具体实施方式

将参考附图描述本发明的示例性实施例，以便充分理解本发明的技术思想的构成和效果。然而，本发明的技术思想可以以不同的形式被实施，并且不应被解释为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本公开透彻和完整，并且将本发明的范围完全传达给本领域技术人员。

相同的附图标记始终表示相同的元件。将参照作为本发明的理想示例性视图的框图、透视图和/或剖视图来描述本说明书中的实施例。此外，在附图中，层和区域的尺寸被放大以有效地解释技术特征。在附图中所示例的区域具有一般特性，并且在附图中所示例的区域的形状用于图示装置区域的特定形状，并且不应被解释为限制本发明的范围。此外，尽管在本说明书的各种实施例中使用各种术语来描述各种部件，但是这些部件不应限于这些术语。这些术语仅用于将一个部件与另一个部件区分开。本文描述和示例的实施例还包括其补充实施例。

这里使用的术语仅用于解释实施例，而不是旨在限制本发明。在本说明书中，除非在上下文中特别指出，单数形式的术语可以包括复数形式。“包括”和/或“包含”的含义指定了一个部件，但不排除其他部件。

以下，将通过参照附图解释本发明的优选实施例来详细描述本发明。

图1是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的示意图，而图2是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的供应装置的剖视图。

参照图1，全息图转录设备1000可以包括供应装置101和重绕装置102。

供应装置101可以包括光敏膜退绕机111、保护膜移除部112、光源部113和曝光部114。

光敏膜退绕机111可以使光敏膜SLF退绕，并将光敏膜SLF移动到保护膜移除部112。在实施例中，光敏膜退绕机111可以包括如图2所示的辊。光敏膜退绕机111可以在旋转的同时将光敏膜SLF移动到辅助辊205和206。

参照图1和图2，光敏膜SLF可以包括全息图膜HF和保护膜PF。在实施例中，可以提供多个保护膜PF。多个保护膜PF可以附着到全息图膜HF的两个表面。也就是说，全息图膜HF可以设置在保护膜PF之间。保护膜PF可以保护全息图膜HF免受外部冲击。在实施例中，全息图膜HF可以包括基膜(未示出)和光敏材料(未示出)。光敏材料可以设置在基膜的一个表面上。例如，基膜可以包括三乙酰纤维素(TAC)、透明聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)和聚碳酸酯(PC)。然而，本发明的实施例不限于此。

从光敏膜退绕机111供应的光敏膜SLF可以通过辅助辊201至204移动到辅助辊205和206。参照图2，光敏膜SLF可以移动通过第一辅助辊201至第六辅助辊206。然而，本发明的实施例不限于此，并且辅助辊的数量和位置可以进行各种改变。

在光敏膜SLF通过辅助辊201至206移动之后，光敏膜SLF的保护膜PF可以通过保护膜移除部112被移除。在实施例中，保护膜移除部112可以包括重绕机辊。重绕机辊可以设置多个。一个辊可以在逆时针方向上旋转，以移除设置在全息图膜HF上侧处的保护膜PF。另一个辊可以在顺时针方向上旋转，以移除设置在全息图膜HF下侧处的保护膜PF。然而，本发明的实施例不限于此，并且保护膜移除部112的形状可以以各种方式变形。

在移除保护膜PF之后，可以将全息图膜HF提供给曝光部114。

图3是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的曝光部的剖视图。

参照图3，曝光部114可以包括转印单元301和全息图原版SSB。在实施例中，曝光部114还可以包括包围转印单元301和/或全息图原版SSB的壳体。

曝光部114可以以任意角度移动。在实施例中，转印单元301和全息图原版SSB可以以任意角度自由移动。更具体地，可以移动转印单元301和全息图原版SSB，以与从光源部113发射的光LL形成适当的角度。转印单元301和全息图原版SSB可以以一体的方式以任意角度移动。稍后将参照图4A和图4B描述所述转印单元301和所述全息图原版SSB的详细描述。

转印单元301可以包括第一辊R1和第二辊R2。全息图膜HF可以通过辅助辊207和208移动到第一辊R1。在本发明的实施例中，第一辊R1可以包括第一子辊SR1和第二子辊SR2。全息图膜HF可以在第一子辊SR1与第二子辊SR2之间移动。更具体地，第一子辊SR1和第二子辊SR2可以在彼此相反的方向上旋转，以使全息图膜HF朝向全息图原版SSB移动。可以使全息图膜HF移动以接触全息图原版SSB。

全息图原版SSB可以是全息图。可以将光的干涉图案记录在全息图原版SSB中。全息图原版SSB可以具有薄板形状。第一表面F1和第二表面F2可以被限定在全息图原版SSB上。第二表面F2可以是第一表面F1的相反表面。第一辊R1可以将全息图膜HF移动到第一表面F1上。更具体地，全息图膜HF可以通过第一辊R1接触第一表面F1。

转印单元301还可以包括接触辊AR1和AR2。接触辊可以设置多个。例如，接触辊AR1和AR2可以包括如图3所示的第一接触辊AR1和第二接触辊AR2。第一接触辊AR1可以被设置成与第一表面F1相邻。第二接触辊AR2可以被设置成与第二表面F2相邻。在全息图膜HF接触第一表面F1的状态下，可以移动第一接触辊AR1，以使得全息图膜HF紧密接触第一表面F1。更具体地，第一接触辊AR1可以在接触全息图膜HF的状态下在平行于全息图原版SSB的延伸方向的方向上移动。在实施例中，第一接触辊AR1可以沿全息图原版SSB的延伸方向移动，或者可以沿与全息图原版SSB的延伸方向相反的方向移动，使得全息图膜HF紧密接触第一表面F1。全息图膜HF可以设置在全息图原版SSB与第一接触辊AR1之间。

由于第一接触辊AR1允许全息图膜HF紧密接触全息图原版SSB，因此可以防止气泡和杂质被引入到全息图原版SSB与全息图膜HF之间。可以防止当光LL被气泡和杂质散射时全息图的转录由于光路的不必要变形或光的变形而失真。通过使全息图膜HF紧密接触全息图原版SSB，可以以一体的方式移动全息图膜HF和全息图原版SSB。可以防止由振动产生的全息图的转录失真现象。可以改善由于与全息图原版SSB重复接触和分离而使全息图膜HF由于张力而变形的问题。

第二辊R2和第二接触辊AR2将在后面参考图7描述。

图4A是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的转录原理的剖视图。

参照图4A，光源部113可以包括光源1131、滤光器1133和反射镜1135。

光源1131可以发射光。更具体地，光源1131可以朝向滤光器1133发射第一光LL1。在实施例中，第一光LL1可以是激光束。

滤光器1133可以接收第一光LL1，并将第二光LL2透射到反射镜1135。滤光器1133可以包括透镜1133a和针孔1133b。在实施例中，透镜1133a可以包括物镜。透镜1133a可以设置多个。透镜1133a可以将光透射到针孔1133b。孔可以形成在针孔1133b的预定位置处。所述孔可以是微小的。在实施例中，孔可以具有10μm至25μm的直径。然而，本发明的实施例不限于此。光可以通过该孔出射。已经穿过滤光器1133的第二光LL2可以被散射而传播。第二光LL2可以到达反射镜1135。

反射镜1135可以反射第二光LL2。被反射的第三光LL3可以被照射到全息图膜HF。在实施例中，反射镜1135可以包括抛物面镜。由反射镜1135反射的第三光LL3可以是平行光。第三光LL3可以平行传播。

在第三光LL3的中心轴线LLM与全息图膜HF相交的中心点n处，中心轴线LLM和全息图膜HF可以形成预定角度α。在实施例中，角度α可以是0°至180°。

在实施例中，第三光LL3可以同时到达接触第一表面F1的整个全息图膜HF。第三光LL3可以均匀地到达接触第一表面F1的整个全息图膜HF。在实施例中，被第三光LL3所照射到的面积可以大于第一表面F1的面积。

在实施例中，曝光部114还可以包括保护全息图膜HF不受光的遮光层(未示出)。遮光层可以吸收对全息图膜HF和全息图原版SSB进行曝光的除了第三光LL3之外的光。

可以通过第三光LL3将全息图记录在全息图膜HF中。更具体地，第三光LL3可以穿过全息图膜HF。当已经穿过全息图膜HF的第三光LL3到达全息图原版SSB的第一表面F1时，光可以沿相反方向被全息图原版SSB反射。反射光的传播方向可以与被反射前的光的传播方向不同。在实施例中，反射光的传播方向可以与光在被反射之前的传播方向形成0°到180°的角度。反射光可以再次朝向全息图膜HF传播。反射光可以在全息图膜HF处引起与入射到全息图膜HF的光的干涉。可以将这两种光的干涉图案记录在全息图膜HF中。记录有光的干涉图案的全息图膜HF可以成为全息图。记录有光的干涉图案的全息图膜HF可以是反射型全息图。记录在全息图膜HF中的干涉图案可以与记录在全息图原版SSB中的干涉图案基本相同或相似。

已经记录有全息图的全息图膜HF可以通过辅助辊209和210移动到联接辊501和502。这将在后面参照图5进行描述。

图4B是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的操作过程的剖视图。

参照图4B，曝光部114可以旋转。在实施例中，曝光部114可以沿顺时针方向和/或逆时针方向旋转。更具体地，曝光部114可以围绕中心点n旋转。当曝光部114旋转时，全息图原版SSB和全息图膜HF也可以旋转。中心轴线LLM和全息图膜HF可以在中心点n处形成预定角度α’。角度α和角度α’可以彼此不同。

曝光部114的旋转可以通过各种单元来执行。在实施例中，曝光部114可以通过连接到中心点n的旋转轴旋转。所述旋转轴可以直接/间接地连接到能够使该旋转轴旋转的马达或类似装置。在实施例中，曝光部114可以通过能够使曝光部114旋转的各种单元来旋转。

当曝光部114旋转时，到达全息图膜HF和全息图原版SSB的第三光LL3的照射角度可以以各种方式改变。光的各种干涉图案可以记录在全息图膜HF中。可以制造各种反射型全息图。

根据本发明实施例的全息图转录设备1000，由于曝光部114被旋转以改变光的照射角度，因此可以通过使用一个全息图转录设备1000以各种角度制造全息图。由于曝光部114移动，所以光源部113可以不必移动。为了使光源部113移动，光源1131、滤光器1133和/或反射镜1135可以不必移动。可以省略根据光源部113的旋转的光的重新对准操作。可以简化并快速地执行制造全息图的过程。可以降低全息图的制造成本。

图5是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的重绕装置的剖视图。

参照图1和图5，重绕装置102可以包括保护膜供应部115、清洁部116和成品膜重绕机117。

已经记录有全息图的全息图膜HF可以移动到联接辊501和联接辊502。

保护膜供应部115可以将保护膜PF供应到全息图膜HF。在实施例中，保护膜供应部115可以包括两个退绕机辊。一个辊可以沿逆时针方向旋转，以将保护膜PF附着到全息图膜HF的一个表面。另一个辊可以沿顺时针方向旋转，以将保护膜PF附着到全息图膜HF的另一表面。然而，本发明的实施例不限于此，并且保护膜供应部115可以以各种方式变形。保护膜PF可以与参照图2描述的保护膜大致相同或相似。

以下，将附着有保护膜PF的全息图膜HF称为成品膜CPF。

成品膜CPF可以通过辅助辊移动到清洁部116。清洁部116可以对成品膜CPF执行漂白和固化操作。更具体地，清洁部116可以通过将光发射到成品膜CPF来对成品膜CPF执行漂白和固化操作。在实施例中，从清洁部116发射的光可以是紫外(UV)光。通过漂白和固化操作，除了晶体结构之外的聚合物结构可以被分离，以增强透光率，移除杂质等，并增强成品膜CPF的耐久性，其中晶体结构通过残留在成品膜CPF上的光能而取向，从而在特定波长下引起衍射。

已经通过清洁部116的成品膜CPF可以移动通过辅助辊并且被提供给成品膜重绕机117。成品膜重绕机117可以对成品膜CPF进行重绕。在实施例中，成品膜重绕机117可以包括辊。成品膜重绕机117可以在旋转的同时对成品膜CPF进行重绕。通过将保护膜PF附着到已经记录有全息图的全息图膜HF而获得的成品膜CPF可以由成品膜重绕机117储存。

图6是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的剖视图。

参照图6，全息图转录设备1000可以包括光敏膜退绕机111、保护膜移除部112、光源部113、曝光部114、保护膜供应部115、清洁部116和成品膜重绕机117。由于这些部件以有机的方式连接，因此可以实现能够执行一系列处理的批量控制的全息图转录设备1000，其中所述一系列处理包括：提供光敏膜SLF、移除保护膜PF、使全息图膜HF与全息图原版SSB紧密接触、使用激光进行曝光、附着保护膜PF、执行漂白和固化处理、以及卷绕成品膜CPF。

图7是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的曝光部的剖视图。

在下文中，为了便于描述，将省略与参照图1至图6描述的特征大致相同或相似的特征。

参照图7，全息图膜HF可以通过辅助辊207和辅助辊208移动到第二辊R2。在实施例中，第二辊R2可以包括第三子辊SR3和第四子辊SR4。全息图膜HF可在第三子辊SR3与第四子辊SR4之间移动。更具体地，第三子辊SR3和第四子辊SR4可以在彼此相反的方向上旋转，以使全息图膜HF朝向全息图原版SSB移动。全息图膜HF可以被移动，以接触全息图原版SSB。更具体地，全息图膜HF可以接触全息图原版SSB的第二表面F2。

在全息图膜HF接触第二表面F2的状态下，第二接触辊AR2可以被移动，以使得全息图膜HF紧密接触第二表面F2。更具体地，第二接触辊AR2可以在如图7中所述的接触全息图膜HF的状态下在平行于全息图原版SSB的延伸方向的方向上移动。在实施例中，第二接触辊AR2可以在全息图原版SSB的延伸方向上移动，或者可以在与全息图原版SSB的延伸方向相反的方向上移动，以使得全息图膜HF紧密地接触第二表面F2。全息图膜HF可以设置在全息图原版SSB与第二接触辊AR2之间。

由于第二接触辊AR2允许全息图膜HF紧密地接触全息图原版SSB，因此可以防止气泡和杂质被引入到全息图原版SSB与全息图膜HF之间。可以防止全息图的转录由于光路的不必要的变形或由于光LL被气泡和杂质散射而引起的光的变形而失真。通过允许全息图膜HF紧密地接触全息图原版SSB，可以以一体的方式移动全息图膜HF和全息图原版SSB。可以防止由每次振动产生的全息图的转录失真现象。可以改善由于与全息图原版SSB重复接触和分离而使全息图膜HF由于张力而变形的问题。

图8A是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的转录原理的剖视图。

参照图8A，在第三光LL3的中心轴线LLM与全息图膜HF相交的中心点n处，中心轴线LLM和全息图膜HF可以形成预定角度β。在实施例中，角度β可以是0°至180°。

在实施例中，第三光LL3可以同时到达全息图原版SSB的整个第一表面F1。第三光LL3可以均匀地到达全息图原版SSB的整个第一表面F1。在实施例中，第三光LL3所照射到的面积可以大于第一表面F1的面积。

在实施例中，曝光部114还可以包括保护全息图膜HF不受光的遮光层(未示出)。遮光层可以吸收曝光全息图膜HF和全息图原版SSB的除了第三光LL3之外的光。

全息图可以通过第三光LL3被记录在全息图膜HF中。更具体地，第三光LL3可以到达全息图原版SSB的第一表面F1。该光中的一部分可以直线传播以透射通过全息图原版SSB并从第二表面F2逸出。直线传播的光可以到达全息图膜HF。该光中的另一部分可以在全息图原版SSB处被衍射。衍射光可以从第二表面F2逃逸。衍射光可以到达全息图膜HF。衍射光的传播方向可以与直线传播的光的传播方向不同。在实施例中，衍射光的传播方向可以与直线传播的光的传播方向形成0°至180°的角度。衍射光可以与在全息图膜HF处直线传播的光产生干涉。可以将这两种光的干涉图案记录在全息图膜HF中。已经记录有光的干涉图案的全息图膜HF可以成为全息图。已经记录有光的干涉图案的全息图膜HF可以是透射型全息图。记录在全息图膜HF中的干涉图案可以与记录在全息图原版SSB中的干涉图案大致相同或相似。

已经记录有全息图的全息图膜HF可以通过辅助辊209和辅助辊210移动到联接辊501和联接辊502。

图8B是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的操作过程的剖视图。

参照图8B，曝光部114可以旋转。在实施例中，曝光部114可以沿顺时针方向和/或逆时针方向旋转。更具体地，曝光部114可以围绕中心点n旋转。当曝光部114旋转时，全息图原版SSB和全息图膜HF也可以旋转。中心轴线LLM和全息图膜HF可以在中心点n处形成预定角度β’。角度β和角度β’可以彼此不同。

曝光部114的旋转可以通过各种单元来执行。在实施例中，曝光部114可以由连接到中心点n的旋转轴旋转。该旋转轴可以直接/间接地连接到能够使旋转轴旋转的马达或类似装置。在实施例中，曝光部114可以通过能够使曝光部114旋转的各种单元来旋转。

当曝光部114旋转时，到达全息图膜HF和全息图原版SSB的第三光LL3的照射角度可以以各种方式改变。该光的各种干涉图案可以被记录在全息图膜HF中。可以制造各种透射型全息图。

根据本发明实施例的全息图转录设备1000，由于曝光部114被旋转以改变光的照射角度，因此可以通过使用一个全息图转录设备1000以各种角度制造全息图。由于曝光部114被移动，因此光源部113可以不必移动。为了使光源部113旋转，光源1131、滤光器1133和/或反射镜1135可以不必移动。可以省略基于光源部113的旋转而进行的光的重新对准操作。可以简化并快速地执行制造全息图的过程。可以降低全息图的制造成本。

根据本发明实施例的全息图转录设备1000可以包括所有的第一辊R1和第二辊R2。一个全息图转录设备1000可以选择性地执行通过全息图原版SSB反射光LL来记录全息图的过程和通过全息图原版SSB透射光LL来记录全息图的过程。反射型全息图和透射型全息图全都可以由一个全息图转录设备1000制造而成。可以不需要若干个转录设备来提供各种全息图。可以简化并快速地执行制造全息图的过程。可以降低全息图的制造成本。

图9是示出根据本发明的示例性实施例的全息图转录设备的供应装置的剖视图。

在下文中，为了便于描述，将省略与参照图1至图8B描述的特征大致相同或相似的特征。

参照图9，曝光部114可以在水平方向上延伸。也就是说，全息图原版SSB可以被设置为大致平行于地面。全息图膜HF可以平行于地面移动。光源部113可以从顶部向底部照射光。

尽管已经参照附图描述了本发明的实施例，但是应该理解，本发明不应限于这些实施例，本领域的普通技术人员可以在如权利要求所述的本发明的精神和范围内进行各种改变和修改。因此，上述公开的实施例应被认为是说明性的而非限制性的。