一种静电吸盘基座的修复方法

文档序号:1955572 发布日期:2021-12-10 浏览:28次 >En<

阅读说明:本技术 一种静电吸盘基座的修复方法 (Repairing method of electrostatic chuck base ) 是由 李君� 陈茂雄 石锗元 肖伟 于 2021-07-27 设计创作,主要内容包括:本发明公开了一种静电吸盘基座的修复方法,属于静电吸盘技术领域,所述修复方法包括以下步骤:根据静电吸盘基座的表面破损处,以表面破损处为基础将表面破损处加工成形状规则的凹槽;测量所述凹槽的尺寸,将所述尺寸记录备用;根据所述凹槽的尺寸,加工制造用于填补所述凹槽的填块,将所述填块加工到与所述凹槽配合的尺寸;将所述加工好的填块嵌入到所述凹槽中;在所述填块的上表面上喷涂陶瓷层;使用雾化胶喷涂所述陶瓷层,形成表面灰黑的亮色;对所述静电吸盘的各个参数进行检测,判断修复后的静电吸盘是否符合要求。(The invention discloses a method for repairing an electrostatic chuck base, which belongs to the technical field of electrostatic chucks and comprises the following steps: processing the surface damage position into a groove with a regular shape based on the surface damage position according to the surface damage position of the electrostatic chuck base; measuring the size of the groove, and recording the size for later use; according to the size of the groove, machining and manufacturing a filler block for filling the groove, and machining the filler block to the size matched with the groove; embedding the processed filler block into the groove; spraying a ceramic layer on the upper surface of the filling block; spraying the ceramic layer by using atomized glue to form a bright gray and black surface; and detecting each parameter of the electrostatic chuck, and judging whether the repaired electrostatic chuck meets the requirements.)

一种静电吸盘基座的修复方法

技术领域

本发明涉及静电吸盘技术领域,特别涉及一种静电吸盘基座的修复方法。

背景技术

静电吸盘常被用于半导体处理设备中,对诸如半导体晶圆进行支撑,在进行羁绊处理时,静电吸盘可以利用静电力吸附基板,从而将其固定在处理设备的适当位置上

静电吸盘包括基座,若加工制造过程中基座出现了破损,则会导致该静电吸盘不合格,需要进行报废或者将基座分离出来然后再使用好的基座进行粘接,直接报废的方式会浪费人力物力,将基座分离出来然后再使用好的基座进行粘接,步骤繁琐,且在分离基座的过程中容易对静电吸盘产生新的损害,因此,需要一种静电吸盘基座的修复方法,以便于对静电吸盘基座进行修复。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种静电吸盘基座的修复方法,能够修复静电吸盘基座的受损部分。

为了解决上述技术问题,本发明的技术方案为:

一种静电吸盘基座的修复方法,所述修复方法包括以下步骤:

根据静电吸盘基座的表面破损处,以表面破损处为基础将表面破损处加工成形状规则的凹槽;

测量所述凹槽的尺寸,将所述尺寸记录备用;

根据所述凹槽的尺寸,加工制造用于填补所述凹槽的填块,将所述填块加工到与所述凹槽配合的尺寸;

将所述加工好的填块嵌入到所述凹槽中;

在所述填块的上表面上喷涂陶瓷层;

使用雾化胶喷涂所述陶瓷层,形成表面灰黑的亮色;

对所述静电吸盘的各个参数进行检测,判断修复后的静电吸盘是否符合要求。

优选的,所述凹槽为多边形凹槽或者圆柱形凹槽。

优选的,所述尺寸包括凹槽的深度。

优选的,所述填块的高度小于所述凹槽的深度。

优选的,所述填块的材料与所述静电吸盘基座的材料相同。

优选的,所述填块的加工制造包括对所述填块的切割和对所述填块表面的打磨。

优选的,所述静电吸盘检测的参数包括阻抗系数、漏电率、氦气漏率及热传导系数。

采用上述技术方案,通过将静电吸盘基座的受损部分进行加工,加工成形状规则的槽,然后通过与静电吸盘基座材料相同的填料填补到槽中,再往与槽配合完成后的填料上喷涂陶瓷层,喷涂陶瓷层后使用雾化胶喷涂。

具体实施方式

下面对本发明的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是,对于这些实施方式的说明用于帮助理解本发明,但并不构成对本发明的限定。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

实施例1

一种静电吸盘基座的修复方法,修复方法包括以下步骤:

根据静电吸盘基座的表面破损处,以表面破损处为基础将表面破损处加工成形状规则的凹槽,若静电吸盘基座上破损的区域比较小,则可以将该破损区域的加工成圆柱形凹槽,凹槽的横截面积为圆形;

测量该圆柱形凹槽的深度和半径,将凹槽的深度和半径记录备用;

根据该圆柱形凹槽的深度和半径的值,加工制造用于填补凹槽的填块,将填块加工到与凹槽配合的尺寸,填块为圆柱形,加工时,以与静电吸盘基座材料相同的圆材为基础,根据凹槽的深度将圆材切割,然后根据圆柱形凹槽的半径对圆材进行切削加工和磨削加工;

将加工好的圆柱形填块嵌入到圆柱形凹槽中;

在圆柱形填块的上表面上喷涂陶瓷层,圆柱形填块的其他面与圆柱形凹槽配合;

使用雾化胶喷涂陶瓷层,形成表面灰黑的亮色,圆柱形填料的高度小于凹槽的深度,以便于对圆柱形填料的上表面进行喷涂陶瓷层和喷涂雾化胶后,保持整个静电吸盘基座表面的平整,在对填料进行喷涂陶瓷层和喷涂雾化胶时,需要遮挡住凹槽的周围,以便于在填料处形成陶瓷层和雾化胶层;

对静电吸盘的阻抗系数、漏电率、氦气漏率及热传导系数进行检测,若测量出的阻抗系数、漏电率、氦气漏率及热传导系数符合产品要求,则经过修补后的静电吸盘为合格产品;

静电吸盘基座上需要有用于固定静电吸盘的安装孔,若是在加工该安装孔时产生的破损或者误差,则可将此处加工为一个比安装孔大的圆柱形凹槽,然后制作填块嵌入到圆柱形凹槽中,在填料上喷涂陶瓷层和雾化胶后,再在填料上加工用于安装静电吸盘的孔;

采用上述技术方案,通过将静电吸盘基座的受损部分进行加工,加工成形状规则的槽,然后通过与静电吸盘基座材料相同的填料填补到槽中,再往与槽配合完成后的填料上喷涂陶瓷层,喷涂陶瓷层后使用雾化胶喷涂。

实施例2

一种静电吸盘基座的修复方法,修复方法包括以下步骤:

根据静电吸盘基座的表面破损处,以表面破损处为基础将表面破损处加工成形状规则的凹槽,若静电吸盘基座上破损的区域比较大,则可以将该破损区域的加工成具有一定形状的凹槽,凹槽的横截面积可以是规则的多边形,也可以是不规则的多边形,根据破损区域的大致形状确定采用规则多边形还是不规则多边形;

测量该多边形凹槽的深度、边的长度以及边与邻边之间的夹角,将该多边形凹槽的深度、边的长度以及边与邻边之间的夹角记录备用;

根据该多边形凹槽的深度、边的长度以及边与邻边之间的夹角,加工制造用于填补该凹槽的填块,将填块加工到与凹槽配合的尺寸,填块为与该凹槽配合的多边形柱体,加工时,若是规则的多边形,则可以以与静电吸盘基座相同材料的圆形料为基础,加工各个表面,根据凹槽的深度将圆形料切割,然后根据多边形凹槽的边长进行切削加工和磨削加工,若是不规则的多边形,则以块状的料为基础进行加工,静电吸盘的基座一般采用铝材,因为直接在破损处进行焊接会影响到静电吸盘基座的导电、导热参数,因此需要采用填补的方式进行;

将加工好的多边形填块嵌入到多变形凹槽中;

在多边形填块的上表面上喷涂陶瓷层,多边形填块的其他面与多边形凹槽配合,填块的面与相对应的多边形凹槽的面贴合;

使用雾化胶喷涂陶瓷层,形成表面灰黑的亮色,多边形填料的高度小于多边形凹槽的深度,以便于对多边形填料的上表面进行喷涂陶瓷层和喷涂雾化胶后,保持整个静电吸盘基座表面的平整,在对填料进行喷涂陶瓷层和喷涂雾化胶时,需要遮挡住凹槽的周围,以便于在填料处形成陶瓷层和雾化胶层;

对静电吸盘的阻抗系数、漏电率、氦气漏率及热传导系数进行检测,若测量出的阻抗系数、漏电率、氦气漏率及热传导系数符合产品要求,则经过修补后的静电吸盘为合格产品;

静电吸盘基座上需要有用于固定静电吸盘的安装孔,若是在加工该安装孔时产生的破损或者误差,则可将此处加工为一个规则的多边形凹槽,然后制作多边形填块嵌入到多边形凹槽中,在填料上喷涂陶瓷层和雾化胶后,再在填料上加工用于安装静电吸盘的孔;

采用上述技术方案,通过将静电吸盘基座的受损部分进行加工,加工成形状规则的槽,然后通过与静电吸盘基座材料相同的填料填补到槽中,再往与槽配合完成后的填料上喷涂陶瓷层,喷涂陶瓷层后使用雾化胶喷涂。

以上对本发明的实施方式作了详细说明,但本发明不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言,在不脱离本发明原理和精神的情况下,对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型,仍落入本发明的保护范围内。

以上对本发明的实施方式作了详细说明,但本发明不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言,在不脱离本发明原理和精神的情况下,对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型,仍落入本发明的保护范围内。

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