括至少一个反射镜(mirror)和至少一个分光镜(splitter)。反射镜可以反射第二激光束L2的全部。分光镜可以反射第二激光束L2的一部分并且透射第二激光束L2的其余部分(另一部分)。在实施例中，例如，分光镜可以反射第二激光束L2的P偏振光的一部分并透射第二激光束L2的P偏振光的其余部分(另一部分)，并且可以反射第二激光束L2的S偏振光的一部分并透射第二激光束L2的S偏振光的其余部分(另一部分)。

光学模块300还可以包括望远镜透镜340。望远镜透镜340可以放大穿过至少一个反射镜和至少一个分光镜的第二激光束L2。望远镜透镜340可以将第二激光束L2放大到预定强度，并且将第二激光束L2供应到均化器(homogenizer)350。

光学模块300可以包括第一反射镜311、第二反射镜312、第三反射镜313、第四反射镜314、第五反射镜315、第六反射镜316、第七反射镜317、第八反射镜318、第九反射镜319、第十反射镜320、第十一反射镜321和第十二反射镜322，第一分光镜331、第二分光镜332和第三分光镜333，望远镜透镜340，均化器350，以及第一圆柱形透镜360和第二圆柱形透镜370。望远镜透镜340可以包括第一望远镜透镜341、第二望远镜透镜342、第三望远镜透镜343、第四望远镜透镜344、第五望远镜透镜345和第六望远镜透镜346。

第一反射镜311可以反射从第一衰减器210输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第一分光镜331；并且第一分光镜331可以反射从第一反射镜311供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第三望远镜透镜343，并可以透射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第二反射镜312。第二反射镜312可以反射从第一分光镜331供应的第二激光束L2的另一部分，并且将第二激光束L2的另一部分供应到第四望远镜透镜344。

第三反射镜313可以反射从第二衰减器220输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第二分光镜332；并且第二分光镜332可以反射从第三反射镜313供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第二望远镜透镜342，并可以透射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第四反射镜314。第四反射镜314可以反射从第二分光镜332供应的第二激光束L2的另一部分，并且将第二激光束L2的另一部分供应到第五望远镜透镜345。

第五反射镜315可以反射从第三衰减器230输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第三分光镜333；并且第三分光镜333可以反射从第五反射镜315供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第一望远镜透镜341，并可以透射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第六反射镜316。第六反射镜316可以反射从第三分光镜333供应的第二激光束L2的另一部分，并且将第二激光束L2的另一部分供应到第六望远镜透镜346。

第七反射镜317可以反射从第四衰减器240输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第八反射镜318，并且第八反射镜318可以反射第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第三分光镜333。第三分光镜333可以透射从第八反射镜318供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第一望远镜透镜341，并且可以反射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第六反射镜316。第六反射镜316可以反射从第三分光镜333供应的第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第六望远镜透镜346。因此，第三分光镜333可以将第三衰减器230的第二激光束L2的一部分和第四衰减器240的第二激光束L2的一部分重叠，并且将第三衰减器230的第二激光束L2的一部分和第四衰减器240的第二激光束L2的一部分供应到第一望远镜透镜341。此外，第三分光镜333可以将第三衰减器230的第二激光束L2的另一部分和第四衰减器240的第二激光束L2的另一部分重叠，并且将第三衰减器230的第二激光束L2的另一部分和第四衰减器240的第二激光束L2的另一部分供应到第六望远镜透镜346。

第九反射镜319可以反射从第五衰减器250输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第十反射镜320，并且第十反射镜320可以反射第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第二分光镜332。第二分光镜332可以透射从第十反射镜320供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第二望远镜透镜342，并且可以反射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第四反射镜314。第四反射镜314可以反射从第二分光镜332供应的第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第五望远镜透镜345。因此，第二分光镜332可以将第二衰减器220的第二激光束L2的一部分和第五衰减器250的第二激光束L2的一部分重叠，并且将第二衰减器220的第二激光束L2的一部分和第五衰减器250的第二激光束L2的一部分供应到第二望远镜透镜342。此外，第二分光镜332可以将第二衰减器220的第二激光束L2的另一部分和第五衰减器250的第二激光束L2的另一部分重叠，并且将第二衰减器220的第二激光束L2的另一部分和第五衰减器250的第二激光束L2的另一部分供应到第五望远镜透镜345。

第十一反射镜321可以反射从第六衰减器260输出的第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第十二反射镜322，并且第十二反射镜322可以反射第二激光束L2并将第二激光束L2供应到第一分光镜331。第一分光镜331可以透射从第十二反射镜322供应的第二激光束L2的一部分并将第二激光束L2的一部分供应到第三望远镜透镜343，并且可以反射第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第二反射镜312。第二反射镜312可以反射从第一分光镜331供应的第二激光束L2的另一部分并将第二激光束L2的另一部分供应到第四望远镜透镜344。因此，第一分光镜331可以将第一衰减器210的第二激光束L2的一部分和第六衰减器260的第二激光束L2的一部分重叠，并且将第一衰减器210的第二激光束L2的一部分和第六衰减器260的第二激光束L2的一部分供应到第三望远镜透镜343。此外，第一分光镜331可以将第一衰减器210的第二激光束L2的另一部分和第六衰减器260的第二激光束L2的另一部分重叠，并且将第一衰减器210的第二激光束L2的另一部分和第六衰减器260的第二激光束L2的另一部分供应到第四望远镜透镜344。

因此，第一反射镜311至第十二反射镜322、第一分光镜331至第三分光镜333以及第一望远镜透镜341至第六望远镜透镜346可以使从第一衰减器210至第六衰减器260输出的多个第二激光束L2重叠，并且将多个第二激光束L2供应到均化器350。

均化器350可以均衡从第一望远镜透镜341至第六望远镜透镜346输出的多个第二激光束L2，以均匀地分布激光束的能量密度。

第一圆柱形透镜360可以调节从均化器350输出的第二激光束L2的强度和焦距并将第二激光束L2供应到第二圆柱形透镜370，并且第二圆柱形透镜370可以调节从第一圆柱形透镜360输出的第二激光束L2的强度和焦距并输出线束L3。从光学模块300输出的线束L3可以与线性激光束对应。

在下文中，光学模块300的配置不限于图2的图示。在必要时，可以改变光学模块300的设计，从而通过接收从多个衰减器200输出的第二激光束L2产生预定线束L3。

图3是示出激光结晶设备的激光发生器和衰减器的实施例的视图。

参考图3，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110至第六激光发生器160，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210至第六衰减器260。第一激光发生器110至第六激光发生器160可以分别与第一衰减器210至第六衰减器260对应，并且可以将第一激光束L1分别供应到第一衰减器210至第六衰减器260。第一衰减器210至第六衰减器260中的每一个可以衰减或保持第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2供应到光学模块300(参考图1和图2)。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300。第一衰减器210可以衰减第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2a。第二激光束L2a的能量强度可以小于第一激光束L1的能量强度。

第一衰减器210可以包括第一衰减单元211和第二衰减单元213。第一衰减单元211和第二衰减单元213可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元211可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元211可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。可以取决于第一激光束L1的入射角控制第一衰减单元211的透射率和反射率。第一衰减单元211的一个表面相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜，由此控制第一激光束L1的透射量。在实施例中，例如，当第一激光束L1的入射角小的时候透射第一衰减单元211的第一激光束L1的能量强度可以大于当第一激光束L1的入射角大的时候透射第一衰减单元211的第一激光束L1的能量强度。可以将第一衰减单元211的输出供应到第二衰减单元213。

第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元213可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元211相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元211的倾斜的变化改变第二衰减单元213的倾斜。在实施例中，例如，入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的入射角可以与入射在第二衰减单元213上的第一衰减单元211的输出的入射角对应。因此，第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元213输出的第二激光束L2a可以保持入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的行进方向。

第二衰减器220可以保持第二激光发生器120的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300。第二衰减器220可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2b。

第二衰减器220可以包括第一板221和第二板223。第一板221和第二板223可以沿着第一激光束L1的行进方向平行地布置，并且可以使第一激光束L1原样地通过。第一板221和第二板223中的每一个可以与第一激光束L1的路径间隔开预定距离。第一激光束L1可以不穿过第一板221和第二板223，并且可以保持现有的能量强度。因此，作为第二衰减器220的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与作为第二衰减器220的输入的第一激光束L1的能量强度基本上相同。

第三衰减器230可以包括第一板231和第二板233，第四衰减器240可以包括第一板241和第二板243，并且第五衰减器250可以包括第一板251和第二板253。第三衰减器230、第四衰减器240和第五衰减器250与第二衰减器220的不同仅仅在于对应的激光发生器100，并且可以具有与第二衰减器220相同的配置。因此，第三衰减器230、第四衰减器240和第五衰减器250中的每一个保持第三激光发生器130、第四激光发生器140和第五激光发生器150中的每一个的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300。作为第三衰减器230、第四衰减器240和第五衰减器250中的每一个的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与第一激光束L1的能量强度基本上相同。

第六衰减器260可以包括第一衰减单元261和第二衰减单元263。第一衰减器210和第六衰减器260彼此的不同仅仅在于对应的激光发生器100，并且可以具有彼此相同的配置。因此，第六衰减器260的第一衰减单元261和第二衰减单元263可以减小第六激光发生器160的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300。

在实施例中，例如，当从衰减器200的最外部输出第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个的第二激光束L2a时，第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个可以衰减对应第一激光束L1的能量强度。此外，当从除了衰减器200的最外部之外的区输出第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个的第二激光束L2b时，第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个可以输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a，并且第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

图4是示出激光结晶设备中的第一衰减器的实施例的视图。

参考图4，第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300(参考图1和图2)。第二激光束L2a的能量强度可以小于第一激光束L1的能量强度。

第一衰减器210可以包括第一衰减单元211、第一基体单元212、第二衰减单元213、第二基体单元214和控制单元290。第一衰减单元211和第二衰减单元213可以沿着第一激光束L1的行进方向DR1布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。

第一衰减单元211可以相对于第一激光束L1的行进方向DR1以预定角度θ倾斜。第一衰减单元211可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。可以取决于第一激光束L1的入射角控制第一衰减单元211的透射率和反射率。第一衰减单元211的一个表面相对于第一激光束L1的行进方向DR1以预定角度θ倾斜，由此控制第一激光束L1的透射量。在实施例中，例如，当第一激光束L1的入射角小时透射第一衰减单元211的第一激光束L1的能量强度可以大于当第一激光束L1的入射角大时透射第一衰减单元211的第一激光束L1的能量强度。可以将第一衰减单元211的输出供应到第二衰减单元213。

第一基体单元212可以支撑第一衰减单元211并且可以通过控制单元290在第一旋转方向或第二旋转方向上旋转。在实施例中，例如，第一旋转方向可以与顺时针方向对应，并且第二旋转方向可以与逆时针方向对应，但是本发明不限于此。因此，第一基体单元212可以确定第一衰减单元211相对于第一激光束L1的行进方向DR1的倾斜。

第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元213可以相对于第一激光束L1的行进方向DR1在与第一衰减单元211相反的方向上以预定角度θ倾斜。因此，第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元213输出的第二激光束L2a可以保持入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的行进方向DR1。

第二基体单元214可以支撑第二衰减单元213，并且可以通过控制单元290在第一旋转方向或第二旋转方向上旋转。因此，第二基体单元214可以确定第二衰减单元213相对于从第一衰减单元211输出的激光束的行进方向DR1的倾斜。可以响应于第一衰减单元211的倾斜的变化改变第二衰减单元213的倾斜。在实施例中，例如，入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的入射角可以与入射在第二衰减单元213上的第一衰减单元211的输出的入射角对应。

控制单元290可以连接到第一基体单元212和第二基体单元214中的每一个，以在第一旋转方向或第二旋转方向上旋转第一基体单元212和第二基体单元214。在实施例中，例如，控制单元290可以通过旋转第一基体单元212减小第一激光束L1到第一衰减单元211的入射角，并且可以减小能量强度的衰减量。在另一实施例中，例如，控制单元290可以通过旋转第一基体单元212增加第一激光束L1到第一衰减单元211的入射角，并且可以增加能量强度的衰减量。因此，控制单元290可以在多个操作中调节第一基体单元212和第二基体单元214的倾斜，并且可以选择从光学模块300输出的线束L3(参考图1和图2)的最佳能量部分。

参考图3以及图4，第六衰减器260可以具有与第一衰减器210相同的配置。因此，用第一衰减器210的描述代替第六衰减器260的描述。

图5是示出激光结晶设备中的第二衰减器的实施例的视图。

参考图5，第二衰减器220可以保持第二激光发生器120的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300(参考图1和图2)。

第二衰减器220可以包括第一板221、第一基体单元222、第二板223和第二基体单元224。第一板221和第二板223可以沿着第一激光束L1的行进方向DR1平行地布置，并且可以使第一激光束L1原样地通过。第一板221和第二板223中的每一个可以与第一激光束L1的路径间隔开预定距离d。第一激光束L1可以不穿过第一板221和第二板223，并且可以保持现有的能量强度。因此，作为第二衰减器220的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与作为第二衰减器220的输入的第一激光束L1的能量强度基本上相同。

第二衰减器220的第一基体单元222可以支撑第一板221，并且第二衰减器220的第二基体单元224可以支撑第二板223。第二衰减器220的第一基体单元222可以固定第一板221，使得第一板221与第一激光束L1间隔开，并且第二衰减器220的第二基体单元224可以固定第二板223，使得第二板223与第一激光束L1间隔开。

图6是示出激光结晶设备的输出的实施例的视图。这里，图6的激光结晶设备10(参考图1)可以包括图3到图5中示出的第一衰减器210至第六衰减器260。

参考图6，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110至第六激光发生器160，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210至第六衰减器260。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，并且第六衰减器260可以衰减第六激光发生器160的第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个可输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a。

第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

通过使从多个衰减器200输出的第二激光束L2重叠，光学模块300可以输出线束L3。通过使从第一衰减器210和第六衰减器260入射的多个第二激光束L2a以及从第二衰减器220至第五衰减器250入射的多个第二激光束L2b重叠，光学模块300可以产生线束L3。这里，在从第二衰减器220至第五衰减器250入射的多个第二激光束L2b中，可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度。因此，激光结晶设备10可以使从多个衰减器200输出的第二激光束L2的P偏振光和S偏振光的不对称反射最小化。

激光结晶设备10包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和第六衰减器260以及保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220至第五衰减器250。通过使与第二激光束L2a对应的第三激光束L3a和与第二激光束L2b对应的第三激光束L3b重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。由于第二激光束L2b的能量强度大于第二激光束L2a的能量强度，所以第三激光束L3b在线束L3的能量强度中的比率可以大于第三激光束L3a在线束L3的能量强度中的比率。因此，可以相对减小线束L3的长轴角分布，并且可以改善激光结晶设备10的结晶裕度和结晶均匀性。在实施例中，例如，包括第一衰减器210至第六衰减器260的激光结晶设备10的线束L3的长轴角分布可以为大约51mrad(毫弧度)，但不限于此。

结果，激光结晶设备10可以形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒，并且包括多晶硅的薄膜晶体管具有均匀特性，由此改善显示装置的图像质量。

图7是示出激光结晶设备的输出的另一实施例的视图。这里，图7的激光结晶设备10(参考图1)可以包括与图6中示出的第一衰减器210至第六衰减器260不同的多个第七衰减器270。

参考图7，激光结晶设备10可以包括第一激光发生器110至第六激光发生器160和六个第七衰减器270。

第七衰减器270中的每一个可以包括第一衰减单元271和第二衰减单元273。第一衰减单元271和第二衰减单元273可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元271可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元271可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。第一衰减单元271的一个表面可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜，由此控制第一激光束L1的透射量。

第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元273可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元271相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元271的倾斜的变化改变第二衰减单元273的倾斜。因此，第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元273输出的第二激光束L2c可以保持入射在第一衰减单元271上的第一激光束L1的行进方向。

通过使从第七衰减器270入射的第二激光束L2c重叠，光学模块300可以产生线束L3。通过使第三激光束L3c重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。这里，第七衰减器270可以减少对应第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个。在实施例中，例如，包括六个第七衰减器270的激光结晶设备10的线束L3的长轴角分布可以为大约62mrad，但不限于此。

参考图6以及图7，图7的激光结晶设备10可以包括六个第七衰减器270，并且图6的激光结晶设备10可以包括第一衰减器210至第六衰减器260。在这种情况下，图6的激光结晶设备10的线束L3的长轴角分布可以为大约51mrad，并且图7的激光结晶设备10的长轴角分布可以为大约62mrad。因此，图6的激光结晶设备10可以包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和第六衰减器260以及保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220至第五衰减器250，由此相对减小线束L3的长轴角分布。此激光结晶设备10可以通过改善结晶裕度和结晶均匀性形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒。

图8是示出激光结晶设备中结晶裕度关于长轴角分布的实施例的图，并且图9是示出激光结晶设备中结晶均匀性关于长轴角分布的实施例的图。

参考图8和图9，激光结晶设备10的结晶裕度可以由线束L3的长轴角分布确定。在实施例中，例如，当线束L3的长轴角分布为大约62mrad时，激光结晶设备10的结晶裕度可以为大约0毫焦耳(mJ)。当线束L3的长轴角分布为大约51mrad时，激光结晶设备10的结晶裕度可以为大约5mJ。当线束L3的长轴角分布为大约40mrad时，激光结晶设备10的结晶裕度可以为大约7mJ。因此，随着线束L3的长轴角分布减小，激光结晶设备10的结晶裕度可以增加。

参考图6和图7以及图8和图9，由于图6的激光结晶设备10的长轴角分布低于图7的激光结晶设备10的长轴角分布，所以图6的激光结晶设备10的结晶裕度可以高于图7的激光结晶设备10的结晶裕度。因此，与图7的激光结晶设备10的结晶均匀性相比，可以改善图6的激光结晶设备10的结晶均匀性。

图10是解释根据激光结晶设备的输出的长轴角分布的实施例的视图，并且图11是示出根据激光结晶设备的输出的束发散的实施例的视图。

参考图10和图11，包括第一衰减器210至第六衰减器260(参考图2、图3和图6)的激光结晶设备10(参考图1)可以输出线束L3以使设置在基底20上的非晶硅层结晶。

通过使与第二激光束L2a对应的第三激光束L3a(参考图6)和与第二激光束L2b对应的第三激光束L3b(参考图6)重叠，可以提供从光学模块300(参考图2和图6)输出的线束L3。由于第二激光束L2b的能量强度大于第二激光束L2a的能量强度，所以第三激光束L3b在线束L3的能量强度中的比率可以大于第三激光束L3a在线束L3的能量强度中的比率。这里，线束L3的长轴角分布可以与入射在基底20上的包括第一点P1和第二点P2的多个点上的线束L3的入射角α_左和α_右的分布对应。激光结晶设备10可以通过减小线束L3的长轴角分布改善结晶裕度和结晶均匀性。

通过减小线束L3的长轴角分布，激光结晶设备10可以使线束L3的束发散最小化。参考图6和图7以及图11，由于图6的激光结晶设备10的长轴角分布低于图7的激光结晶设备10的长轴角分布，所以图6的激光结晶设备10的束发散可以低于图7的激光结晶设备10的束发散。通过使长轴角分布最小化，图6的激光结晶设备10可以使发散束和基底20之间的误差GE最小化。

图12是示出激光结晶设备的激光发生器和衰减器的另一实施例的视图。

参考图12，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110至第四激光发生器140，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210至第四衰减器240。第一激光发生器110至第四激光发生器140可以分别与第一衰减器210至第四衰减器240对应，并且可以将第一激光束L1分别供应到第一衰减器210至第四衰减器240。第一衰减器210至第四衰减器240中的每一个可以衰减或保持第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2供应到光学模块300(参考图1和图2)。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300。第一衰减器210可以衰减第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2a。第二激光束L2a的能量强度可以小于第一激光束L1的能量强度。

第一衰减器210可以包括第一衰减单元211和第二衰减单元213。第一衰减单元211和第二衰减单元213可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元211可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元211可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。可以取决于第一激光束L1的入射角控制第一衰减单元211的透射率和反射率。可以将第一衰减单元211的输出供应到第二衰减单元213。

第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元213可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元211相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元211的倾斜的变化改变第二衰减单元213的倾斜。因此，第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元213输出的第二激光束L2a可以保持入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的行进方向。

第二衰减器220可以保持第二激光发生器120的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300。第二衰减器220可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2b。

第二衰减器220可以包括第一板221和第二板223。第一板221和第二板223可以沿着第一激光束L1的行进方向平行地布置，并且可以使第一激光束L1原样地通过。第一板221和第二板223中的每一个可以与第一激光束L1的路径间隔开预定距离。第一激光束L1可以不穿过第一板221和第二板223，并且可以保持现有的能量强度。因此，作为第二衰减器220的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与作为第二衰减器220的输入的第一激光束L1的能量强度基本上相同。

第三衰减器230可以包括第一板231和第二板233。第三衰减器230与第二衰减器220的不同仅仅在于对应的激光发生器100，并且可以具有与第二衰减器220相同的配置。因此，第三衰减器230保持第三激光发生器130的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300。作为第三衰减器230的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与第一激光束L1的能量强度基本上相同。

第四衰减器240可以包括第一衰减单元241'和第二衰减单元243'。第一衰减器210和第四衰减器240彼此的不同仅仅在于对应的激光发生器100，并且可以具有彼此相同的配置。因此，第四衰减器240的第一衰减单元241'和第二衰减单元243'可以减小第四激光发生器140的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300。第二激光束L2a的能量强度可以小于第一激光束L1的能量强度。

在实施例中，例如，当从衰减器200的最外部输出第一衰减器210和第四衰减器240中的每一个的第二激光束L2a时，第一衰减器210和第四衰减器240中的每一个可以衰减对应第一激光束L1的能量强度。此外，当从除了衰减器200的最外部之外的区输出第二衰减器220和第三衰减器230中的每一个的第二激光束L2b时，第二衰减器220和第三衰减器230中的每一个可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210和第四衰减器240中的每一个可以输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a，并且第二衰减器220和第三衰减器230中的每一个可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

图13是示出激光结晶设备的输出的另一实施例的视图。

参考图13，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110至第四激光发生器140，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210至第四衰减器240。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，并且第四衰减器240可以衰减第四激光发生器140的第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210和第四衰减器240中的每一个可输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a。

第二衰减器220和第三衰减器230中的每一个可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第二衰减器220和第三衰减器230中的每一个可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

通过使从多个衰减器200输出的第二激光束L2重叠，光学模块300可以输出线束L3。通过使从第一衰减器210和第四衰减器240入射的多个第二激光束L2a以及从第二衰减器220和第三衰减器230入射的多个第二激光束L2b重叠，光学模块300可以产生线束L3。这里，在从第二衰减器220和第三衰减器230入射的多个第二激光束L2b中，可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度。因此，激光结晶设备10可以使从多个衰减器200输出的第二激光束L2的P偏振光和S偏振光的不对称反射最小化。

激光结晶设备10包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和第四衰减器240以及保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220和第三衰减器230。通过使与第二激光束L2a对应的第三激光束L3a和与第二激光束L2b对应的第三激光束L3b重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。由于第二激光束L2b的能量强度大于第二激光束L2a的能量强度，所以第三激光束L3b在线束L3的能量强度中的比率可以大于第三激光束L3a在线束L3的能量强度中的比率。因此，可以相对减小线束L3的长轴角分布，并且可以改善激光结晶设备10的结晶裕度和结晶均匀性。

结果，激光结晶设备10可以形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒，并且包括多晶硅的薄膜晶体管具有均匀特性，由此改善显示装置的图像质量。

图14是示出激光结晶设备的输出的另一实施例的视图。这里，图14的激光结晶设备10(参考图1)可以包括与图13中示出的第一衰减器210至第四衰减器240不同的多个第七衰减器270。

参考图14，激光结晶设备10可以包括第一激光发生器110至第四激光发生器140以及四个第七衰减器270。

第七衰减器270中的每一个可以包括第一衰减单元271和第二衰减单元273。第一衰减单元271和第二衰减单元273可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元271可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元271可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。第一衰减单元271的一个表面可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜，由此控制第一激光束L1的透射量。

第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元273可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元271相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元271的倾斜的变化改变第二衰减单元273的倾斜。因此，第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元273输出的第二激光束L2c可以保持入射在第一衰减单元271上的第一激光束L1的行进方向。

通过使从四个第七衰减器270入射的第二激光束L2c重叠，光学模块300可以产生线束L3。通过使第三激光束L3c重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。这里，第七衰减器270可以减小对应第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个。

参考13以及图14，图14的激光结晶设备10可以包括四个第七衰减器270，并且图13的激光结晶设备10可以包括第一衰减器210至第四衰减器240。在这种情况下，图13的激光结晶设备10的线束L3的长轴角分布LAAD1可以小于图14的激光结晶设备10的长轴角分布LAAD2。因此，图13的激光结晶设备10可以包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和第四衰减器240以及保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220和第三衰减器230，由此相对减小线束L3的长轴角分布LAAD1。此激光结晶设备10可以通过改善结晶裕度和结晶均匀性形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒。

图15是示出激光结晶设备的激光发生器和衰减器的另一实施例的视图。

参考图15，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110和第二激光发生器120，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210和第二衰减器220。第一激光发生器110和第二激光发生器120可以分别与第一衰减器210和第二衰减器220对应，并且可以将第一激光束L1分别供应到第一衰减器210和第二衰减器220。第一衰减器210和第二衰减器220中的每一个可以衰减或保持第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2供应到光学模块300(参考图1和图2)。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2a供应到光学模块300。第一衰减器210可以衰减第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2a。第二激光束L2a的能量强度可以小于第一激光束L1的能量强度。

第一衰减器210可以包括第一衰减单元211和第二衰减单元213。第一衰减单元211和第二衰减单元213可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元211可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元211可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。可以取决于第一激光束L1的入射角控制第一衰减单元211的透射率和反射率。可以将第一衰减单元211的输出供应到第二衰减单元213。

第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元213可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元211相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元211的倾斜的变化改变第二衰减单元213的倾斜。因此，第二衰减单元213可以对于从第一衰减单元211输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元213输出的第二激光束L2a可以保持入射在第一衰减单元211上的第一激光束L1的行进方向。

第二衰减器220可以保持第二激光发生器120的第一激光束L1的能量强度，以将第二激光束L2b供应到光学模块300。第二衰减器220可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度以输出第二激光束L2b。

第二衰减器220可以包括第一板221和第二板223。第一板221和第二板223可以沿着第一激光束L1的行进方向平行地布置，并且可以使第一激光束L1原样地通过。第一板221和第二板223中的每一个可以与第一激光束L1的路径间隔开预定距离。第一激光束L1可以不穿过第一板221和第二板223，并且可以保持现有的能量强度。因此，作为第二衰减器220的输出的第二激光束L2b的能量强度可以与作为第二衰减器220的输入的第一激光束L1的能量强度基本上相同。

在实施例中，例如，第一衰减器210可以衰减对应第一激光束L1的能量强度，并且第二衰减器220可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210可以输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a，并且第二衰减器220可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

图16是示出激光结晶设备的输出的另一实施例的视图。

参考图16，多个激光发生器100可以包括第一激光发生器110和第二激光发生器120，并且多个衰减器200可以包括第一衰减器210和第二衰减器220。

第一衰减器210可以衰减第一激光发生器110的第一激光束L1的能量强度。因此，第一衰减器210可以输出具有减小的能量强度的第二激光束L2a。

第二衰减器220可以保持对应第一激光束L1的能量强度。因此，第二衰减器220可以输出具有保持的能量强度的第二激光束L2b。

通过使从多个衰减器200输出的第二激光束L2重叠，光学模块300可以输出线束L3。通过使从第一衰减器210入射的第二激光束L2a和从第二衰减器220入射的第二激光束L2b重叠，光学模块300可以产生线束L3。这里，在从第二衰减器220入射的第二激光束L2b中，可以保持第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个的能量强度。因此，激光结晶设备10可以使从多个衰减器200输出的第二激光束L2的P偏振光和S偏振光的不对称反射最小化。

激光结晶设备10包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220。通过使与第二激光束L2a对应的第三激光束L3a和与第二激光束L2b对应的第三激光束L3b重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。由于第二激光束L2b的能量强度大于第二激光束L2a的能量强度，所以第三激光束L3b在线束L3的能量强度中的比率可以大于第三激光束L3a在线束L3的能量强度中的比率。因此，可以相对减小线束L3的长轴角分布LAAD3，并且可以改善激光结晶设备10的结晶裕度和结晶均匀性。

结果，激光结晶设备10可以形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒，并且包括多晶硅的薄膜晶体管具有均匀特性，由此改善显示装置的图像质量。

图17是示出激光结晶设备的输出的另一实施例的视图。这里，图17的激光结晶设备10(参考图1)可以包括与图16中示出的第一衰减器210和第二衰减器220不同的多个第七衰减器270。

参考图17，激光结晶设备10可以包括第一激光发生器110和第二激光发生器120以及两个第七衰减器270。

第七衰减器270中的每一个可以包括第一衰减单元271和第二衰减单元273。第一衰减单元271和第二衰减单元273可以沿着第一激光束L1的行进方向布置，并且可以透射和反射第一激光束L1。第一衰减单元271可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜。第一衰减单元271可以透射第一激光束L1的一部分并且反射第一激光束L1的另一部分。第一衰减单元271的一个表面可以相对于第一激光束L1的行进方向以预定角度倾斜，由此控制第一激光束L1的透射量。

第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿。第二衰减单元273可以相对于第一激光束L1的行进方向在与第一衰减单元271相反的方向上以预定角度倾斜。可以响应于第一衰减单元271的倾斜的变化改变第二衰减单元273的倾斜。因此，第二衰减单元273可以对于从第一衰减单元271输出的激光束的路径进行补偿，使得从第二衰减单元273输出的第二激光束L2c可以保持入射在第一衰减单元271上的第一激光束L1的行进方向。

通过使从两个第七衰减器270入射的第二激光束L2c重叠，光学模块300可以产生线束L3。通过使第三激光束L3c重叠，可以提供从光学模块300输出的线束L3。这里，第七衰减器270可以减小对应第一激光束L1的P偏振光和S偏振光中的每一个。

参考图16以及图17，图17的激光结晶设备10可以包括两个第七衰减器270，并且图16的激光结晶设备10可以包括第一衰减器210和第二衰减器220。在这种情况下，图16的激光结晶设备10的线束L3的长轴角分布LAAD3可以小于图17的激光结晶设备10的长轴角分布LAAD4。因此，图16的激光结晶设备10可以包括衰减第一激光束L1的能量强度的第一衰减器210和保持第一激光束L1的能量强度的第二衰减器220，由此相对减小线束L3的长轴角分布LAAD3。此激光结晶设备10可以通过改善结晶裕度和结晶均匀性形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒。

图18是示出激光结晶设备的激光结晶工艺的实施例的流程图。

参考图1至图4和图18，激光结晶设备10可以初始监测线束L3的能量(操作S110)。在实施例中，例如，激光结晶设备10可以根据多个操作顺序地调节线束L3的能量强度。

多个衰减器200中的一些衰减器200可以衰减对应第一激光束L1的能量强度，并且多个衰减器200中的其它衰减器200可以保持对应第一激光束L1的能量强度。在实施例中，例如，对于每个操作，当从衰减器200的最外部输出第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个的第二激光束L2a时，第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个可以衰减对应第一激光束L1的能量强度。此外，当在除了衰减器200的最外部之外的区中输出第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个的第二激光束L2b时，第二衰减器220至第五衰减器250中的每一个可以保持对应第一激光束L1的能量强度(操作S120)。第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个可以通过控制单元290调节第一衰减单元211和261以及第二衰减单元213和263的倾斜，由此调节线束L3的能量强度。

激光结晶设备10可以根据多个操作通过基底检查选择线束L3的最佳能量部分(操作S130)。激光结晶设备10可以确定与最佳能量部分对应的多个衰减器200的设置。

激光结晶设备10可以基于所选择的衰减器200的设置对基底20上的非晶硅进行结晶检查(操作S140)。

激光结晶设备10可以通过调节第一衰减器210和第六衰减器260中的每一个的设置进一步校正线束L3的能量强度(操作S150)。

根据实施例的激光结晶设备，可以提供衰减激光束的能量强度的一些衰减器(激光能量调节元件)和保持激光束的能量强度的其它衰减器(激光能量调节元件)，由此相对减小线束的长轴角分布。因此，激光结晶设备可以改善结晶裕度和结晶均匀性，并且可以形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒。结果，激光结晶设备可以形成具有均匀尺寸的多晶硅晶体颗粒，并且包括多晶硅的薄膜晶体管可以具有均匀特性，由此改善显示装置的图像质量。

尽管出于说明性目的已经公开本发明的优选实施例，但是本领域技术人员将理解，各种修改、添加和替换是可能的。