一种陶瓷基板的金属镀膜方法

文档序号:1915817 发布日期:2021-12-03 浏览:26次 >En<

阅读说明:本技术 一种陶瓷基板的金属镀膜方法 (Metal coating method of ceramic substrate ) 是由 张官星 张龙 李俊 徐林 于 2021-09-06 设计创作,主要内容包括:本发明公开了陶瓷基板镀膜工艺技术领域内的一种陶瓷基板的金属镀膜方法。该方法包括以下步骤:S1:清洗待加工的陶瓷基板的正面和背面;S2:在陶瓷基板的背面蒸镀背面金属膜;S3:在陶瓷基板的正面使用光刻胶制作图形;S4:在陶瓷基板的正面蒸镀正面金属膜;S5:剥离光刻胶,完成陶瓷基板的镀膜操作。该方法减去了对陶瓷基板的二次清洗,从而避免酸洗对已镀金属膜粘附性的影响,保障产品质量。(The invention discloses a metal coating method of a ceramic substrate in the technical field of ceramic substrate coating processes. The method comprises the following steps: s1, cleaning the front and back of the ceramic substrate to be processed; s2, evaporating a back metal film on the back of the ceramic substrate; s3, making a pattern on the front surface of the ceramic substrate by using photoresist; s4, evaporating a front metal film on the front surface of the ceramic substrate; and S5, stripping the photoresist to finish the film coating operation of the ceramic substrate. The method eliminates the secondary cleaning of the ceramic substrate, thereby avoiding the influence of acid cleaning on the adhesion of the plated metal film and ensuring the product quality.)

一种陶瓷基板的金属镀膜方法

技术领域

本发明涉及陶瓷基板镀膜工艺技术领域,特别涉及一种陶瓷基板的金属镀膜方法。

背景技术

半导体制造过程中,陶瓷基板正背两面都需要依次进行金属镀膜,镀膜前需确保陶瓷基本表面清洁。目前镀膜顺序均为先对陶瓷基板正面进行金属镀膜,再对陶瓷基板背面进行金属镀膜。

由于在对陶瓷基板正面进行金属镀膜前需要使用光刻胶制作图形,而光刻胶会对陶瓷基板背面造成有机污染,因此在对背面镀膜前需要对陶瓷基板背面进行酸洗。现有技术中,在陶瓷基板正面金属镀膜完成后再酸洗陶瓷基板背面时,因陶瓷基板材料本身具有一定透气性,酸洗过程中会因为酸迹的钻蚀,而影响到正面金属的粘附性,从而影响产品质量。

发明内容

本申请通过提供一种陶瓷基板的金属镀膜方法,解决了现有技术中陶瓷基板金属膜粘附性不高的问题,提高了陶瓷基板金属膜的粘附性,保障产品质量。

本申请实施例提供了一种陶瓷基板的金属镀膜方法,包括以下步骤:

S1:清洗待加工的陶瓷基板的正面和背面;

S2:在所述陶瓷基板的背面蒸镀背面金属膜;

S3:在所述陶瓷基板的正面使用光刻胶制作图形;

S4:在所述陶瓷基板的正面蒸镀正面金属膜;

S5:剥离所述光刻胶,完成所述陶瓷基板的镀膜操作。

上述实施例的有益效果在于:调整蒸镀陶瓷基板金属膜的顺序,清洗后先蒸镀陶瓷基板背面金属膜再在陶瓷基板正面使用光刻胶制作图形,背面金属膜沾染上光刻胶时易于清理,从而防止使用光刻胶时对陶瓷基板背面造成有机污染。因蒸镀背面金属膜时无需使用光刻胶,所以在对陶瓷基板正面蒸镀金属膜前无需再次清洗陶瓷基板正面。通过该方法减去了对陶瓷基板的二次清洗,从而避免酸洗对已镀金属膜粘附性的影响,保障产品质量。

在上述实施例基础上,本申请可进一步改进,具体如下:

在本申请其中一个实施例中,所述步骤S1中清洗的方式如下:将所述陶瓷基板依次置于丙酮、酒精中分别超声清洗5-15min,冲水并甩干后再将所述陶瓷基板置于100-120℃硫酸中清洗5-15min,再冲水并甩干。丙酮易溶于水,通过丙酮去除陶瓷基板表面有机杂质,方便冲洗干净,由于陶瓷基板表面粗糙,增加超声有助于丙酮更好的与陶瓷基板接触,提高清洗效果;通过酒精去除有机杂质以及残留的丙酮,同时增加超声也有助于提高酒精清洗的效果;而硫酸具有强氧化性,能去除丙酮和酒精清洗未能去除的有机物,同时100-120℃高温可加剧硫酸的反应,增加去除有机物的效果;通过上述清洗方法可方便快捷的将陶瓷基板表面清洗干净,提升生产效率,保障产品质量。

在本申请其中一个实施例中,所述步骤S1中清洗的方式还包括:在所述陶瓷基板经110℃硫酸清洗并冲水、甩干后,将所述陶瓷基板置置于稀氢氟酸中清洗20-40s,再冲水并甩干。氢氟酸HF中的F离子可以去除陶瓷基板表面自然氧化层以及金属离子,提高后续镀的金属膜与陶瓷基板之间的粘附性,进一步保障产品质量。

在本申请其中一个实施例中,所述稀氢氟酸中HF:H20=1:50。

在本申请其中一个实施例中,所述步骤S1中所述陶瓷基板在清洗前需在所述陶瓷基板的正面或背面打标。使用激光打标机在陶瓷基板正面刻上型号、批号、片号等标记,同时方便识别正背面。

在本申请其中一个实施例中,所述步骤S2中,在所述背面金属膜表面贴上蓝膜,所述步骤S4中,在蒸镀正面金属膜前将所述蓝膜撕掉。对已蒸镀完成的背面金属膜进行贴膜保护,防止背面金属膜在后续加工过程中被沾污、划伤等。

在本申请其中一个实施例中,背面金属膜和正面金属膜均以朝向远离所述陶瓷基板的方向依次包括Ti、Pt、Au三层金属。Ti金属用以起到为欧姆接触金属与陶瓷基板之间浸润的作用,厚度要求较薄;Pt金属用以起到阻挡层的作用,防止Au金属扩散到陶瓷基板,厚度要求也较薄;Au金属具有优良的稳定性以及键合性,抗电迁移能力强,用于后续的封装键合,同时要求厚度较厚;该三层金属叠加形成的金属膜稳定性更高。

在本申请其中一个实施例中,所述Ti、Pt、Au三层金属的厚度依次分别为

本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:

1.该方法减去了对陶瓷基板的二次清洗,从而避免酸洗对已镀金属膜粘附性的影响,保障产品质量;

2.清洗方法可方便快捷的将陶瓷基板表面清洗干净,提升生产效率,保障产品质量;

3.氢氟酸HF中的F离子可以去除陶瓷基板表面自然氧化层以及金属离子,提高后续镀的金属膜与陶瓷基板之间的粘附性,进一步保障产品质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明

具体实施方式

或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中,类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中,各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1为本发明一种陶瓷基板的金属镀膜方法的流程图;

图2为陶瓷基板的金属镀膜的结构示意图一;

图3为陶瓷基板的金属镀膜的结构示意图二;

图4为陶瓷基板的金属镀膜的结构示意图三;

图5为陶瓷基板的金属镀膜的结构示意图四。

其中,1.陶瓷基板、2.Ti金属层、3.Pt金属层、4.Au金属层、5.蓝膜、6.光刻胶。

具体实施方式

下面结合具体实施方式,进一步阐明本发明,应理解这些实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围,在阅读了本发明之后,本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本发明描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

本申请实施例通过提供一种陶瓷基板的金属镀膜方法,解决了现有技术中陶瓷基板金属膜粘附性不高的问题,提高了陶瓷基板金属膜的粘附性,保障产品质量。

本申请实施例中的技术方案为解决上述问题,总体思路如下:

实施例:

如图1所示,一种陶瓷基板的金属镀膜方法,包括以下步骤:

S1:清洗待加工的陶瓷基板的正面和背面。

陶瓷基板在清洗前需使用激光打标机在陶瓷基板正面刻上型号、批号、片号等标记,方便识别正背面。

清洗的方式如下:将陶瓷基板依次置于丙酮、酒精中分别超声清洗5-15min(优选10min),冲水并甩干后再将陶瓷基板置于100-120℃(优选110℃)硫酸中清洗5-15min(优选10min),再冲水并甩干,再将陶瓷基板置置于稀氢氟酸中清洗20-40s(优选30s),再冲水并甩干,其中稀氢氟酸中HF:H20=1:50。

S2:在陶瓷基板的背面蒸镀背面金属膜。

如图2所示,使用蒸发工艺,在陶瓷基板1的背面连续蒸镀三层金属形成背面金属膜,依次是Ti、Pt、Au,Ti金属层2、Pt金属层3、Au金属层4厚度分别为背面金属膜蒸镀完成后,贴上SPV-225RB日东蓝膜5进行保护。

S3:在陶瓷基板的正面使用光刻胶制作图形。

如图3所示,在陶瓷基板1的正面直接使用Lift off光刻胶6制作图形,无需二次酸洗,且此时陶瓷基板1背面已蒸镀有背面金属膜,背面金属膜上还贴有蓝膜5进行保护,光刻胶6不会对陶瓷基板1背面造成污染。

S4:在陶瓷基板的正面蒸镀正面金属膜。

如图4所示,将背面金属膜表面的蓝膜6撕去,陶瓷基板1正面带着光刻胶6进行第二次金属蒸镀,形成的正面金属膜与背面金属膜一致,依次为Ti金属层2、Pt金属层3、Au金属层4,且厚度分别为

S5:剥离光刻胶,完成陶瓷基板的镀膜操作。

如图5所示,使用有机去胶液进行超声剥离光刻胶6,形成正面完整图形。至此陶瓷基板的金属镀膜操作完成。

上述本申请实施例中的技术方案,至少具有如下的技术效果或优点:

1.该方法减去了对陶瓷基板的二次清洗,从而避免酸洗对已镀金属膜粘附性的影响,保障产品质量;

2.清洗方法可方便快捷的将陶瓷基板表面清洗干净,提升生产效率,保障产品质量;

3.氢氟酸HF中的F离子可以去除陶瓷基板表面自然氧化层以及金属离子,提高后续镀的金属膜与陶瓷基板之间的粘附性,进一步保障产品质量。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

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