具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，若全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

随着城市的快速发展，建筑密度迅速增大，光污染引发的投诉问题越来越频繁，人们逐渐意识到光污染问题的严重性。因此，对于玻璃的室外反射率要求逐渐提高，部分项目上甚至出现室外反射率要求≤5％的严苛要求，已超出常见Low-E玻璃的性能要求。针对反射率要求严苛的项目，一般采用减反射镀膜玻璃或增透膜结合Low-E镀膜玻璃的方案来实现低反射率的要求。但是，减反射镀膜玻璃价格昂贵，导致项目成本增加。

本发明技术方案使用颜色模型(Lab)作为色标，对低辐射镀膜玻璃的玻面颜色和膜面颜色进行设计。颜色模型(Lab)是基于人对颜色的感觉建立起来的模型，Lab中的数值描述正常视力的人能够看到的所有颜色。Lab色彩模型是由亮度(L)、颜色值a*和颜色值b*共三个要素组成。其中，L表示亮度(Luminosity)，a*表示从红色至绿色的范围，b*表示从黄色至蓝色的范围。L的值域为0至100，其中L＝50时，就相当于50％的黑色。a*和b*的值域都是+127至-128，其中a*＝+127时，颜色是红色，a*＝-128时，颜色是绿色。而b*＝+127时是颜色是黄色，b*＝-128时，颜色是蓝色。所有的颜色以这三个值交互变化所组成，相当于用Lab数值表示物体的颜色。例如，某一色彩的Lab值是L＝100，a＝30，b＝0时，表示该色彩是粉红色。

本发明提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

请参照图1至图2，在本发明实施例中，一种低反射率的低辐射镀膜玻璃包括玻璃基层100、功能层200、保护膜层300、吸收层400、第二介质层620和第三介质层630，所述功能层200位于所述玻璃基层100的一侧；所述保护膜层300位于所述功能层200远离所述玻璃基层100的一侧；所述吸收层400位于所述玻璃基层100与所述功能层200之间，所述吸收层400用于吸收太阳光。请参照图1至图2，所述吸收层400包括至少三层保护层，所述第二介质层620和所述第三介质层630分别位于两所述保护层之间。

具体而言，请参照图1至图2，该玻璃基层100可以是超白玻璃，玻璃基层100的厚度可以是4mm、5mm、6mm、8mm、10mm或12mm。该玻璃基层100越厚反射率越低，综合考虑产品的反射率和运输方便等因素，该玻璃基层100的厚度可以是5mm至10mm。可以理解的是，该玻璃基层100也可以是普通玻璃。

请参照图1，该功能层200位于玻璃基层100的一侧，功能层200具有低辐射性能，从而降低该低反射率的低辐射镀膜玻璃的辐射率，可以反射太阳的红外辐射，有效地阻挡高温场向低温场的热流辐射，又能有效地阻止夏季热能进入室内和冬季热能的外泄，具有双向节能的效果，提高低反射率的低辐射镀膜玻璃的隔热性能。该功能层200可以是单层银层。

请参照图1，该功能层200的两侧分别设有玻璃基层100和保护膜层300，对功能层200进行保护。该保护膜层300具有良好的机械性能，能够防止功能层200被划伤、腐蚀等，提高了该低反射率的低辐射镀膜玻璃的机械加工性能和抗划伤性能。同时，可以减少功能层200的氧化。

请继续参照图1，该吸收层400位于玻璃基层100与功能层200之间，吸收层400包括至少三层保护层，该保护层可以吸收太阳光，降低室外反射率，同时也起到保护功能层200的作用。多层结构的吸收层400通过逐步吸收透过玻璃基层100的太阳光，有效地降低了该低辐射镀膜玻璃的反射率。需要说明的是，该保护层可以是四层，也可以是五层或六层，从而进一步对太阳光进行吸收，降低低辐射镀膜玻璃的反射率。

请参照图1，由于吸收层400包括至少三层保护层，第二介质层620和第三介质层630分别位于两保护层之间，也即当吸收层400包括三层保护层时，其中两层保护层之间设有第二介质层620，两层保护层的其中一者与另一保护层之间设置第三介质层630，第三介质层630相对第二介质层620可以远离玻璃基层100。该第二介质层620和第三介质层630的主要作用是提高功能层200对玻璃基层100的附着力，对功能层200起保护作用，同时可以提高透光率，调节低辐射镀膜玻璃的颜色，并且当选择高折射率的介质材料时，还可以降低反射率。

本发明技术方案通过在玻璃基层100和功能层200之间设置包括至少三层保护层的吸收层400，从而吸收透过玻璃基层100的太阳光，有效地降低了该低辐射镀膜玻璃的反射率，减少了低辐射镀膜玻璃的镜面反光造成的光污染。同时，吸收层400还起到保护功能层200的作用，保护膜层300位于功能层200远离吸收层400的一侧，保护了该低辐射镀膜玻璃整体的稳定性，提高产品的机械性能，使产品不易被划伤。相比采用减反射镀膜玻璃或增透膜降低低辐射镀膜玻璃的反射率，本发明的低辐射镀膜玻璃生产成本低，并且降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，满足严苛的室外反射率要求，具有广阔的市场应用空间。

该保护层的材料有多种，在一实施例中，所述保护层为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种，从而吸收透过玻璃基层100的太阳光，有效地降低了该低辐射镀膜玻璃的反射率。可以理解的是，该保护层也可以是Zn层、ZnNx层、CrOx层、Nb层或Ti层。

具体地，请参照图1至图2，在一实施例中，所述吸收层400包括从所述玻璃基层100到所述功能层200依次设置的第一保护层410、第二保护层420和第三保护层430，所述第一保护层410为NiCr层。

该第一保护层410的一侧贴合在玻璃基层100上，另一侧设置有第二保护层420，其中第一保护层410为NiCr层，吸收穿透玻璃基层100的部分太阳光，有效降低室外反射率。该第二保护层420和第三保护层430为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种，Cr层和Cu层可以用于调节该低辐射镀膜玻璃的颜色，从而获得不同颜色的低辐射镀膜玻璃，可以根据室内设计选择不同的低辐射镀膜玻璃，满足用户的需求。

进一步地，请参照图1至图2，在一实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第四保护层500，所述第四保护层500位于所述功能层200与所述保护膜层300之间，所述第四保护层500为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种。

请参照图2，该第四保护层500位于功能层200与保护膜层300之间，用于吸收太阳光，进一步降低室外反射率，同时也起到保护功能层200的作用。由第四保护层500和保护膜层300共同构成的复合层，对太阳光具有较强的吸收，可调节该低辐射镀膜玻璃的反射性能。

为了进一步降低低辐射镀膜玻璃的反射率，请参照图2，在一实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一介质层610，所述第一介质层610位于所述玻璃基层100与所述第一保护层410之间；所述第二介质层620位于所述第一保护层410与所述第二保护层420之间；所述第三介质层630位于所述第二保护层420与所述第三保护层430之间。

请参照图2，该第一介质层610与第一保护层410、第二介质层620与第二保护层420、第三介质层630与第三保护层430分别形成金属层，不但对太阳光具有较强的吸收，降低该低辐射镀膜玻璃的反射性能，还具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。

进一步地，请参照图1至图2，在一实施例中，所述第一介质层610和/或所述保护膜层300为SiNx层，SiNx中x的范围是0.50至1.33；所述第一介质层610的厚度为25nm～35nm，所述保护膜层300的厚度为30nm～48nm。

该第一介质层610为SiNx层，SiNx中x的范围是0.50至1.33，可以防止玻璃基层100中的钠元素扩散迁移到其它膜层中，避免破坏功能层200的结构，增加膜层与玻璃基层100之间的吸附力，具有很强的抗腐蚀性、抗机械划伤和抗高温氧化的性能。该第一介质层610的厚度为25nm～35nm，从而控制该低辐射镀膜玻璃的性能。

请参照图1至图2，该保护膜层300位于顶层，由于SiNx的硬度高，具有较强的硬度和稳定的物理和化学性能，能够防止膜层被划伤、腐蚀等，提高了低辐射镀膜玻璃的机械加工性能和抗划伤性能，提高产品的实用性。兼顾生产成本和产品的机械性能，该保护膜层300的厚度可以为30nm～48nm。

请参照图2，在一实施例中，所述第二介质层620和/或所述第三介质层630为ZnAlOx层和ZnSnOx层的一种或两种；所述第二介质层620的厚度为36nm～47nm，所述第三介质层630的厚度为38nm～52nm。

请参照图2，该第二介质层620位于第一保护层410与第二保护层420之间，第三介质层630位于第二保护层420与第三保护层430之间，用于将功能层200与玻璃基层100之间隔开，保护功能层200。另外，还用于调节该低辐射镀膜玻璃的膜层结构和产品颜色。为了进一步降低产品的低反射率，该第二介质层620的厚度为36nm～47nm，第三介质层630的厚度为38nm～52nm。该第一介质层610和第二介质层620、第三介质层630的材料不一同，可以根据自身材料的优劣，取长补短，如第一介质层610为SiNx层，SiNx的透过率低，第二介质层620和第三介质层630为ZnSnOx层时，其透过率相对较高。

考虑到不同保护层的位置不同，在一实施例中，所述第一保护层410的厚度为6nm～14nm，所述第二保护层420的厚度为6nm～14nm，所述第三保护层430的厚度为2nm～5nm，所述第四保护层500的厚度为2nm～5nm。

该功能层200的材料为Ag层，请参照图1至图2，在一实施例中，所述银层的厚度为5nm～14nm。该功能层200主要是利用银的低辐射性能来降低低辐射镀膜玻璃的辐射率，将太阳光过滤成冷光源，提高镀膜玻璃的隔热性能，为产品带来良好的节能性能。

在一实施例中，该低辐射镀膜玻璃从玻璃基层100向外依次是第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300，其厚度分别为32.70nm，9.13nm，38.30nm，10.40nm，40.30nm，2.87nm，10.03nm，2.87nm，36.20nm。

在另一实施例中，该低辐射镀膜玻璃从玻璃基层100向外依次是第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300，其厚度分别为28.70nm，10.97nm，45.10nm，8.52nm，47.50nm，4.02nm，7.31nm，4.02nm，43.40nm。

本发明的保护层为金属材料，可吸收阻挡太阳光，有效降低室外反射率。在最经典的Low-E膜层结构的基础上，在玻璃基层100和功能层200之间设置多组“介质层和保护层”，起到双重吸收和阻挡作用，该低辐射镀膜玻璃的反射率低于4％，满足反射率不大于5％的严苛要求。该低辐射镀膜玻璃可以应用于建筑门窗、建筑幕墙或建筑物内部装置领域。

本发明还提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，该制备方法用于制备上述的低反射率的低辐射镀膜玻璃。该制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成吸收层400、第二介质层620、第三介质层630、功能层200和保护膜层300，其中，所述吸收层400包括至少三层保护层，所述第二介质层620和所述第三介质层630分别位于两所述保护层之间。

具体地，所述吸收层400包括第一保护层410、第二保护层420和第三保护层430，介质层包括第一介质层610、第二介质层620和第三介质层630，可以在玻璃基层100表面依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。在磁控溅射时，阴极位所用靶材为硅铝靶、锌铝靶、锌锡靶、银靶、镍铬靶、铬靶、铜靶。

在该制备方法中，第一介质层610和保护膜层300可以由硅铝靶磁控溅射形成SiNx层，硅铝靶的硅铝重量比为9:1。该第二介质层620和第三介质层630可以由锌铝靶磁控溅射形成ZnAlOx层，硅铝靶的锌铝重量比为98:2；也可以由锌锡靶磁控溅射形成ZnSnOx层，锌锡靶的锌锡重量比为5:5。第一保护层410、第二保护层420、第三保护层430和第四保护层500可以由镍铬靶磁控溅射形成NiCr层，镍铬靶的镍铬重量比为8:2；该第二保护层420、第三保护层430和第四保护层500也可以由铬靶磁控溅射形成Cr层，铬靶的铬纯度为99.95％；或者，第二保护层420、第三保护层430和第四保护层500由铜靶磁控溅射形成Cu，铜靶的铜纯度为99.99％。该功能层200由银靶磁控溅射形成Ag层，银靶的银纯度为99.99％。

其中，所述银靶、所述镍铬靶、铬靶和铜靶为平面靶，所述硅铝靶、所述锌铝靶、所述锌锡靶为旋转靶。

在磁控溅射时，为保证溅射稳定，且不破坏靶材，对使用功率进行控制。该硅铝靶功率不大于70Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1∶1，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。锌铝靶功率为不大于60Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氧比例是0.78：1，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。锌锡靶功率为不大于60Kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是0.78：1，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。铬靶的功率为不大于20Kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。铬靶的功率为不大于20Kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。铜靶的功率为不大于20Kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。银靶的功率为不大于20Kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2*10^-3mbar至5*10^-3mbar。

下面将结合具体实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。

实施例1

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为32.70nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为9.13nm；第二介质层620为ZnSnOx层，厚度为38.30nm；第二保护层420为NiCr层，厚度为10.40nm；第三介质层630为ZnSnOx层，厚度为40.30nm；第三保护层430为NiCr层，厚度为2.87nm；功能层200为Ag层，厚度为10.03nm；第四保护层500为NiCr层，厚度为2.87nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为36.20nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为23.63，a*为-1.05，b*为-4.75，合成中空玻璃后的室外反射率为4.89％。

实施例2

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为28.70nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为10.97nm；第二介质层620为ZnAlOx层，厚度为45.10nm；第二保护层420为NiCr层和Cu层，厚度分别为4.52nm和4.00nm；第三介质层630为ZnAlOx层，厚度为47.50nm；第三保护层430为NiCr层，厚度为4.02nm；功能层200为Ag层，厚度为7.31nm；第四保护层500为NiCr层，厚度为4.02nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为43.40nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为23.97，a*为-2.17，b*为-4.88，合成中空玻璃后的室外反射率为4.91％。

实施例3

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为33.30nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为12.77nm；第二介质层620为ZnAlOx层，厚度为38.80nm；第二保护层420为Cr层和Cu层，厚度分别为3.47nm和3.40nm；第三介质层630为ZnAlOx层，厚度为51.13nm；第三保护层430为Cr层，厚度为3.70nm；功能层200为Ag层，厚度为8.94nm；第四保护层500为Cr层，厚度为2.79nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为32.01nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为22.79，a*为-1.09，b*为-5.35，合成中空玻璃后的室外反射率为4.91％。

实施例4

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为29.70nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为6.97nm；第二介质层620为ZnSnOx层和ZnAlOx层，厚度分别为24.10nm和22.00nm；第二保护层420为NiCr层，厚度分别为9.55nm；第三介质层630为ZnAlOx层，厚度为42.45nm；第三保护层430为NiCr层，厚度为4.90nm；功能层200为Ag层，厚度为5.79nm；第四保护层500为NiCr层，厚度为3.01nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为47.30nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为23.51，a*为-1.23，b*为-3.19，合成中空玻璃后的室外反射率为4.66％。

实施例5

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为26.20nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为9.23nm；第二介质层620为ZnSnOx层和ZnAlOx层，厚度分别为27.70nm和10.00nm；第二保护层420为NiCr层，厚度分别为13.59nm；第三介质层630为ZnSnOx层和ZnAlOx层，厚度分别为32.33nm和15.20nm；第三保护层430为NiCr层，厚度为4.30nm；功能层200为Ag层，厚度为9.12nm；第四保护层500为NiCr层，厚度为4.57nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为38.66nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为23.82，a*为-3.27，b*为-5.54，合成中空玻璃后的室外反射率为4.74％。

实施例6

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，从玻璃基层100向外依次包括第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630，第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。该第一介质层610为SiNx层，厚度为31.07nm；第一保护层410为NiCr层，厚度为8.89nm；第二介质层620为ZnSnOx层和ZnAlOx层，厚度为42.90nm；第二保护层420为NiCr层和Cu层，厚度为11.79nm；第三介质层630为ZnSnOx层和ZnAlOx层，厚度为45.34nm；第三保护层430为NiCr层，厚度为2.01nm；功能层200为Ag层，厚度为13.99nm；第四保护层500为NiCr层，厚度为3.94nm；保护膜层300为SiNx层，厚度为40.77nm。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻璃基层100采用6mm的白玻。该低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层100表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层610、第一保护层410、第二介质层620、第二保护层420、第三介质层630、第三保护层430、功能层200、第四保护层500和保护膜层300。

在该实施例中，该低辐射镀膜玻璃的玻面颜色L为22.85，a*为-1.25，b*为-2.98，合成中空玻璃后的室外反射率为4.58％。

为了研究本发明的低辐射镀膜玻璃的性能，对上述实施例1至实施例6制备的低辐射镀膜玻璃进行测试，测试结果见下表1和表2。

表1各实施例中膜层结构及厚度

表2各实施例中低辐射镀膜玻璃单片颜色值及合成中空玻璃的反射率

根据表1和表2，本发明的实施例1至实施例6制得的低辐射镀膜玻璃的透过率T为35％～43％，透过色a*值为-0.5～-2.0，b*值为1.5～-3.5；玻面反射色L值为22至24，a*为值-1.0～-4.0，b*值为-2.5～-6.5。本发明低辐射镀膜玻璃的颜色稳定，正面与侧面的色差小，从多角度观察，颜色一致性优异。

该低辐射镀膜玻璃合成中空玻璃后，室外反射率均低于5％，具有良好的低反射性能，满足项目对于幕墙玻璃室外反射率的严苛要求。在室外观察时，由于反射率低，亮度低，玻璃颜色接近黑色，有效减少了镜面反光造成的光污染。并且，该低辐射镀膜玻璃采用磁控溅射沉积的方式制成，生产成本低，有利于产品的市场推广。

以上所述仅为本发明的可选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。