具体实施方式

以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要素的说明有时基于本发明的代表性实施方式而完成，但是本发明并不限定于这些实施方式。

另外，本发明中，表示数值范围的“～”是指将其前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义而使用。

本发明中“曝光”只要无特别限定，除了利用光的曝光以外，利用电子束、离子束等粒子束的描绘也包含于曝光中。并且，作为使用于曝光的光，可举出以水银灯的明线光谱、准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等活性光线或放射线。

并且，关于本发明中的基团(原子团)的标记，未记述经取代及未经取代的标记同时包含不具有取代基和具有取代基。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。

本发明中，化学式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。

本发明中，“(甲基)丙烯酸”是指包括丙烯酸及甲基丙烯酸该两者的概念中所使用的术语，“(甲基)丙烯酰基”是指用作包括丙烯酰基及甲基丙烯酰基该两者的概念的术语。

并且，本发明中的“工序”的术语不仅为独立的工序，而且即使在无法与其他工序明确区分的情况下，也实现该工序的所期望的目的，则包含在本术语中。并且，本发明中，“质量％”的含义与“重量％”的含义相同，“质量份”的含义与“重量份”的含义相同。

本发明中，只要没有特别记载，则波长的单位设为nm。

只要没有特别限定，则在本发明中组合物中的各成分或聚合物中的各构成单元可以单独包含1种，也可以并用2种以上。

另外，本发明中组合物中的各成分或聚合物中的各构成单元的量是指在组合物中存在多个各成分或聚合物中的各构成单元相当物质或构成单元的情况下，只要没有特别说明，则组合物中存在的相应的多个物质或聚合物中存在的相应的多个各构成单元的合计量。

另外，本发明中，2以上的优选方式的组合为更优选的方式。

本发明中所使用的化合物的重均分子量及数均分子量的测量方法中，能够通过凝胶渗透色谱(GPC)来测量，并且作为基于GPC的测量的聚苯乙烯换算值而定义。例如，能够通过使用HLC-8220(TOSOH Corporation制)、作为管柱使用TSKgel Super AWM-H(TOSOHCorporation制、6.0mmID×15.0cm)、作为洗提液使用10mmol/L溴化锂NMP(N-甲基吡咯啶酮)溶液来求出。

近红外线是指极大吸收波长领域为波长700nm～波长2,500nm的光(电磁波)。

本发明中，总固体成分是指从组合物的总组成去除溶剂的成分的总质量。本发明中的固体成分为25℃下的固体成分。

以下，对本发明进行详细说明。

(固化性组合物)

本发明的固化性组合物(以下，也简称为“组合物”。)，其包含红外线吸收剂及固化性化合物，该固化性组合物中，上述红外线吸收剂的波长400nm～1,300nm中的极大吸收波长中的吸光度X与超过波长700nm且波长1,300nm以下的范围的最大吸光度Y满足下述式1，以0.1μm～100μm中的任一厚度涂布上述固化性组合物时，在波长1,000nm～波长1,300nm之间存在透射率成为50％的波长Tb，将比上述波长Tb短200nm的波长设为Ta、将比上述波长Tb长200nm的波长设为Tc时的从Ta的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最小值A与从Tc的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最大值C的比即A/C为4.5以上。

Y＞X×0.5……式1

并且，本发明中的固化性组合物优选为用于红外线透射滤波器的形成的固化性组合物。

本发明人进行了深入研究的结果发现了，通过采用上述构成，能够提供一种抑制在固化后的固化膜中来自于可见光的干扰的产生、高湿灵敏度优异且角度依赖性优异且能够低背化的固化性组合物。

得到上述效果的详细机制虽不明确，但是可推测为如下。

固化性组合物包含红外线吸收剂且上述A/C为4.5以上，由此从可见光领域到红外线领域的吸光度的变化变得陡峭，因此认为抑制来自于可见光的干扰的产生。

并且，固化性组合物包含满足上述式1的红外线吸收剂且上述A/C为4.5以上，由此能够设为透射波长1,000nm～波长1,300nm的范围内的红外线的红外线吸收过滤器。例如与使用透射波长1,400nm以上的红外线的红外线吸收过滤器的情况相比，使用这些波长范围的红外线的情况下，基于水(水蒸气)的红外线吸收的影响变小，因此认为高湿灵敏度优异。

另外，包含本发明的红外线吸收剂的固化性组合物的固化膜中，例如与仅使用介电质多层膜的情况相比，认为角度依赖性优异。

此外，以0.1μm～100μm中的任一厚度涂布本发明的固化性组合物时存在Tb，因此与使用存在Tb的组合物的情况相比，以超过100μm的厚度涂布的情况下，认为低背化优异。

以下，对本发明的固化性组合物中的各要素进行详细说明。

＜波长特性＞

以0.1μm～100μm中的任一厚度涂布本发明的固化性组合物时，在波长1,000nm～波长1,300nm之间存在透射率成为50％的波长Tb，将比上述波长Tb短200nm的波长设为Ta、将比上述波长Tb长200nm的波长设为Tc时的从Ta的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最小值A与从Tc的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最大值C的比即A/C为4.5以上。

本发明中，例如“从Ta的波长至±50nm的范围的波长”是指“Ta-50nm以上且Ta+50nm以下的范围的波长”。

上述A/C优选为10以上，更优选为15以上，进一步优选为20以上。

上述最小值A优选为0.8以上，更优选为1.0以上，进一步优选为1.3以上。

上述最大值C优选为0.2以下，更优选为0.15以下，进一步优选为0.10以下。

本发明中，上述Ta、上述Tb及上述Tc中的吸光度及透射率能够通过调整固化性组合物中所包含的上述红外线吸收剂及在波长400nm～波长700nm具有极大吸收波长的化合物的种类及含量来设计。

任意波长λ中的吸光度Aλ通过以下式(1)来定义。

Aλ＝-log(Tλ)……(1)

Aλ为波长λ中的吸光度，Tλ为波长λ中的透射率。

关于吸光度的值，使用如下膜：以干燥后的膜厚成为预定膜厚的方式通过旋涂法等方法在玻璃基板上涂布固化性组合物，通过根据固化性组合物的适当的方法(曝光、加热等)进行固化及根据需要进行干燥来制备而成的膜。关于膜的膜厚，能够使用触针式表面形状测量器(ULVAC,INC.制DEKTAK150)对具有膜的基板进行测量。

并且，关于任意波长中的吸光度及透射率，能够使用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100)进行测量。

并且，只要没有特别记载，则本发明中的吸光度及透射率为均在25℃、相对湿度40％的条件下的值。

并且，作为本发明的固化性组合物的一方式，还可举出波长1,600nm中的透射率为20％以下(优选为10％以下)的方式。

通过使用这些固化性组合物，例如也能够形成透射波长1,000nm～波长1,300nm的光且对比上述范围短的波长及长的波长进行遮光的所谓的带通滤波器。

＜红外线吸收剂＞

本发明中所使用的红外线吸收剂为波长400nm～1,300nm中的极大吸收波长中的吸光度X与超过波长700nm且波长1,300nm以下的范围的最大吸光度Y满足下述式1的化合物，优选为波长400nm～1,300nm中的极大吸收波长中的吸光度X与超过波长950nm且波长1,300nm以下的范围的最大吸光度Y满足下述式1的化合物。

本发明中所使用的红外线吸收剂优选为上述X及上述Y满足下述式2的化合物，更优选为满足下述式3的化合物。

Y＞X×0.5……式1

Y＞X×0.7……式2

Y＞X×0.9……式3

并且，本发明中所使用的红外线吸收剂优选在波长350nm～波长1,500nm的范围内的波长950nm～波长1,300nm的范围内具有吸收极大值。

本发明中，“在波长350～波长1,300nm的范围内的波长Anm～波长Bnm的范围具有吸收极大值”是指波长350nm～波长1,300nm的范围内的吸收光谱中在波长Anm～波长Bnm的范围具有显现最大吸光度的波长。

本发明中所使用的红外线吸收剂并无特别限定，但是优选为选自包括花青化合物、酞菁化合物、方酸化合物、克酮鎓化合物、二亚胺鎓化合物、苝化合物、吡咯并吡咯化合物、金属络合物及化合物半导体的组中的至少1种化合物，更优选包含花青化合物及方酸化合物的组中的至少1种，进一步优选包含花青化合物。

〔花青化合物〕

作为优选的花青化合物，可举出由下述式(I)表示的化合物。

[化学式1]

式(I)中，L^C1表示亚烷基，R^C11及R^C12分别独立地表示氢原子、卤素原子或单价的有机基，R^C11与R^C12可以键结而形成环结构，R^C13及R^C14分别独立地表示氢原子、卤素原子或单价的有机基，R^C13与R^C14可以键结而形成环结构，R^C15表示烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或氢原子，R^C16及R^C17分别独立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，X¹表示电荷的中和所需的阴离子或阳离子，除了由式(I)中的X¹表示的结构以外的结构为电性中性的情况下，X¹也可以不存在。

式(I)中，L^C1表示亚烷基，优选为亚乙基或亚丙基。上述L^C1可以具有取代基，作为取代基可举出烷基，可优选地举出碳数1～4的烷基。

式(I)中，R^C11及R^C12分别独立地表示氢原子、卤素原子或单价的有机基，优选为氢原子、烷基或烷氧基，更优选为氢原子、碳数1～10的烷基或碳数1～10的烷氧基，进一步优选为氢原子、碳数1～4的烷基或碳数1～4的烷氧基。

并且，优选R^C11为上述烷基或上述烷氧基，R^C12为氢原子。

作为R^C11及R^C12所形成的环结构，优选为5员环结构或6员环结构，更优选为5员环结构，进一步优选为四氢呋喃环结构。上述环结构可以具有取代基，作为取代基可举出烷基，可优选地举出碳数1～4的烷基。

式(I)中，R^C13及R^C14分别独立地表示氢原子、卤素原子或单价的有机基，优选为氢原子、烷基或烷氧基，更优选为氢原子、碳数1～10的烷基或碳数1～10的烷氧基，进一步优选为氢原子、碳数1～4的烷基或碳数1～4的烷氧基。

并且，优选R^C13为上述烷基或上述烷氧基，R^C14为氢原子。

作为R^C13及R^C14所形成的环结构，优选为5员环结构或6员环结构，更优选为5员环结构，进一步优选为四氢呋喃环结构。上述环结构可以具有取代基，作为取代基可举出烷基，可优选地举出碳数1～4的烷基。

式(I)中，R^C15表示烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或氢原子，优选为烷基、芳基或氢原子，更优选为芳基或氢原子。作为上述烷基，优选为碳数1～20的烷基，更优选为碳数1～12的烷基，进一步优选为碳数1～8的烷基。作为上述烯基，优选为碳数2～20的烯基，更优选为碳数2～12的烯基，进一步优选为碳数2～8的烯基。作为上述炔基，优选为碳数2～20的炔基，更优选为碳数2～12的炔基，进一步优选为碳数2～8的炔基。

作为上述芳烷基，优选为碳数7～20的芳烷基，更优选为碳数7～13的芳烷基。作为上述芳基，优选为碳数6～20的芳基，更优选为碳数6～12的芳基。

本发明中，只要没有特别记载，则烷基、烯基、炔基分别可以为直链状，也可以为支链状，也可以具有环结构。

式(I)中，R^C16及R^C17分别独立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，优选为烷基。作为这些基团的优选方式，与R^C15中的烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基的优选方式相同。并且，上述烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基还可以具有取代基。

作为取代基，可举出卤素原子、羟基、羧基、磺酸基、烷氧基、胺基等，优选为羧基及磺酸基，尤其优选为磺酸基。羧基及磺酸基可以解离氢原子，也可以为盐的状态。

X¹表示电荷的中和所需的阴离子或阳离子。

作为阴离子，可举出卤化物离子(Cl^-、Br^-、I^-)、对甲苯磺酸离子、乙基硫酸离子、PF₆ ^-、BF₄ ^-、ClO₄ ^-、三(卤代烷基磺酰基)甲基化物阴离子(例如、(CF₃SO₂)₃C^-)、二(卤代烷基磺酰基)酰亚胺阴离子(例如(CF₃SO₂)₂N^-)、四氰基硼酸盐阴离子等。

作为阳离子，可举出碱金属离子、碱土类金属离子、过渡金属离子、其他金属离子(铵离子、三乙基铵离子、三丁基铵离子、吡啶鎓离子、四丁基铵离子、胍离子、四甲基胍离子、二吖双环十一碳烯等。

〔具体例〕

作为本发明中所使用的红外线吸收剂的具体例，可举出下述化合物，但是并不限定于此。

[化学式2]

并且，作为红外线吸收剂可以使用市售品，作为市售品，可举出Spectrum InfoInc.制S09425、S04046、S04290、S12008、S01983等。

〔含量〕

本发明的组合物中，红外线吸收剂的含量优选为组合物的总固体成分的0.1质量％～95质量％。上述含量的上限更优选为75质量％以下，进一步优选为50质量％以下。上述含量的下限更优选为0.2质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上。

＜不满足式1的红外线吸收剂＞

本发明的固化性组合物还可以包含不满足式1的红外线吸收剂(以下，也称为“其他红外线吸收剂”。)。其他红外线吸收剂为极大吸收波长中的吸光度X与超过波长950nm且波长1,300nm以下的范围的最大吸光度Y不满足上述式1的化合物。

并且，其他红外线吸收剂优选为在波长700nm～波长950nm的波长范围具有极大吸收波长的化合物。

并且，本发明中所使用的其他红外线吸收剂优选为在波长350nm～波长1,300nm的范围内的波长700nm～波长950nm的范围内具有吸收极大值，更优选为在波长350nm～波长1,300nm的范围内的波长800nm～波长950nm的范围内具有吸收极大值。

另外，作为其他红外线吸收剂，通过使用在波长350～波长2,000nm的范围内的波长1,500nm～波长2,000nm的范围内(优选为波长1,600nm～波长1，900nm的范围内)具有吸收极大值的化合物，也能够将本发明的固化性组合物用于带通滤波器的形成用。

本发明中所使用的其他红外线吸收剂并无特别限定，但是可举出吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物、吡喃鎓化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、二亚铵化合物、硼化镧、金属平板粒子、量子点、含希土类原子的陶瓷等，优选包含选自包括吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物、吡喃鎓化合物及二亚铵化合物的组中的至少1种，更优选包含选自包括吡咯并吡咯化合物、吡喃鎓化合物、方酸化合物及花青化合物的组中的至少1种。

〔吡咯并吡咯化合物〕

作为吡咯并吡咯化合物，并无特别限制，能够使用具有公知的吡咯并吡咯结构的红外线吸收剂。

本发明中所使用的吡咯并吡咯化合物优选为形成J缔合体。

吡咯并吡咯化合物所形成的J缔合体的滑流角优选为1°～54°，更优选为2°～45°，进一步优选为3°～40°。

吡咯并吡咯化合物所形成的J缔合体的跃迁矩间距离优选为更优选为另外，

并且，本发明中所使用的吡咯并吡咯化合物优选为具有在吡咯并吡咯环的氮原子上具有硼原子的基团，并且，上述氮原子与上述硼原子优选为直接键结。通过在与上述氮原子直接键结的上述硼原子上具有取代基，作为在分子间控制吡咯并吡咯环结构的平面的重叠的位阻效应基团而发挥功能，优选地形成J缔合体。

并且，J缔合体可以为包括不同的2个以上的色素化合物(红外线吸收剂)的J缔合体即混合J缔合体。通过形成混合J缔合体，具有能够通过2种色素化合物的混合比例任意控制极大吸收波长(λmax)的效果。混合J缔合体的各色素化合物的比例能够任意选择，但是包括色素A及色素B该2种的情况下，色素A与色素B的比例(摩尔比)优选为1:99～99:1，更优选为10:90～90:10。

二次吸收的吸光度与极大吸收波长(λmax)中的吸光度的比(二次吸收的吸光度/极大吸收波长中的吸光度)优选为0～0.1，更优选为0～0.07，进一步优选为0～0.05。其中，上述二次吸收的吸光度为400nm中的吸光度。

极大吸收波长(λmax)的半值宽并无特别限定，但是优选为5nm～300nm。

图3～图7中示出吡咯并吡咯化合物的吸收光谱的一例。另外，图4～图7中的PP-a～PP-t均为吡咯并吡咯化合物。并且，图3～图7中的纵轴表示吸光度(Absobance Unit)，横轴表示波长(nm)。

图3是分别表示吡咯并吡咯化合物的一例中的溶液中与膜中的吸收光谱的图。

图4是分别表示吡咯并吡咯化合物PP-a～PP-h中的溶液中的吸收光谱的图。

图5是分别表示吡咯并吡咯化合物PP-i～PP-p中的膜中的吸收光谱的图。

图6是表示使吡咯并吡咯化合物PP-q及～PP-r的含有质量比产生变化且基于J缔合体的形成的吸收光谱变化的图。

图7是表示使吡咯并吡咯化合物PP-s及～PP-t的含有质量比产生变化且基于J缔合体的形成的吸收光谱变化的图。

并且，作为吡咯并吡咯化合物，优选为由式(PP)表示的化合物。

[化学式3]

式(PP)中，R^1a及R^1b分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，R²及R³分别独立地表示氢原子或取代基，R²与R³可以彼此键结而形成环，R⁴分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、-BR^4AR^4B或金属原子，R⁴与选自R^1a、R^1b及R³的至少一个可以共价键结或配位键结，R^4A及R^4B分别独立地表示取代基。关于式(PP)的详细内容，能够参考日本特开2009-263614号公报的0017～0047段、日本特开2011-068731号公报的0011～0036段、国际公开第2015/166873号的0010～0024段的记载，这些内容被编入到本说明书中。

式(PP)中，R^1a及R^1b优选分别独立地为芳基或杂芳基，更优选为芳基。并且，R^1a及R^1b所表示的烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出后述的取代基T。

式(PP)中，R²及R³分别独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可举出后述的取代基T。R²及R³的至少一个优选为电子吸引基，更优选为氰基、羧基、酰基、烷氧羰基、芳基氧羰基、胺甲酰基、烷基羰基、芳基羰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基，进一步优选为氰基。

式(PP)中，R²表示电子吸引基(优选为氰基)，R³优选表示杂芳基。杂芳基优选为5员环或6员环。并且，杂芳基优选为单环或缩合环，优选单环或缩合数为2～8的缩合环，更优选单环或缩合数为2～4的缩合环。构成杂芳基的杂原子的数优选为1～3，更优选为1～2。作为杂原子，例如可例示氮原子、氧原子、硫原子。杂芳基优选具有1个以上氮原子。式(PP)中的2个R²彼此可以相同也可以不同。并且，式(PP)中的2个R³彼此可以相同也可以不同。

式(PP)中，R⁴为优选氢原子、烷基、芳基、杂芳基或由-BR^4AR^4B表示的基团，更优选为氢原子、烷基、芳基或由-BR^4AR^4B表示的基团，进一步优选为由-BR^4AR^4B表示的基团。作为R^4A及R^4B所表示的取代基，优选为卤素原子、烷基、烷氧基、芳基或杂芳基，更优选为烷基、芳基或杂芳基，尤其优选为芳基。这些基团还可以具有取代基。式(PP)中的2个R⁴彼此可以相同也可以不同。R^4A与R^4B可以彼此键结而形成环。

作为由式(PP)表示的化合物的具体例，可举出下述化合物。以下结构式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。并且，作为吡咯并吡咯化合物，可举出日本特开2009-263614号公报的0016～0058段中所记载的化合物、日本特开2011-068731号公报的0037～0052段中所记载的化合物等，这些内容被编入到本说明书中。并且，作为吡咯并吡咯化合物的具体例，也可优选地举出后述的实施例中所记载的IP-1及IP-2。

[化学式4]

[化学式5]

[化学式6]

[化学式7]

[化学式8]

[化学式9]

〔花青化合物〕

花青化合物优选为由式(C)表示的化合物。

[化学式10]

式(C)中，Z¹及Z²分别独立地为形成可以缩环的5员或6员的含氮杂环的非金属原子团，

R¹⁰¹及R¹⁰²分别独立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，

L¹表示具有奇数个次甲基的次甲基链，

a及b分别独立地为0或1，

a为0的情况下，碳原子与氮原子通过双键键结，b为0的情况下，碳原子与氮原子通过单键键结，

由式中的Cy表示的部位为阳离子部的情况下，X¹表示阴离子，c表示为了取得电荷平衡性而所需的数，由式中的Cy表示的部位为阴离子部的情况下，X¹表示阳离子，c表示为了取得电荷平衡性而所需的数，由式中的Cy表示的部位的电荷在分子内进行中和的情况下，c为0。

作为花青化合物，可举出日本特开2009-108267号公报的0044～0045段中所记载的化合物、日本特开2002-194040号公报的0026～0030段中所记载的化合物、日本特开2015-172004号公报中所记载的化合物、日本特开2015-172102号公报中所记载的化合物、日本特开2008-088426号公报中所记载的化合物、日本特开2017-031394号公报中所记载的化合物等，这些内容被编入到本说明书中。

〔方酸化合物〕

作为方酸化合物，优选为由下述式(SQ)表示的化合物。

[化学式11]

式(SQ)中，A¹及A²分别独立地表示芳基、杂芳基或由式(A-1)表示的基团；

[化学式12]

式(A-1)中，Z¹表示形成含氮杂环的非金属原子团，R²表示烷基、烯基或芳烷基，d表示0或1，波浪线表示连接键。关于式(SQ)的详细内容，能够参考日本特开2011-208101号公报的0020～0049段、日本专利第6065169号公报的0043～0062段、国际公开第2016/181987号的0024～0040段的记载，这些内容被编入到本说明书中。

另外，式(SQ)中阳离子如下非定域化而存在。

[化学式13]

方酸化合物优选为由下述式(SQ-1)表示的化合物。

[化学式14]

环A及环B分别独立地表示芳香族环，

X^A及X^B分别独立地表示取代基，

G^A及G^B分别独立地表示取代基，

kA表示0～n_A的整数，kB表示0～n_B的整数，

n_A及n_B分别表示能够在环A或环B上取代的最大的整数，

X^A与G^A、X^B与G^B、X^A与X^B可以彼此键结而形成环，G^A及G^B分别存在多个的情况下，可以彼此键结而形成环结构。

作为G^A及G^B所表示的取代基，可举出后述的取代基T。

作为X^A及X^B所表示的取代基，优选为具有活性氢的基团，更优选为-OH、-SH、-COOH、-SO₃H、-NR^X1R^X2、-NHCOR^X1、-CONR^X1R^X2、-NHCONR^X1R^X2、-NHCOOR^X1、-NHSO₂R^X1、-B(OH)₂及-PO(OH)₂，进一步优选为-OH、-SH及-NR^X1R^X2。R^X1及R^X2分别独立地表示氢原子或取代基。作为X^A及X^B中的取代基R^X1及R^X2，可举出烷基、芳基或杂芳基，优选为烷基。

环A及环B分别独立地表示芳香族环。芳香族环可以为单环，也可以为缩合环。作为芳香族环的具体例，可举出苯环、萘环、戊搭烯环、茚环、薁环、庚搭烯环、茚烯环、苝环、稠五苯环、苊烯环、菲环、蒽环、稠四苯环、环、三亚苯环、芴环、联苯环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、咪唑环、噁唑环、噻唑环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、吲哚嗪环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环、异苯并呋喃环、喹嗪环、喹啉环、酞嗪环、萘啶环、喹噁啉环、喹唑啉环、异喹啉环、咔唑环、啡啶环、吖啶环、啡啉环、噻蒽环、色烯环、口山口星环、啡噁噻环、啡噻嗪环及啡嗪环，优选为苯环或萘环。芳香族环可以为未经取代，也可以具有取代基。作为取代基，可举出后述的取代基T。

X^A与G^A、X^B与G^B、X^A与X^B可以彼此键结而形成环，G^A及G^B分别存在多个的情况下，可以彼此键结而形成环。作为环，优选为5员环或6员环。环可以为单环，也可以为缩合环。

X^A与G^A、X^B与G^B、X^A与X^B、G^A彼此或G^B彼此键结而形成环的情况下，这些可以直接键结而形成环，也可以经由亚烷基、-CO-、-O-、-NH-、-BR-及包括这些组合的2价的连结基键结而形成环。R表示氢原子或取代基。作为取代基，可举出后述的取代基T，优选为烷基或芳基。

kA表示0～n_A的整数，kB表示0～n_B的整数，n_A表示能够在环A上取代的最大的整数，n_B表示能够在环B上取代的最大的整数。kA及kB优选分别独立地为0～4，更优选为0～2，尤其优选为0～1。

方酸化合物优选为由下述式(SQ-10)、式(SQ-11)或式(SQ-12)表示的化合物。

[化学式15]

[化学式16]

[化学式17]

式(SQ-10)～(SQ-12)中，X独立地为1个以上的氢原子可以被卤素原子、碳数1～12的烷基或烷氧基取代的由式(1)或式(2)表示的2价的有机基。

-(CH₂)_n1-……(1)

式(1)中，n1为2或3。

-(CH₂)_n2-O-(CH₂)_n3-……(2)

式(2)中，n2及n3分别独立地为0～2的整数，n2+n3为1或2。

R¹及R²分别独立地表示烷基或芳基。烷基及芳基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出后述的取代基T。

R³～R⁶分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基或烷氧基。

n为2或3。

作为方酸化合物，可举出下述结构的化合物。并且，可举出日本特开2011-208101号公报的0044～0049段中所记载的化合物、日本专利第6065169号公报的0060～0061段中所记载的化合物、国际公开第2016/181987号的0040段中所记载的化合物、国际公开第2013/133099号中所记载的化合物、国际公开第2014/088063号中所记载的化合物、日本特开2014-126642号公报中所记载的化合物、日本特开2016-146619号公报中所记载的化合物、日本特开2015-176046号公报中所记载的化合物、日本特开2017-025311号公报中所记载的化合物、国际公开第2016/154782号中所记载的化合物、日本专利5884953号公报中所记载的化合物、日本专利6036689号公报中所记载的化合物、日本专利5810604号公报中所记载的化合物、日本特开2017-068120号公报中所记载的化合物等，这些内容被编入到本说明书中。

[化学式18]

〔吡喃鎓化合物〕

作为吡喃鎓化合物，可举出下述结构的化合物。并且，作为吡喃鎓化合物，可举出美国专利第3,881,924号记载的被取代的芳基苯并(硫)吡喃盐、日本特开昭57-142645号记载的三次甲基噻喃鎓盐、日本特开昭58-181051号公报、日本特开昭58-220143号公报、日本特开昭59-041363号公报、日本特开昭59-084248号公报、日本特开昭59-084249号公报、日本特开昭59-146063号公报、日本特开昭59-146061号公报中所记载的吡喃鎓类化合物、日本特开昭59-216146号公报记载的花青染料、美国专利第4,283,475号中所记载的五次甲基噻喃鎓盐等或日本特公平5-013514号公报、日本特公平5-019702号公报中所记载的吡喃鎓化合物等。

[化学式19]

〔酞菁化合物、萘酞菁化合物〕

作为酞菁化合物，例如可举出日本特开2012-77153号公报的0093段中所记载的化合物、日本特开2006-343631号公报中所记载的酞菁氧钛、日本特开2013-195480号公报的0013～0029段中所记载的化合物、日本专利第6081771号公报中所记载的钒酞菁，这些内容被编入到本说明书中。并且，作为酞菁化合物，也能够使用下述结构的化合物。作为萘酞菁化合物，例如可举出日本特开2012-077153号公报的0093段中所记载的化合物，该内容被编入到本说明书中。

[化学式20]

本发明中，作为酞菁化合物，也能够使用市售品。例如，可举出SDO-C33(ArimotoChemical Co.Ltd.制)、EXColorIR-14、EXColorIR-10A、EXColorTX-EX-801B、EXColorTX-EX-805K(Nippon Shokubai Co.,Ltd.制)、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839(HAKKO Chemical Co.,Ltd.制)、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036(EPOLIN INC.制)、PRO-JET825LDI(FUJIFILMCo.,Ltd.制)、NK-3027、NK-5060(HAYASHIBARA CO.,LTD.制)、YKR-3070(MitsuiChemicals,Inc.制)等。

〔二亚铵化合物〕

作为二亚铵化合物，优选为由下述式(Im)表示的化合物。

[化学式21]

式(Im)中，R¹¹～R¹⁸分别独立地表示烷基或芳基，V¹¹～V¹⁵分别独立地表示烷基、芳基、卤素原子、烷氧基或氰基，X表示相对阴离子，c表示为了取得电荷平衡性而所需的数，n1～n5分别独立地为0～4。

R¹¹～R¹⁸分别独立地表示烷基或芳基。烷基的碳数优选为1～20，更优选为1～12，尤其优选为1～8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种，但是优选为直链或支链。芳基的碳数优选为6～25，更优选为6～15，进一步优选为6～12。烷基及芳基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出以下取代基T中所说明的基团。

V¹¹～V¹⁵分别独立地表示烷基、芳基、卤素原子、烷氧基或氰基。作为卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。烷基的碳数优选为1～20，更优选为1～12，尤其优选为1～8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种，但是优选为直链或支链，尤其优选为直链。芳基的碳数优选为6～25，进一步优选为6～15，更优选为6～12。烷氧基的碳数优选为1～20，更优选为1～12，尤其优选为1～8。烷氧基可以为直链、支链、环状中的任一种，但是优选为直链或支链，尤其优选为直链。

n1～n5分别独立地为0～4。n1～n4优选为0～2，更优选为0或1。n5优选为0～3，更优选为0～2。

X表示相对阴离子。作为相对阴离子的例，可举出卤化物离子(Cl^-、Br^-、I^-)、对甲苯磺酸离子、乙基硫酸离子、SbF₆ ^-、PF₆ ^-、BF₄ ^-、ClO₄ ^-、三(卤代烷基磺酰基)甲基化物阴离子(例如(CF₃SO₂)₃C^-)、二(卤代烷基磺酰基)酰亚胺阴离子(例如(CF₃SO₂)₂N^-)、四氰基硼酸盐阴离子等。

c表示为了取得电荷平衡性而所需的数，例如优选为2。

(取代基T)

烷基(优选为碳数1～30的烷基)、烯基(优选为碳数2～30的烯基)、炔基(优选为碳数2～30的炔基)、芳基(优选为碳数6～30的芳基)、胺基(优选为碳数0～30的胺基)、烷氧基(优选为碳数1～30的烷氧基)、芳氧基(优选为碳数6～30的芳氧基)、杂芳氧基、酰基(优选为碳数1～30的酰基)、烷氧羰基(优选为碳数2～30的烷氧羰基)、芳基氧羰基(优选为碳数7～30的芳基氧羰基)、酰氧基(优选为碳数2～30的酰氧基)、酰胺基(优选为碳数2～30的酰胺基)、烷氧基羰基胺基(优选为碳数2～30的烷氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(优选为碳数7～30的芳氧基羰基胺基)、胺磺酰基(优选为碳数0～30的胺磺酰基)、胺甲酰基(优选为碳数1～30的胺甲酰基)、烷硫基(优选为碳数1～30的烷硫基)、芳硫基(优选为碳数6～30的芳硫基)、杂芳硫基(优选为碳数1～30)、烷基磺酰基(优选为碳数1～30)、芳基磺酰基(优选为碳数6～30)、杂芳基磺酰基(优选为碳数1～30)、烷基亚磺酰基(优选为碳数1～30)、芳基亚磺酰基(优选为碳数6～30)、杂芳基亚磺酰基(优选为碳数1～30)、脲基(优选为碳数1～30)、羟基、羧基、磺酸基、磷酸基、羧酸酰胺基(优选为由-NHCOR^A1表示的基团，R^A1表示烃基或杂环基。烃基及杂环基还可以具有取代基。作为取代基，优选为卤素原子，更优选为氟原子。)、磺酸酰胺基(优选为由-NHSO₂R^A2表示的基团。R^A2表示烃基或杂环基。烃基及杂环基还可以具有取代基。作为取代基，优选为卤素原子，更优选为氟原子。)、酰亚胺酸基(优选为由-SO₂NHSO₂R^A3、-CONHSO₂R^A4、-CONHCOR^A5或-SO₂NHCOR^A6表示的基团。R^A3～R^A6分别独立地表示烃基或杂环基。烃基及杂环基还可以具有取代基。)、巯基、卤素原子、氰基、烷基亚磺酸基、芳基亚磺酸基、肼基、亚胺基、杂芳基(优选为碳数1～30)。

这些基团为还能够取代的基团的情况下，还可以具有取代基。作为取代基，可举出上述的取代基T中所说明的基团。

作为二亚铵化合物的具体例，可举出以下所示的化合物。表中的λmax为相同化合物的极大吸收波长。并且，作为二亚铵化合物的市售品，可举出IRG-068(Nippon KayakuCo.,Ltd.制)等。

[化学式22]

〔金属平板粒子〕

作为用作其他红外线吸收剂的金属平板粒子的材料，优选为银、金、铝、铜、铑、镍、铂等，更优选为银。作为金属平板粒子，只要为由2个主平面构成的粒子则并无特别限制，能够根据目的适当选择，例如可举出六边形状、圆形状、三边形状等。这些中，在可见透光率高的方面而言，更优选为六边形状以上的多边形状～圆形状，尤其优选为六边形状或圆形状。金属平板粒子的厚度优选为20nm以下，更优选为14nm以下。作为金属平板粒子的纵横比，并无特别限制，能够根据目的适当选择，但是从红外区域(例如超过波长1,000nm且1,200nm以下的范围的光)的反射率变高的观点考虑，优选为6～40，更优选为8～30。所述的纵横比是指将金属平板粒子的一次粒子的平均粒径(平均等效圆直径)除以金属平板粒子的平均粒子厚度的值。平均粒子厚度相当于金属平板粒子的主平面间距离，能够通过原子力显微镜(AFM)来测量。关于金属平板粒子的详细内容，能够参考日本特开2013-195563号公报的0017～0027段的记载，该内容被编入到本说明书中。

〔量子点〕

作为用作其他红外线吸收剂的量子点的材料，可举出FeSi、Ge、InN、InAs、PbTe、PbSe、InSb等。作为量子点的形状，并无特别限定，可举出真球状、燐片状、板状、椭圆球状、不定形。

〔含希土类原子的陶瓷〕

作为用作其他红外线吸收剂的含希土类原子的陶瓷，可举出包含Yb、Ho、Tm等希土类原子的陶瓷。作为具体例，可举出包含Yb及Ho的Y₂O₃、包含Yb及Tm的Y₂O₃等。

〔含量〕

本发明的组合物中，其他红外线吸收剂的含量优选为组合物的总固体成分的0.5～30质量％。上述含量的上限更优选为20质量％以下，进一步优选为15质量％以下。上述含量的下限更优选为1质量％以上，进一步优选为2质量％以上。

＜在波长400nm～波长700nm具有极大吸收波长的化合物＞

本发明的固化性组合物优选还包含在波长400nm～波长700nm具有极大吸收波长的化合物(以下，也称为“可见光吸收化合物”。)。

并且，本发明的固化性组合物优选还包含可见光吸收化合物，将比上述波长Tb短150nm的波长设为Ta'时的波长400nm以上且上述Ta'以下的范围的吸光度的最小值A'与上述最大值C的比即A'/C为4.5以上。

上述A'/C优选为10以上，更优选为15以上，进一步优选为20以上。

上述最小值A'优选为0.8以上，更优选为1.0以上，进一步优选为1.3以上。

〔可见光吸收化合物〕

可见光吸收化合物优选为吸收从紫色到红色的波长区域的光的化合物。

可见光吸收化合物优选为对波长450nm～波长650nm(优选为波长400nm～波长700nm)的波长的光进行遮光的着色剂。

可见光吸收化合物优选在波长400nm以上且波长700nm以下范围具有极大吸收波长。

可见光吸收化合物优选在波长350nm～1,300nm的范围内的波长400nm～波长700nm的范围内具有吸收极大值。

可见光吸收化合物优选为相对于波长1,000nm～波长1,300nm的范围的光的透射性高的化合物。

本发明中，固化性组合物优选包含2种以上可见光吸收化合物。

本发明中，可见光吸收化合物优选满足以下(1)及(2)的至少其中一个要素。

(1)：包含2种以上的彩色着色剂。更优选为通过2种以上的彩色着色剂的组合形成黑色。

(2)：包含有机类黑色着色剂。(2)的方式中，优选还含有彩色着色剂。

另外，本发明中，彩色着色剂是指除了白色着色剂及黑色着色剂以外的着色剂。彩色着色剂优选为在波长350～波长1,300nm的范围内的波长400nm以上波长700nm以下范围具有吸收极大值的着色剂。

并且，本发明中，作为可见光吸收化合物的有机类黑色着色剂是指吸收可见光线但是红外线的至少一部分透过的材料。然而，本发明中，作为可见光吸收化合物的有机类黑色着色剂不包含吸收可见光线及红外线该两者的黑色着色剂，例如碳黑或钛黑。有机类黑色着色剂优选为在波长400nm以上且波长700nm以下的范围具有极大吸收波长的着色剂。优选在波长350～波长1,300nm的范围内的波长400nm以上且波长700nm以下范围具有吸收极大值的着色剂。

可见光吸收化合物中，优选例如波长450nm～波长650nm的范围内的吸光度的最小值A1与波长1,000nm～波长1,500nm的范围内的吸光度的最大值B1的比即A1/B1为4.5以上。

可见光吸收化合物的上述分光特性(A1/B1)可以由1种可见光吸收化合物满足，也可以由多个可见光吸收化合物的组合满足。例如，上述(1)的方式的情况下，优选组合多个彩色着色剂而满足上述分光特性。并且，上述(2)的方式的情况下，有机类黑色着色剂可以满足上述分光特性。并且，也可以由有机类黑色着色剂与彩色着色剂的组合满足上述分光特性。

-彩色着色剂-

本发明中，彩色着色剂优选为选自包括红色着色剂、蓝色着色剂、绿色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂及茶色着色剂的组中的至少1种着色剂。

本发明中，彩色着色剂可以为颜料，也可以为染料。优选为颜料。

颜料的平均粒径(r)优选为满足20nm≦r≦300nm，更优选为满足25nm≦r≦250nm，尤其优选为满足30nm≦r≦200nm是优选的。在此所谓“平均粒径”是指关于聚合有颜料的一次粒子的二次粒子的平均粒径，是指数平均粒径。

并且，能够使用的颜料的二次粒子的粒径分布(以下，也简称为“粒径分布”。)在(平均粒径±100)nm中所包含的二次粒子为整体的70质量％以上、优选为80质量％以上是优选的。另外，二次粒子的平均粒径及粒径分布能够使用动态光散射法来测量。

作为将市售的颜料与根据情况而使用的其他颜料(二次粒子的平均粒径通常超过300nm)一同优选为与树脂及有机溶剂混合而成的颜料混合液，例如使用珠磨、辊磨等粉碎机，进行粉碎的同时混合及分散，由此能够制备具有上述的平均粒径及粒径分布的颜料。如上述得到的颜料通常为颜料分散液的方式。

颜料优选为有机颜料，能够举出以下。但是，本发明并不限定于这些。

比色指数(C.I.)颜料黄(Pigment Yellow)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等(以上为黄色颜料)；

C.I.颜料橙(Pigment Orange)2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等(以上为橙色颜料)；

C.I.颜料红(Pigment Red)1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279、294(二苯并哌喃类、Organo Ultamarine，Bluish Red)等(以上为红色颜料)；

C.I.颜料绿(Pigment Green)7、10、36、37、58、59等(以上为绿色颜料)；

C.I.颜料紫(Pigment Violet)1、19、23、27、32、37、42等(以上为紫色颜料)；

C.I.颜料蓝(Pigment Blue)1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、29、60、64、66、79、80、87(单偶氮类)、88(次甲基/聚次甲基类)等(以上为蓝色颜料)；

这些有机颜料能够单独使用或将多种组合而使用。

作为染料并无特别限制，能够使用公知的染料。作为化学结构，能够使用吡唑偶氮类、苯胺基偶氮类、三芳基甲烷类、蒽醌类、蒽吡啶酮类、苯亚甲基类、氧杂菁类、吡唑并三唑偶氮类、吡啶酮偶氮类、花青类、啡噻嗪类、吡咯并吡唑甲亚胺类、二苯并哌喃类、酞菁类、苯并哌喃类、靛蓝类、吡咯亚甲基类等染料。并且，也可以使用这些染料的多聚体。并且，也能够使用日本特开2015-028144号公报、日本特开2015-034966号公报中所记载的染料。

作为由2种以上的彩色着色剂的组合形成黑色的情况的彩色着色剂的组合，例如可举出以下。

(1)含有黄色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。

(2)含有黄色着色剂、蓝色着色剂及红色着色剂的方式。

(3)含有黄色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。

(4)含有黄色着色剂及紫色着色剂的方式。

(5)含有绿色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。

(6)含有紫色着色剂及橙色着色剂的方式。

(7)含有绿色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。

(8)含有绿色着色剂及红色着色剂的方式。

作为上述(1)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.Pigment Yellow139或185、作为蓝色颜料的C.I.Pigment Blue 15:6或C.I.PigmentBlue 16、作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet 23、作为红色颜料的C.I.Pigment Red 254或224的方式。

作为上述(2)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.Pigment Yellow139或185、作为蓝色颜料的C.I.Pigment Blue 15:6或C.I.Pigment Blue 16、作为红色颜料的C.I.Pigment Red 254或224的方式。

作为上述(3)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.PigmentYellow139或185、作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet 23、作为红色颜料的C.I.Pigment Red254或224的方式。

作为上述(4)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.Pigment Yellow139或185、作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet 23的方式。

作为上述(5)的方式的具体例，可举出含有作为绿色颜料的C.I.PigmentGreen 7或36、作为蓝色颜料的C.I.Pigment Blue 15:6、作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet 23、作为红色颜料的C.I.Pigment Red 254或224的方式。

作为上述(6)的方式的具体例，可举出含有作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet23、作为橙色颜料的C.I.Pigment Orange 71的方式。

作为上述(7)的具体例，可举出含有作为绿色颜料的C.I.Pigment Green7或36、作为紫色颜料的C.I.Pigment Violet 23、作为红色颜料的C.I.Pigment Red 254或224的方式。

作为上述(8)的具体例，可举出含有作为绿色颜料的C.I.Pigment Green7或36、作为红色颜料的C.I.Pigment Red 254或224的方式。

作为各着色剂的比例(质量比)，例如优选为以下比例。

[化学式23]

上述No.1中，更优选黄色着色剂为0.1～0.3，更优选蓝色着色剂为0.1～0.5，更优选紫色着色剂为0.01～0.2，更优选红色着色剂为0.1～0.5。上述No.2中，更优选黄色着色剂为0.1～0.3，更优选蓝色着色剂为0.1～0.5，更优选红色着色剂为0.1～0.5。

-有机类黑色着色剂-

作为有机类黑色着色剂，例如可举出双苯并呋喃酮化合物、甲亚胺化合物、苝化合物、偶氮类化合物等，优选为双苯并呋喃酮化合物或苝化合物。作为双苯并呋喃酮化合物，可举出日本特表2010-534726号公报、日本特表2012-515233号公报、日本特表2012-515234号公报、国际公开第2014/208348号、日本特表2015-525260号公报等中所记载的化合物，例如能够作为BASF公司制的“Irgaphor Black”而获得。作为苝化合物，可举出C.I.PigmentBlack31、32等。作为甲亚胺化合物，可举出日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-034664号公报等中所记载，例如能够作为Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.,Ltd.制的“CHROMOFINEBLACK A1103”而获得。

本发明中，双苯并呋喃酮化合物优选为由下述式表示的化合物及这些混合物。

[化学式24]

式中，R¹及R²分别独立地表示氢原子或取代基，R³及R⁴分别独立地表示取代基，a及b分别独立地表示0～4的整数，a为2以上的情况下，多个R³可以相同也可以不同，多个R³可以键结而形成环，b为2以上的情况下，多个R⁴可以相同也可以不同，多个R⁴也可以键结而形成环。

R¹～R⁴所表示的取代基表示卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、杂芳基、-OR³⁰¹、-COR³⁰²、-COOR³⁰³、-OCOR³⁰⁴、-NR³⁰⁵R³⁰⁶、-NHCOR³⁰⁷、-CONR³⁰⁸R³⁰⁹、-NHCONR³¹⁰R³¹¹、-NHCOOR³¹²、-SR³¹³、-SO₂R³¹⁴、-SO₂OR³¹⁵、-NHSO₂R³¹⁶或-SO₂NR³¹⁷R³¹⁸，R³⁰¹～R³¹⁸分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基。

关于双苯并呋喃酮化合物的详细内容，能够参考日本特表2010-534726号公报的0014～0037段的记载，该内容被编入到本说明书中。

本发明中，作为可见光吸收化合物而使用有机类黑色着色剂的情况下，优选与彩色着色剂组合而使用。通过并用有机类黑色着色剂及彩色着色剂，容易得到优异的分光特性。作为与有机类黑色着色剂组合而使用的彩色着色剂，例如可举出红色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂等，优选为红色着色剂及蓝色着色剂。这些可以单独使用，也可以并用2种以上。

并且，彩色着色剂与有机类黑色着色剂的混合比例相对于有机类黑色着色剂100质量份，彩色着色剂优选为10～200质量份，更优选为15～150质量份。

本发明中，可见光吸收化合物中的颜料的含量相对于可见光吸收化合物的总量优选为95质量％以上，更优选为97质量％以上，进一步优选为99质量％以上。

本发明的固化性组合物中，可见光吸收化合物的含量优选为组合物的总固体成分的10～60质量％。上限优选为50质量％以下，更优选为45质量％以下。下限优选为20质量％以上，更优选为25质量％以上。

＜固化性化合物＞

本发明的固化性组合物含有固化性化合物。

作为固化性化合物，可举出聚合性化合物、树脂、明胶或纤维素等天然高分子等。

作为明胶，通过其合成方法，具有酸处理明胶及碱处理明胶(石灰处理等)，均能够优选地使用。明胶的分子量优选为10,000～1,000,000。并且，也能够使用利用明胶的胺基或羧基而进行改质处理的改质明胶(例如邻苯二甲酸明胶等)。作为明胶，能够使用惰性明胶(例如NittaGelatin750)、邻苯二甲酸明胶(例如NittaGelatin801)等。树脂可以为非聚合性树脂(不具有聚合性基的树脂)，也可以为聚合性树脂(具有聚合性基的树脂)。作为聚合性基，可举出具有乙烯性不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。作为具有乙烯性不饱和键的基团，可举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等。另外，聚合性的树脂(具有聚合性基的树脂)也可以为聚合性化合物。

本发明中，作为固化性化合物，优选使用至少包含树脂，更优选使用树脂及作为单体的聚合性化合物，进一步有优选使用树脂及作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的单体的聚合性化合物。

本发明的组合物中，固化性化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1～80质量％。下限优选为0.5质量％以上，更优选为1质量％以上，进一步优选为5质量％以上。上限优选为70质量％以下，更优选为60质量％以下，进一步优选为50质量％以下，更进一步优选为40质量％以下，尤其优选为30质量％以下。

本发明的固化性组合物中所包含的固化性化合物可以仅为1种，也可以为2种以上。2种以上的情况下，合计量优选在上述范围内。

〔聚合性化合物〕

作为聚合性化合物，可举出包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物、具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物等。

聚合性化合物可以为单体，也可以为树脂。

作为单体，优选为包含具有乙烯性不饱和键的基团的单体。

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的单体的聚合性化合物能够优选地用作自由基聚合性化合物。

并且，具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物能够优选地用作阳离子聚合性化合物。

作为单体的聚合性化合物的分子量优选为小于2,000，更优选为100以上且小于2,000，进一步优选为200以上且小于2,000。上限例如优选为1,500以下。

作为树脂的聚合性化合物的重均分子量(Mw)优选为2,000～2,000,000。上限优选为1,000,000以下，更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上，更优选为5,000以上。

-作为树脂的聚合性化合物-

作为树脂的聚合性化合物，可举出环氧树脂或包含具有聚合性基的构成单元的树脂等。作为具有聚合性基的构成单元，可举出下述(A2-1)～(A2-4)等。

[化学式25]

R¹表示氢原子或烷基。烷基的碳数优选为1～5，更优选为1～3，进一步优选为1。R¹优选为氢原子或甲基。

L⁵¹表示单键或2价的连接基。作为2价的连结基，可举出亚烷基、亚芳基、-O-、-S-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-OC(＝O)-、-SO₂-、-NR¹⁰-(R¹⁰表示氢原子或烷基，优选为氢原子)或由这些组合构成的基团。亚烷基的碳数优选为1～30，更优选为1～15，进一步优选为1～10。亚烷基可以具有取代基，但是优选为未经取代。亚烷基可以为直链、支链、环状中的任一种。并且，环状的亚烷基可以为单环、多环中的任一种。亚芳基的碳数优选为6～18，更优选为6～14，进一步优选为6～10。

P¹表示聚合性基。作为聚合性基，可举出具有乙烯性不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。

-包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物-

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，优选为3～15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选为3～6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物的例，能够参考日本特开2013-253224号公报的0033～0034段的记载，该内容被编入到本说明书中。

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，优选为乙烯氧基改质季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，NKESTERATM-35E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)、二季戊四醇三丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.,Ltd.制、A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)及这些(甲基)丙烯酰基经由乙二醇残基和/或丙二醇残基进行键结的结构。并且，也能够使用这些的寡聚物类型。并且，能够参考日本特开2013-253224号公报的0034～0038段的记载，该内容被编入到本说明书中。并且，可举出日本特开2012-208494号公报的0477(所对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的0585段)段中所记载的聚合性单体等，这些内容被编入到本说明书中。并且，还优选为二甘油EO(环氧乙烷)改质(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，M-460；TOAGOSEI CO.,LTD.制)、季戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制、A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制、KAYARAD HDDA)。也能够使用这些的寡聚物类型。

例如可举出RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)等。并且，也能够使用ARONIXM-350、TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)。

包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物还可以具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。作为市售品，例如可举出TOAGOSEI CO.,LTD.制的ARONIX系列(例如、M-305、M-510、M-520)等。

包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物为具有己内酯结构的化合物也为优选方式。作为具有己内酯结构的化合物，能够参考日本特开2013-253224号公报的0042～0045段的记载，该内容被编入到本说明书中。

具有己内酯结构的化合物例如可举出作为KAYARAD DPCA系列从Nippon KayakuCo.,Ltd.市售的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，也能够使用包含具有乙烯性不饱和键的基团及亚烷氧基的化合物。作为包含具有乙烯性不饱和键的基团及亚烷氧基的化合物，优选为包含具有乙烯性不饱和键的基团及乙烯氧基和/或亚丙基氧基的化合物，更优选为包含具有乙烯性不饱和键的基团及乙烯氧基的化合物，进一步优选为具有4～20个乙烯氧基的3～6官能(甲基)丙烯酸酯化合物。作为包含具有乙烯性不饱和键的基团及亚烷氧基的化合物的市售品，例如可举出Sartomer Company,Inc.制的具有4个乙烯氧基的4官能(甲基)丙烯酸酯即SR-494、具有3个亚异丁氧基的3官能(甲基)丙烯酸酯即KAYARAD TPA-330等。

作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，还优选日本特公昭48-041708号公报、日本特开昭51-037193号公报、日本特公平2-032293号公报、日本特公平2-016765号公报中所记载的胺基甲酸酯丙烯酸酯类或日本特公昭58-049860号公报、日本特公昭56-017654号公报、日本特公昭62-039417号公报、日本特公昭62-039418号公报中所记载的具有环氧乙烷类骨架的胺酯化合物类。并且，能够使用在日本特开昭63-277653号公报、日本特开昭63-260909号公报、日本特开平1-105238号公报中所记载的分子内具有胺基结构或硫化物结构的加成聚合性化合物类。作为市售品，可举出UA-7200(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.)制等。

并且，作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，也能够使用日本特开2017-048367号公报、日本专利第6057891号公报、日本专利第6031807号公报中所记载的化合物。

并且，作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物，还优选使用8UH-1006、8UH-1012(TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.)制)、LIGHTACRYLATE POB-A0(KYOEISHA CHEMICALCO.,LTD.制)等。

本发明的组合物含有包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物的情况下，包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，尤其优选为5质量％以上。上限优选为80质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，更进一步优选为50质量％以下，更进一步优选为40质量％以下，尤其优选为30质量％以下。

-具有环氧基的化合物-

作为具有环氧基的化合物(以下，也称为环氧化合物)，可举出单官能或多官能环氧丙基醚化合物或多官能脂肪族环氧丙基醚化合物等。并且，作为环氧化合物，也能够使用具有脂环式环氧基的化合物。

作为环氧化合物，可举出在1分子内具有1个以上环氧基的化合物。

环氧化合物优选为在1分子内具有1～100个环氧基的化合物。环氧基的数量的上限例如也能够设为10个以下，还能够设为5个以下。环氧基的下限优选为2个以上。

环氧化合物可以为低分子化合物(例如，小于分子量1,000)，也可以为高分子化合物(macromolecule)(例如，分子量1,000以上且聚合物的情况下，重均分子量为1,000以上)中的任一种。环氧化合物的重均分子量优选为2,000～100,000。重均分子量的上限优选为10,000以下，更优选为5,000以下，进一步优选为3,000以下。

作为环氧化合物的市售品，可举出EHPE3150(Daicel Corporation制)、EPICLONN-695(DIC CORPORATION CO.,LTD.制)、ADEKAGlycyrol ED-505(ADEKA Corporation制、含环氧基的单体)、MARPROOF G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(NOF Corporation制、含环氧基的聚合物)等。并且，作为环氧化合物，也能够使用日本特开2013-011869号公报的0034～0036段、日本特开2014-043556号公报的0147～0156段、日本特开2014-089408号公报的0085～0092段中所记载的化合物。这些内容被编入到本说明书中。

本发明的组合物含有环氧化合物的情况下，环氧化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，尤其优选为5质量％以上。上限优选为80质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，更进一步优选为50质量％以下，更进一步优选为40质量％以下，尤其优选为30质量％以下。

-具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物-

作为具有羟甲基的化合物(以下，也称为羟甲基化合物)，可举出羟甲基与氮原子或形成芳香族环的碳原子键结的化合物。并且，作为具有烷氧基甲基的化合物(以下，也称为烷氧基甲基化合物)，可举出烷氧基甲基与氮原子或形成芳香族环的碳原子键结的化合物。作为烷氧基甲基或羟甲基与氮原子键结的化合物，优选为烷氧基甲基化三聚氰胺、羟甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、羟甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲、羟甲基化甘脲、烷氧基甲基化脲及羟甲基化脲等。并且，能够参考日本特开2004-295116号公报的0134～0147段、日本特开2014-089408的0095～0126段的记载，这些内容被编入到本说明书中。

本发明的组合物含有羟甲基化合物的情况下，羟甲基化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，尤其优选为5质量％以上。上限优选为80质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，更进一步优选为50质量％以下，更进一步优选为40质量％以下，尤其优选为30质量％以下。

本发明的组合物含有烷氧基甲基化合物的情况下，烷氧基甲基化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，尤其优选为5质量％以上。上限优选为80质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，更进一步优选为50质量％以下，更进一步优选为40质量％以下，尤其优选为30质量％以下。

〔树脂〕

本发明的组合物能够将树脂用作固化性化合物。固化性化合物优选使用至少包含树脂。树脂也能够用作分散剂。另外，也将为了使颜料等分散而使用的树脂称为分散剂。但是，树脂的这些用途为一例，也能够以除了这些用途以外的目的使用树脂。另外，具有聚合性基的树脂也相当于聚合性化合物。

树脂的重均分子量(Mw)优选为2,000～2,000,000。上限优选为1,000,000以下，更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上，更优选为5,000以上。

作为树脂，可举出(甲基)丙烯酸树脂、环氧树脂、烯-硫醇树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚亚苯基树脂、聚芳醚膦氧化物树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、环状烯烃树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂等。

-环氧树脂-

作为环氧树脂，可举出作为上述的聚合性化合物的栏中所说明的环氧化合物而例示的化合物中的树脂的化合物。

-环状烯烃树脂-

作为环状烯烃树脂的市售品，可举出ARTON D4540、F4520(均为JSR CORPORATION制)等。并且，也能够使用国际公开第2016/088645号的实施例中所记载的树脂、日本特开2017-057265号公报中所记载的树脂、日本特开2017-032685号公报中所记载的树脂、日本特开2017-075248号公报中所记载的树脂、日本特开2017-066240号公报中所记载的树脂，这些内容被编入到本说明书中。

-具有芴骨架的树脂-

并且，也优选地使用具有芴骨架的树脂。作为具有芴骨架的树脂，可举出下述结构的树脂。以下结构式中，A为选自均苯四甲酸二酐、二苯基酮四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐及二苯基醚四羧酸二酐的羧酸二酐的残基，M为苯基或苄基。关于具有芴骨架的树脂，能够参考美国专利申请公开第2017/0102610号公报的记载，该内容被编入到本说明书中。

[化学式26]

-具有酸基的树脂-

本发明中所使用的树脂可以具有酸基。作为酸基，例如可举出羧基、磷酸基、磺酸基、苯酚性羟基等，优选为羧基。这些酸基可以仅为1种，也可以为2种以上。具有酸基的树脂也能够用作碱可溶性树脂。

作为具有酸基的树脂，优选为在侧链具有羧基的聚合物。作为具体例，可举出甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、顺丁烯二酸共聚物、部分酯化顺丁烯二酸共聚物、酚醛清漆树脂等碱可溶性酚树脂、在侧链具有羧基的酸性纤维素衍生物、在具有羟基的聚合物中加成酸酐而成的树脂。尤其，优选(甲基)丙烯酸与能够与其共聚合的其他单体的共聚物作为碱可溶性树脂。作为能够与(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体，可举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作为(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸环己酯等，作为乙烯基化合物，可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸环氧丙酯、丙烯腈、乙烯基乙酸酯、N-乙烯吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯巨单体、聚甲基丙烯酸甲酯巨单体等。并且，其他单体也能够使用日本特开平10-300922号公报中所记载的N位取代顺丁烯二酰亚胺单体、例如N-苯基顺丁烯二酰亚胺、N-环己基顺丁烯二酰亚胺等。另外，能够与这些(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体可以仅为1种，也可以为2种以上。

具有酸基的树脂还可以含有具有聚合性基的构成单元。具有酸基的树脂还含有具有聚合性基的构成单元的情况下，具有总构成单元中的聚合性基的构成单元的含量优选为10～90摩尔％，更优选为20～90摩尔％，进一步优选为20～85摩尔％。并且，总构成单元中的具有酸基的构成单元的含量优选为1～50摩尔％，更优选为5～40摩尔％，进一步优选为5～30摩尔％。

作为具有酸基的树脂，能够优选地使用(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟乙酯共聚物、由(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他单体构成的多元共聚物。并且，也能够优选地使用使(甲基)丙烯酸2-羟乙酯共聚合、日本特开平7-140654号公报中所记载的、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基甲基丙烯酸乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基甲基丙烯酸乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。

具有酸基的树脂还优选包含聚合由下述式(ED1)表示的化合物和/或由下述式(ED2)表示的化合物(以下，也有时将这些化合物称为“醚二聚物”。)的单体成分而成的聚合物。

[化学式27]

式(ED1)中，R¹及R²分别独立地表示氢原子或也可以具有取代基的碳数1～25的烃基。

[化学式28]

式(ED2)中，R表示氢原子或碳数1～30的有机基。作为由式(ED2)表示的化合物的具体例，能够参考日本特开2010-168539号公报的记载。

作为醚二聚物的具体例，例如能够参考日本特开2013-29760号公报的0317段，该内容被编入到本说明书中。醚二聚物可以仅为1种，也可以为2种以上。

具有酸基的树脂可以包含来自于由下述式(X)表示的化合物的构成单元。

[化学式29]

式(X)中，R₁表示氢原子或甲基，R₂表示碳数2～10的亚烷基，R₃表示氢原子或可以包含苯环的碳数1～20的烷基。n表示1～15的整数。

关于具有酸基的树脂，能够参考日本特开2012-208494号公报的0558～0571段(所对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的0685～0700段)的记载、日本特开2012-198408号公报的0076～0099段的记载，这些内容被编入到本说明书中。并且，具有酸基的树脂也能够使用市售品。例如可举出CYCLOMER ACA210β(Daicel CorporationCo.,Ltd.制)、Acrybase FF-426(FUJIKURA KASEI CO.，LTD.制)等。

具有酸基的树脂的酸值优选为30～200mgKOH/g。下限优选为50mgKOH/g以上，更优选为70mgKOH/g以上。上限优选为150mgKOH/g以下，更优选为120mgKOH/g以下。

作为具有酸基的树脂，例如可举出下述结构的树脂等。以下结构式中，Me表示甲基。

[化学式30]

-作为分散剂的树脂-

本发明的组合物也能够包含作为分散剂的树脂。分散剂可举出酸性分散剂(酸性树脂)、碱性分散剂(碱性树脂)。其中，酸性分散剂(酸性树脂)表示酸基的量多于碱性基的量的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)中，将酸基的量与碱性基的量的合计量设为100摩尔％时，优选为酸基的量占70摩尔％以上的树脂，更优选为实质上仅包含酸基的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)所具有的酸基优选为羧基。酸性分散剂(酸性树脂)的酸值优选为40～105mgKOH/g，更优选为50～105mgKOH/g，进一步优选为60～105mgKOH/g。并且，碱性分散剂(碱性树脂)表示碱性基的量多于酸基的量的树脂。碱性分散剂(碱性树脂)中，优选将酸基的量与碱性基的量的合计量设为100摩尔％时，碱性基的量超过50摩尔％的树脂。碱性分散剂所具有的碱性基优选为胺基。

用作分散剂的树脂优选包含具有酸基的构成单元。用作分散剂的树脂包含具有酸基的构成单元，由此通过光微影法进行图案形成时，能够更减少像素的基底上所产生的残渣。

用作分散剂的树脂还优选为接枝共聚物。接枝共聚物通过接枝链具有与溶剂的亲和性，因此颜料的分散性及经时后的分散稳定性优异。接枝共聚物的详细内容能够参考日本特开2012-255128号公报的0025～0094段的记载，该内容被编入到本说明书中。并且，接枝共聚物的具体例可举出下述树脂。以下树脂也为具有酸基的树脂(碱可溶性树脂)。并且，作为接枝共聚物，可举出日本特开2012-255128号公报的0072～0094段中所记载的树脂，该内容被编入到本说明书中。

[化学式31]

并且，本发明中，树脂(分散剂)还优选使用在主链及侧链的至少一个包含氮原子的寡聚亚胺类分散剂。作为寡聚亚胺类分散剂，优选为具有含有具有pKa14以下官能基的部分结构X的构成单元及包含原子数40～10,000的侧链Y的侧链并且在主链及侧链的至少一个具有碱性氮原子的树脂。碱性氮原子为显现碱性的氮原子，则并无特别限制。关于寡聚亚胺类分散剂，能够参考日本特开2012-255128号公报的0102～0166段的记载，该内容被编入到本说明书中。作为寡聚亚胺类分散剂，能够使用下述结构的树脂或日本特开2012-255128号公报的0168～0174段中所记载的树脂。

[化学式32]

分散剂也能够作为市售品而获得，作为这些具体例，可举出BYK2000(BYK JAPANChemie GmbH制)等。并且，也能够使用日本特开2014-130338号公报的0041～0130段中所记载的颜料分散剂，该内容被编入到本说明书中。并且，也能够将上述的具有酸基的树脂等用作分散剂。

本发明的组合物含有树脂的情况下，树脂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％。下限优选为1质量％以上，更优选为3质量％以上，进一步优选为5质量％以上，尤其优选为10质量％以上。上限更优选为40质量％以下，进一步优选为30质量％以下。并且，具有酸基的树脂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％。下限优选为1质量％以上，更优选为3质量％以上，进一步优选为5质量％以上，尤其优选为10质量％以上。上限更优选为40质量％以下，进一步优选为30质量％以下。本发明的组合物可以仅包含1种树脂，也可以包含2种以上。包含2种以上的情况下，这些的合计量优选在上述范围内。

本发明的组合物包含聚合性化合物(优选为包含具有乙烯性不饱和键的基团的单体类型聚合性化合物)及树脂的情况下，聚合性化合物与树脂的质量比优选为聚合性化合物/树脂＝0.4～1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上，更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下，更优选为1.2以下。上述质量比在上述范围内，则能够形成矩形性更优异的图案。

并且，聚合性化合物(优选为作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的单体的聚合性化合物)与具有酸基的树脂的质量比优选为聚合性化合物/具有酸基的树脂＝0.4～1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上，更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下，更优选为1.2以下。上述质量比在上述范围内，则能够形成矩形性更优异的图案。

＜聚合引发剂＞

本发明的组合物优选含有聚合引发剂。

作为聚合引发剂，可以为光聚合引发剂，也可以为热聚合引发剂，但是从容易进行基于曝光的图案的观点考虑，优选为光聚合引发剂。

作为聚合引发剂，可举出自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。优选根据聚合性化合物的种类而选择使用。作为聚合性化合物，使用包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物等自由基聚合性化合物的情况下，作为聚合引发剂优选使用自由基聚合引发剂。并且，作为聚合性化合物使用阳离子聚合性化合物的情况下，作为聚合引发剂优选使用阳离子聚合引发剂。作为聚合引发剂，并无特别限制，能够从公知的聚合引发剂中适当选择。例如，优选对从紫外区域至可见区域的光线具有感光性的光聚合引发剂。

聚合引发剂的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为1～20质量％。聚合引发剂的含量在上述范围内，则可得到更良好的灵敏度及图案形成性。本发明的组合物可以仅包含1种聚合引发剂，也可以包含2种以上。包含2种以上聚合引发剂的情况下，这些的合计量优选在上述范围内。

〔光自由基聚合引发剂〕

作为光自由基聚合引发剂，例如可举出卤化烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的化合物、具有噁二唑骨架的化合物等)、酰基膦化合物、六芳基双咪唑、肟化合物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、α-羟基酮化合物、α-胺基酮化合物等。从曝光灵敏度的观点考虑，光聚合引发剂优选为三卤甲基三嗪化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-胺基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、环戊二烯-苯-铁络合物、卤代甲基噁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物，更优选为选自肟化合物、α-羟基酮化合物、α-胺基酮化合物及酰基膦化合物的化合物，进一步优选为肟化合物。作为光自由基聚合引发剂，能够参考日本特开2014-130173号公报的0065～0111段的记载，该内容被编入到本说明书中。

作为α-羟基酮化合物的市售品，可举出IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上为BASF公司制)等。作为α-胺基酮化合物的市售品，可举出IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG(以上为BASF公司制)等。作为酰基膦化合物的市售品，可举出IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上为BASF公司制)等。

作为肟化合物，可举出日本特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)中所记载的化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)中所记载的化合物、日本特开2000-066385号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特表2004-534797号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、日本特开2017-019766号公报中所记载的化合物、日本专利第6065596号公报中所记载的化合物、国际公开第2015/152153号中所记载的化合物、国际公开第2017/051680号中所记载的化合物等。作为肟化合物的具体例，可举出3-苯甲酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-丙酰基氧基亚胺基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚胺基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰基氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。作为市售品，可举出IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上为BASF公司制)、TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.,Ltd.制)、ADEKAOPTOMERN-1919(ADEKA Corporation制、日本特开2012-14052号公报中所记载的光聚合引发剂2)。并且，作为肟化合物，还优选使用无着色性的化合物或透明性高且难以变色的化合物。作为市售品，可举出ADEKAARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930(以上为ADEKA Corporation制)等。

本发明中，作为光聚合引发剂，也能够使用具有芴环的肟化合物。作为具有芴环的肟化合物的具体例，可举出日本特开2014-137466号公报中所记载的化合物。该内容被编入到本说明书中。

本发明中，作为光自由基聚合引发剂，也能够使用具有氟原子的肟化合物。作为具有氟原子的肟化合物的具体例，可举出日本特开2010-262028号公报中所记载的化合物、日本特表2014-500852号公报中所记载的化合物24、36～40、日本特开2013-164471号公报中所记载的化合物(C-3)等。该内容被编入到本说明书中。

本发明中，作为光自由基聚合引发剂，能够使用具有硝基的肟化合物。具有硝基的肟化合物还优选作为二聚体。作为具有硝基的肟化合物的具体例，可举出日本特开2013-114249号公报的0031～0047段、日本特开2014-137466号公报的0008～0012、0070～0079段所记载的化合物、日本专利4223071号公报的0007～0025段中所记载的化合物、ADEKAARKLSNCI-831(ADEKA Corporation制)。

本发明中，作为光自由基聚合引发剂，也能够使用具有苯并呋喃骨架的肟化合物。作为具体例，可举出国际公开第2015/036910号中所记载的OE-01～OE-75。

以下示出本发明中优选地使用的肟化合物的具体例，但是本发明并不限定于这些。

[化学式33]

[化学式34]

肟化合物优选为在波长350nm～波长500nm的范围具有极大吸收波长的化合物，更优选为在波长360nm～波长480nm的范围具有极大吸收波长的化合物。并且，从灵敏度的观点考虑，肟化合物的波长365nm或波长405nm中的摩尔吸光系数优选为较高，更优选为1,000～300,000，进一步优选为2,000～300,000，尤其优选为5,000～200,000。化合物的摩尔吸光系数能够利用公知的方法来进行测量。例如，优选通过分光光度计(Varian公司制Cary-5spectrophotometer)，并使用乙酸乙酯溶剂而在0.01g/L的浓度下进行测量。

本发明中，作为光自由基聚合引发剂，也可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合引发剂。作为这些光自由基聚合引发剂的具体例，可举出日本特表2010-527339号公报、日本特表2011-524436号公报、国际公开第2015/004565号、日本特表2016-532675号公报的0407～0412段、国际公开第2017/033680号的0039～0055段中所记载的肟化合物的二聚体或日本特表2013-522445号公报中所记载的化合物(E)及化合物(G)、国际公开第2016/034963号中所记载的Cmpd1～7等。

光自由基聚合引发剂还优选包含肟化合物及α-胺基酮化合物。通过并用两者，容易形成显影性提高且矩形性优异的图案。并用肟化合物及α-胺基酮化合物的情况下，α-胺基酮化合物相对于肟化合物100质量份优选为50质量份～600质量份，更优选为150质量份～400质量份。

光自由基聚合引发剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为1～20质量％。光自由基聚合引发剂的含量在上述范围内，则可得到更良好的灵敏度及图案形成性。本发明的组合物可以仅包含1种光自由基聚合引发剂，也可以包含2种以上。包含2种以上光自由基聚合引发剂的情况下，这些的合计量优选在上述范围内。

〔光阳离子聚合引发剂〕

作为光阳离子聚合引发剂，可举出光酸产生剂。作为光酸产生剂，能够举出通过光照射进行分解而产生酸的重氮盐、鏻盐、鋶盐、錪盐等鎓盐化合物、酰亚胺磺酸盐、肟磺酸盐、重氮二砜、二砜、o-硝基苄基磺酸盐等磺酸盐化合物等。关于光阳离子聚合引发剂的详细内容，能够参考日本特开2009-258603号公报的0139～0214段的记载，该内容被编入到本说明书中。

光阳离子聚合引发剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为1～20质量％。光阳离子聚合引发剂的含量在上述范围内，则可得到更良好的灵敏度及图案形成性。本发明的组合物可以仅包含1种光阳离子聚合引发剂，也可以包含2种以上。包含2种以上光阳离子聚合引发剂的情况下，这些的合计量优选在上述范围内。

＜多官能硫醇＞

本发明的组合物能够含有多官能硫醇。多官能硫醇为具有2个以上硫醇(SH)基的化合物。多官能硫醇与上述的光自由基聚合引发剂一同使用，由此在光照射后的自由基聚合过程中，作为链转移剂而发挥作用并且产生难以受到基于氧的聚合阻碍的硫基自由基，因此能够提高组合物的灵敏度。尤其，优选为SH基与亚甲基、亚乙基等脂肪族基键结的多官能脂肪族硫醇。

作为多官能硫醇，例如可举出己烷二硫醇、癸烷二硫醇、1,4-丁二醇双硫丙酸酯、1,4-丁二醇双硫乙醇酸酯、乙二醇双硫乙醇酸酯、乙二醇双硫丙酸酯、三羟甲基丙烷三硫乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫丙酸酯、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四硫乙醇酸酯、季戊四醇四硫丙酸酯、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、三巯基丙酸三(2-羟基乙基)三聚异氰酸、1,4-二甲基巯基苯、2,4,6-三巯基-s-三嗪、2-(N,N-二丁基胺基)-4,6-二巯基-s-三嗪等。并且，也可举出下述结构的化合物。

[化学式35]

多官能硫醇的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1质量％～20质量％，更优选为0.1质量％～15质量％，进一步优选为0.1质量％～10质量％。本发明的组合物可以仅包含1种多官能硫醇，也可以包含2种以上。包含2种以上的情况下，这些的合计量优选在上述范围内。

＜环氧树脂固化剂＞

本发明的组合物包含环氧树脂的情况下，优选还包含环氧树脂固化剂。作为环氧树脂固化剂，例如可举出胺类化合物、酸酐类化合物、酰胺类化合物、苯酚类化合物、多元羧酸等。作为环氧树脂固化剂，从耐热性、固化物的透明性的观点考虑，优选为多元羧酸，最优选为在分子内具有二个以上的羧酸酐基的化合物。作为环氧树脂固化剂的具体例，可举出丁烷二酸等。关于环氧树脂固化剂的详细内容，能够参考0072～0078段，该内容被编入到本说明书中。

环氧树脂固化剂的含量相对于环氧树脂100质量份优选为0.01质量份～20质量份，更优选为0.01质量份～10质量份，进一步优选为0.1质量份～6.0质量份。

＜颜料衍生物＞

本发明的组合物还能够含有颜料衍生物。作为颜料衍生物，可举出具有颜料的一部分经酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基取代的结构的化合物。作为颜料，可举出上述红外线吸收剂、其他红外线吸收剂或上述可见光吸收化合物中的颜料。

作为颜料衍生物，优选由式(B1)表示的化合物。

[化学式36]

式(B1)中，P表示色素结构，L表示单键或连结基，X表示酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基，m表示1以上的整数，n表示1以上的整数，m为2以上的情况下，多个L及X可以彼此不同，n为2以上的情况下，多个X也可以彼此不同。

作为P所表示的色素结构，优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖酮色素结构、蒽醌色素结构、二蒽醌色素结构、苯并异吲哚色素结构、噻嗪靛蓝色素结构、偶氮色素结构、喹啉黄色素结构、酞菁色素结构、萘酞菁色素结构、二噁嗪色素结构、苝色素结构、紫环酮色素结构、苯并咪唑酮色素结构、苯并噻唑色素结构、苯并咪唑色素结构及苯并噁唑色素结构的至少1种，进一步优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖酮色素结构及苯并咪唑酮色素结构的至少1种，尤其优选为吡咯并吡咯色素结构。

作为L所表示的连结基，可举出烃基、杂环基、-NR-、-SO₂-、-S-、-O-、-CO-或由这些组合构成的基团。R表示氢原子、烷基或芳基。

作为X所表示的酸基，可举出羧基、磺酸基、羧酸酰胺基、磺酸酰胺基、酰亚胺酸基等。作为羧酸酰胺基，优选为由-NHCOR^X1表示的基团。作为磺酸酰胺基，优选为由-NHSO₂R^X2表示的基团。作为酰亚胺酸基，优选为由-SO₂NHSO₂R^X3、-CONHSO₂R^X4、-CONHCOR^X5或-SO₂NHCOR^X6表示的基团。R^X1～R^X6分别独立地表示烃基或杂环基。R^X1～R^X6所表示的烃基及杂环基还可以具有取代基。作为进一步的取代基，可举出上述的取代基T，优选为卤素原子，更优选为氟原子。作为X所表示的碱性基，可举出胺基。作为X所表示的盐结构，可举出上述的酸基或碱性基的盐。

作为颜料衍生物，可举出下述结构的化合物。此外，也可使用后述的实施例中所记载的可见颜料衍生物及红外衍生物。并且，也能够使用日本特开昭56-118462号公报、日本特开昭63-264674号公报、日本特开平1-217077号公报、日本特开平3-009961号公报、日本特开平3-026767号公报、日本特开平3-153780号公报、日本特开平3-045662号公报、日本特开平4-285669号公报、日本特开平6-145546号公报、日本特开平6-212088号公报、日本特开平6-240158号公报、日本特开平10-030063号公报、日本特开平10-195326号公报、国际公开第2011/024896号的0086～0098段、国际公开第2012/102399号的0063～0094段、国际公开第2017/038252号的0082段等中所记载的化合物、日本专利第5299151号公报中所记载的化合物，这些内容被编入到本说明书中。

[化学式37]

本发明的组合物含有颜料衍生物的情况下，颜料衍生物的含量相对于颜料100质量份优选为1～50质量份。下限值优选为3质量份以上，更优选为5质量份以上。上限值优选为40质量份以下，更优选为30质量份以下。颜料衍生物的含量在上述范围内，则能够提高颜料的分散性而有效地抑制颜料的聚集。颜料衍生物可以仅使用1种，也可以使用2种以上。使用2种以上的情况下，合计量优选成为上述范围。

＜溶剂＞

本发明的组合物能够含有溶剂。作为溶剂，可举出有机溶剂。溶剂满足各成分的溶解性或组合物的涂布性，则基本上并无特别限制。作为有机溶剂的例，例如可举出酯类、醚类、酮类、芳香族烃类等。

关于这些详细内容，能够参考国际公开第2015/166779号的0223段，该内容被编入到本说明书中。并且，也能够优选地使用环状烷基经取代的酯类溶剂、环状烷基经取代的酮类溶剂。

作为有机溶剂的具体例，可举出二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙酸环己酯、环戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲醚及丙二醇单甲醚乙酸酯等。

本发明中有机溶剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。并且，从提高溶解性的观点考虑，还优选为3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺。

但是，有时出自环境方面等原因，优选减少作为溶剂的芳香族烃类(苯、甲苯、二甲苯、乙苯等)(例如，相对于有机溶剂总量，能够设为50质量ppm(百万分率(parts permillion))以下，也能够设为10质量ppm以下，也能够设为1质量ppm以下)。

本发明中，优选使用金属含量少的溶剂，溶剂的金属含量例如优选为10质量ppb(parts per billion)以下。根据需要也可以使用质量ppt(兆分率，parts per trillion)级别的溶剂，这些高纯度溶剂例如由Toyo Gosei Co.,Ltd.提供(化学工业日报，2015年11月13日)。

作为从溶剂中去除金属等杂质的方法，例如能够举出蒸馏(分子蒸馏或薄膜蒸馏等)或使用过滤器的过滤。作为过滤中所使用的过滤器的过滤器孔径，优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为3μm以下。过滤器的材质优选为聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龙。

溶剂可以包含异构物(原子数相同但结构不同的化合物)。并且，异构物可以仅包含一种，也可以包含多种。

本发明中，有机溶剂的过氧化物的含有率优选为0.8mmol/L以下，更优选实质上不包含过氧化物。

溶剂的含量相对于本发明的组合物的总量优选为10～99质量％。上限优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下。下限优选为30质量％以上，更优选为40质量％以上，进一步优选为50质量％以上，更进一步优选为60质量％以上，尤其优选为70质量％以上。

＜聚合抑制剂＞

本发明的组合物能够含有聚合抑制剂。作为聚合抑制剂，可举出氢醌、对甲氧基苯酚、二-第三丁基-对甲酚、邻苯三酚、第三丁基邻苯二酚、苯醌、4,4'-硫代双(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亚甲基双(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺盐(铵盐、亚铈盐等)。其中，优选为对甲氧基苯酚。聚合抑制剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.001～5质量％。

＜硅烷偶合剂＞

本发明的组合物能够含有硅烷偶合剂。本发明中，硅烷偶合剂是指具有水解性基及除此以外的官能基的硅烷化合物。并且，水解性基是指与硅原子直接连接且能够通过水解反应及缩合反应中的至少任意一种反应产生硅氧烷键的取代基。作为水解性基，例如可举出卤素原子、烷氧基、酰氧基等，优选为烷氧基。即，硅烷偶合剂优选为具有烷氧基硅基的化合物。并且，作为除了水解性基以外的官能基，例如可举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基、巯基、环氧基、氧杂环丁基、胺基、脲基、硫醚基、异氰酸酯基、苯基等，优选为(甲基)丙烯酰基及环氧基。硅烷偶合剂可举出日本特开2009-288703号公报的0018～0036段中所记载的化合物、日本特开2009-242604号公报的0056～0066段中所记载的化合物，这些内容被编入到本说明书中。

硅烷偶合剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01～15.0质量％，更优选为0.05～10.0质量％。硅烷偶合剂可以仅为1种，也可以为2种以上。2种以上的情况下，合计量优选在上述范围内。

＜表面活性剂＞

本发明的组合物能够含有表面活性剂。作为表面活性剂，能够使用氟类表面活性剂、非离子类表面活性剂、阳离子类表面活性剂、阴离子类表面活性剂、硅酮类表面活性剂等各种表面活性剂。表面活性剂能够参考国际公开第2015/166779号的0238～0245段，该内容被编入到本说明书中。

本发明中，表面活性剂优选为氟类表面活性剂。通过在本发明的组合物含有氟类表面活性剂，更提高液特性(尤其，流动性)，并能够更改善省液性。并且，还能够形成厚度不均匀少的膜。

氟类表面活性剂中的氟含有率优选为3～40质量％，更优选为5～30质量％，尤其优选为7～25质量％。氟含有率在该范围内的氟类表面活性剂在涂布膜的厚度的均匀性或省液性的观点上有效，在组合物中的溶解性也良好。

作为氟类表面活性剂，具体而言可举出日本特开2014-041318号公报的0060～0064段(所对应的国际公开2014/017669号公报的0060～0064段)等中所记载的表面活性剂、日本特开2011-132503号公报的0117～0132段中所记载的表面活性剂，这些内容被编入到本说明书中。作为氟类表面活性剂的市售品，例如可举出MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上为DIC Corporation制)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3M Limited制)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为ASAHI GLASS CO.,LTD.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA SOLUTIONS INC.制)等。

并且，氟类表面活性剂也能够优选地使用丙烯酸类化合物，该丙烯酸类化合物为具有含有氟原子的官能基的分子构造且施加热时含有氟原子的官能基的部分被切断而氟原子挥发。作为该种氟类表面活性剂，可举出DIC Corporation制造的MEGAFACE DS系列(化学工业日报，2016年2月22日)(日经产业新闻，2016年2月23日)，例如MEGAFACE DS-21。

并且，氟类表面活性剂还优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子的乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。这些氟类表面活性剂能够参考日本特开2016-216602号公报的记载，该内容被编入到本说明书中。

氟类表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。例如可举出日本特开2011-089090号公报中所记载的化合物。氟类表面活性剂也能够优选地使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物包含来自于具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的构成单元及来自于具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为乙烯氧基、亚丙基氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的构成单元。下述化合物以可作为本发明中所使用的氟类表面活性剂而例示。

[化学式38]

上述化合物的重均分子量优选为3,000～50,000，例如为14,000。上述化合物中，表示构成单元的比例的％为摩尔％。

并且，氟类表面活性剂也能够使用在侧链具有乙烯性不饱和基的含氟聚合物。作为具体例，可举出日本特开2010-164965号公报的0050～0090段及0289～0295段中所记载的化合物、例如DIC CORPORATION CO.,LTD.制的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。氟类表面活性剂也能够使用日本特开2015-117327号公报的0015～0158段中所记载的化合物。

作为非离子类表面活性剂，可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司制)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司制)、Solsperse 20000(Lubrizol Japan Limited.制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(WakoPure Chemical Industries,Ltd.制)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制)、Olfine E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Co.,Ltd.制)等。

表面活性剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.001质量％～5.0质量％，更优选为0.005～3.0质量％。表面活性剂可以仅为1种，也可以为2种以上。2种以上的情况下，合计量优选在上述范围内。

＜紫外线吸收剂＞

本发明的组合物能够含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，能够使用共轭二烯化合物、胺基丁二烯化合物、甲基二苯甲酰化合物、香豆素化合物、水杨酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、甲亚胺化合物、吲哚化合物、三嗪化合物等。关于这些详细内容，能够参考日本特开2012-208374号公报的0052～0072段、日本特开2013-068814号公报的0317～0334段、日本特开2016-162946号公报的0061～0080段的记载，这些内容被编入到本说明书中。作为共轭二烯化合物的市售品，例如可举出UV-503(DAITOCHEMICAL CO.,LTD.制)等。作为吲哚化合物，可举出下述结构的化合物。并且，作为苯并三唑化合物，也可使用MIYOSHI OIL&FAT CO.,LTD.制的MYUA系列(化学工业日报，2016年2月1日)。

[化学式39]

本发明中，作为紫外线吸收剂，也能够优选地使用由式(UV-1)～式(UV-3)表示的化合物。

[化学式40]

式(UV-1)中，R¹⁰¹及R¹⁰²分别独立地表示取代基，m1及m2分别独立地表示0～4。式(UV-2)中，R²⁰¹及R²⁰²分别独立地表示氢原子或烷基，R²⁰³及R²⁰⁴分别独立地表示取代基。式(UV-3)中，R³⁰¹～R³⁰³分别独立地表示氢原子或烷基，R³⁰⁴及R³⁰⁵分别独立地表示取代基。

作为由式(UV-1)～式(UV-3)表示的化合物的具体例，可举出以下化合物。

[化学式41]

紫外线吸收剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～5质量％。本发明中，紫外线吸收剂可以仅使用1种，也可以使用2种以上。使用2种以上的情况下，合计量优选成为上述范围。

＜抗氧化剂＞

本发明的组合物能够含有抗氧化剂。作为抗氧化剂，可举出苯酚化合物、亚磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作为苯酚化合物，能够使用作为苯酚类抗氧化剂而已知的任意苯酚化合物。作为优选的苯酚化合物，可举出受阻苯酚化合物。优选在与酚性羟基相邻的部位(邻位)具有取代基的化合物。作为所述取代基，优选为碳数1～22的经取代或未经取代的烷基。并且，抗氧化剂还优选在同一分子内具有酚基和亚磷酸酯基的化合物。并且，抗氧化剂也能够优选使用磷类抗氧化剂。作为磷类抗氧化剂，可举出三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二恶磷杂庚英(dioxaphosphepin)-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二恶磷杂庚英-2-基)氧基]乙基]胺、双(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯酚)亚磷酸乙酯等。作为抗氧化剂的市售品，例如可以举出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(以上为ADEKACORPORATION)等。并且，作为抗氧化剂，也能够使用国际公开第17/006600号中所记载的多官能受阻胺抗氧化剂。

抗氧化剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01～20质量％，更优选为0.3～15质量％。抗氧化剂可以仅使用1种，也可以使用2种以上。使用2种以上的情况下，合计量优选成为上述范围。

＜其他成分＞

本发明的组合物根据需要可以含有敏化剂、固化促进剂、填充剂、热固化促进剂、塑化剂及其他助剂类(例如导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、调平剂、剥离促进剂、香料、表面张力调整剂、链转移剂等)。通过适当含有这些成分，能够调整膜物性等性质。这些成分例如能够参考日本特开2012-003225号公报的0183段之后(所对应的美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的0237段)的记载、日本特开2008-250074号公报的0101～0104、0107～0109段等的记载，这些内容被编入到本说明书中。

并且，本发明的组合物根据需要可以含有潜在抗氧化剂。作为潜在抗氧化剂，可举出作为抗氧化剂发挥功能的部位被保护基保护的化合物且在100～250℃下进行加热或在酸/碱触媒存在下在80～200℃下进行加热来脱离保护基作为抗氧化剂发挥功能的化合物。作为潜在抗氧化剂，可举出国际公开2014/021023号、国际公开2017/030005号、日本特开2017-008219号公报中所记载的化合物。作为市售品，可举出ADEKAARKLS GPA-5001(ADEKACorporation制)等。

作为本发明的组合物的容纳容器，并无特别限定，能够使用公知的容纳容器。并且，作为容纳容器，以抑制杂质混入原材料或组合物中为目的，还优选使用由6种6层的树脂构成容器内壁的多层瓶或将6种树脂设为7层结构的瓶。作为这些容器，例如可举出日本特开2015-123351号公报中所记载的容器。

本发明的组合物的用途并无特别限定。例如能够优选地用于红外线透射滤波器等的形成。

＜组合物的制备方法＞

本发明的组合物能够混合上述成分而制备。制备组合物时，可以将总成分同时溶解或分散于溶剂中来制备组合物，也可以根据需要预先制备适当掺合各成分的2个以上的溶液或分散液并且在使用时(涂布时)混合这些而作为组合物而制备。

并且，本发明的组合物包含颜料等粒子的情况下，优选包含使粒子分散的工序。在使粒子分散的工序中，作为用于粒子的分散的机械力，可举出压缩、压榨、冲击、剪断、气蚀等。作为这些工序的具体例，可举出珠磨、砂磨、辊磨、球磨、涂料搅拌器、微射流、高速叶轮、混砂、喷射流混合、高压湿式微粒化、超声波分散等。并且，在砂磨(珠磨)中的粒子的粉碎中，优选以如下条件处理：通过使用直径较小的微珠，且提高微珠的填充率来提高粉碎效率。并且，优选在粉碎处理之后通过过滤、离心分离等来去除粗粒子。并且，关于使粒子分散的工序及分散机，能够优选地使用“分散技术大全、JOHOKIKO CO.,LTD.发行，2005年7月15日”或“围绕悬浮液(固体/液体分散体类)的分散技术与工业上的实际应用综合资料集，经营开发中心出版部发行，1978年10月10日”、日本特开2015-157893号公报的0022段中所记载的工序及分散机。并且，分散粒子的工序中，盐磨工序中也可以进行粒子的微细化处理。关于盐磨工序中所使用的原材料、设备、处理条件等，例如能够参考日本特开2015-194521号公报、日本特开2012-046629号公报的记载。

制备组合物时，以去除异物或降低缺陷减等为目的，优选用过滤器对组合物进行过滤。作为过滤器，只要是从以往用于过滤用途等的过滤器，则能够无特别限制地使用。例如，可举出使用了聚四氟乙烯(PTFE)等氟树脂、尼龙(例如尼龙-6、尼龙-6,6)等聚酰胺类树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烃树脂)等原材料的过滤器。这些原材料中，优选为聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龙。

过滤器的孔径适合0.01μm～7.0μm，优选为0.01μm～3.0μm，进一步优选为0.05μm～0.5μm。若过滤器的孔径在上述范围，则能够确实地去除微细的异物。并且，还优选使用纤维状过滤材料。作为纤维状过滤材料，例如可举出聚丙烯纤维、尼龙纤维、玻璃纤维等。具体而言，可举出ROKI TECHNO CO.,LTD.制SBP型系列(SBP008等)、TPR型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX型系列(SHPX003等)的滤芯。

当使用过滤器时，可以组合不同的过滤器(例如，第1过滤器和第2过滤器等)。此时，各过滤器中的过滤可以仅为1次，也可以进行2次以上。

并且，在上述的范围内也可以组合不同的孔径的过滤器。在此的孔径能够参考过滤器厂商的标称值。作为市售的过滤器，例如能够从由NIHON PALL Corporation(DFA4201NIEY等)、Advantec Toyo Kaisha,Ltd.、Nihon Entegris KK.(Formerly NipponMykrolis Corporation)或KITZ MICROFILTER Corporation等提供的各种过滤器中选择。

第2过滤器能够使用由与第1过滤器相同的原材料等形成的过滤器。

并且，第1过滤器中的过滤仅对分散液进行，混合其他成分之后，也可以由第2过滤器进行过滤。

本发明的组合物的总固体成分(固体成分浓度)通过应用方法来变更，但是例如优选为1～50质量％。下限更优选为10质量％以上。上限更优选为30质量％以下。

＜用途＞

使用本发明的组合物来形成的膜能够优选地用作红外线透射滤波器。例如，将使用本发明的组合物来形成的膜组装于固体摄像元件或传感器，由此能够抑制来自于可见光的干扰的产生。

(图案形成方法)

接着，对使用本发明的组合物的图案形成方法进行说明。本发明的图案形成方法优选包括相对于包含本发明的组合物的固化性组合物层通过光微影法或干式蚀刻法对固化性组合物层形成图案的工序。

并且，上述图案形成方法在形成上述图案的工序之前，还可以包含准备图案形成用层叠体的工序。

准备图案形成用层叠体的工序中，还可以包含使用本发明的固化性组合物在支撑体上形成上述固化性组合物层的工序，也可以获得在支撑体上形成固化性组合物层的图案形成用层叠体。

光微影法中图案形成方法优选包括以图案状对包含本发明的组合物的固化性组合物层进行曝光的工序及显影去除未曝光部来形成图案的工序。

并且，上述图案形成方法在形成上述图案的工序之前，还可以包含准备图案形成用层叠体的工序。

准备图案形成用层叠体的工序中，还可以包含使用本发明的固化性组合物在支撑体上形成上述固化性组合物层的工序，也可以获得在支撑体上形成固化性组合物层的图案形成用层叠体。

并且，干式蚀刻法中图案形成方法能够通过如下方法进行：对包含本发明的固化性组合物的固化性组合物层进行固化来形成固化物层，接着，在该固化物层上形成图案化的抗蚀剂层，接着，将图案化的抗蚀剂层作为遮罩使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻等。

并且，上述图案形成方法在形成上述图案的工序之前，还可以包含准备图案形成用层叠体的工序。

准备图案形成用层叠体的工序中，还可以包含使用本发明的固化性组合物在支撑体上形成上述固化性组合物层的工序，也可以获得在支撑体上形成固化性组合物层的图案形成用层叠体。

以下，对各工序进行说明。

＜形成固化性组合物层的工序＞

形成固化性组合物层的工序中，使用本发明的组合物在支撑体上形成固化性组合物层。

作为支撑体，例如可举出由硅、无碱玻璃、钠玻璃、PYREX(注册商标)玻璃、石英玻璃等材质构成的基板。

并且，作为支撑体还优选使用InGaAs基板等。InGaAs基板的相对于超过波长1000nm的光的灵敏度良好，因此通过在InGaAs基板上层叠本发明的膜，容易得到灵敏度优异的红外线传感器。

并且，支撑体上可以形成有电荷耦合元件(CCD)、互补金属氧化物半导体(CMOS)、透明导电膜等。

并且，有时也在支撑体形成有隔离各像素的黑矩阵。

并且，支撑体上根据需要可以为了改善与上部的层的密合性、防止物质的扩散或基板表面的平坦化而设置底涂层。

作为对支撑体应用组合物的方法，能够使用公知的方法。例如，可举出滴加法(滴铸)；狭缝涂布法；喷雾法；辊涂法；旋转涂布法(旋涂法)；流延涂布法；狭缝旋涂法；预湿法(例如，日本特开2009-145395号公报中所记载的方法)；喷墨(例如按需方式、压电方式、热方式)、喷嘴喷射等喷出类印刷、柔版印刷、网版印刷、凹版印刷、逆转偏移印刷、金属遮罩印刷法等各种印刷法；使用模具等的转印法；奈米压印法等。

作为基于喷墨的适用方法并没有特别限定，例如可举出《可推广、使用的喷墨-专利中出现的无限可能性-、2005年2月发行、SB Techno-Research Co.,Ltd.》所示的方法(尤其第115页～第133页)或日本特开2003-262716号公报、日本特开2003-185831号公报、日本特开2003-261827号公报、日本特开2012-126830号公报、日本特开2006-169325号公报等中所记载的方法。并且，关于树脂组合物的涂布方法，能够参考国际公开第2017/030174号、国际公开第2017/018419号的记载，这些内容被编入到本说明书中。

形成于支撑体上的固化性组合物层可以进行干燥(预烘烤)。通过低温工序形成图案的情况下，也可以不进行预烘烤。进行预烘烤的情况下，预烘烤温度优选为150℃以下，更优选为120℃以下，进一步优选为110℃以下。下限例如能够设为50℃以上，也能够设为80℃以上。预烘烤时间优选为10秒钟～3000秒钟，更优选为40秒钟～2500秒钟，进一步优选为80秒钟～2200秒钟。能够通过加热板、烘箱等来进行干燥。

＜通过光微影法进行图案形成的情况＞

(曝光工序)

曝光工序中，以图案状对固化性组合物层进行曝光(曝光工序)。例如，使用步进机等曝光装置并经由具有规定遮罩图案的遮罩对固化性组合物层进行曝光，由此能够对固化性组合物层进行图案曝光。由此，能够固化曝光部分。作为在曝光时能够使用的放射线(光)，优选为g射线、i射线等紫外线，更优选为i射线。照射量(曝光量)例如优选为0.03J/cm²～2.5J/cm²，更优选为0.05J/cm²～1.0J/cm²，最优选为0.08J/cm²～0.5J/cm²。关于曝光时的氧浓度，能够适当选择，除了在大气下进行曝光以外，例如可以在氧浓度为19体积％以下的低氧环境下(例如，15体积％、5体积％、实质上无氧)进行曝光，也可以在氧浓度超过21体积％的高氧环境下(例如，22体积％、30体积％、50体积％)进行曝光。并且，曝光照度能够适当设定，通常能够从1,000W/m²～100,000W/m²(例如、5,000W/m²、15,000W/m²、35,000W/m²)的范围选择。氧浓度及曝光照度可以组合适当条件，例如能够设为氧浓度10体积％且照度10,000W/m²、氧浓度35体积％且照度20,000W/m²等。

〔显影工序〕

显影工序中，对曝光后的固化性组合物层中的未曝光部的固化性组合物层进行显影去除来形成图案。未曝光部的组合物层的显影去除能够使用显影液来进行。由此，曝光工序中的未曝光部的组合物层溶出于显影液，仅在支撑体上残留进行光固化的部分。作为显影液，优选不会对基底的固体摄像元件或回路等带来损害的碱性显影液。显影液的温度例如优选为20～30℃。显影时间优选为20～180秒钟。并且，为了提高残渣去除性，可以重复复数次每隔60秒钟甩掉显影液，进而供给新的显影液的工序。

作为用于显影液的碱剂，例如可举出氨、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、羟基胺、乙二胺、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化乙基三甲基铵、氢氧化苄基三甲基铵、氢氧化二甲基双(2-羟基乙基)铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二吖双环[5.4.0]

-7-十一烯等有机碱性化合物或氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等无机碱性化合物。碱剂在环境方面及安全方面而言，优选为分子量较大的化合物。显影液优选地使用用纯水稀释这些碱性剂的碱性水溶液。碱性水溶液的碱剂的浓度优选为0.001～10质量％，更优选为0.01～1质量％。并且，显影液也可以使用表面活性剂。作为表面活性剂的例，可举出上述的表面活性剂，优选为非离子类表面活性剂。从方便移送或保管等观点而言，显影液可以暂时制造成浓缩液，并在使用时稀释成所需要的浓度。稀释倍率并没有特别限定，例如能够设定为1.5～100倍的范围。另外，使用由这些碱性水溶液构成的显影液的情况下，优选显影后用纯水进行清洗(冲洗)。

〔固化工序〕

本发明中，显影工序后，实施干燥之后也可以进行通过加热处理(后烘烤)或后曝光来进行固化的固化工序。

后烘烤为用于完全固化的显影后的加热处理。后烘烤时的加热温度例如优选为100～240℃，更优选为200～240℃。并且，作为发光光源使用有机电致发光(有机EL)元件的情况或由有机原材料构成影像传感器的光电转换膜的情况下，加热温度优选为150℃以下，更优选为120℃以下，进一步优选为100℃以下，尤其优选为90℃以下。下限例如能够设为50℃以上。后烘烤能够对显影后的膜如成为上述条件那样使用加热板或对流式烘箱(热风循环式干燥机)、高频率加热机等加热机构通过连续式或间歇式进行。

后曝光能够通过g射线、h射线、i射线、KrF或ArF等准分子激光、电子束、X射线等进行，但是优选由现有的高压水银灯在20℃～50℃的低温下进行。作为照射时间，为10秒钟～180秒钟，优选为30秒钟～60秒钟。并用后曝光及后烘烤的情况下，优选首先实施后曝光。

＜通过干式蚀刻法进行图案形成的情况＞

干式蚀刻法中的图案形成能够通过如下方法进行：对支撑体上的组合物层进行固化来形成固化物层，接着，在该固化物层上形成图案化的抗蚀剂层，接着，将图案化的抗蚀剂层作为遮罩使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻等。作为抗蚀剂层的形成工序，期望实施曝光后的加热处理、显影后的加热处理(后烘烤处理)的方式。关于干式蚀刻法中的图案形成，能够参考日本特开2013-064993号公报的0010～0067段的记载，该内容被编入到本说明书中。

通过进行以上说明的各工序，能够形成本发明的具有特定的分光的膜的图案(像素)。

(固化膜)

接着，对本发明的固化膜进行说明。

本发明的固化膜为对上述的本发明的组合物进行固化而成的固化膜。本发明的固化膜能够优选地用作红外线透射滤波器。例如将本发明的固化膜组装于红外线传感器，由此能够以更高的灵敏度检测水分。

本发明的固化膜优选具有以下(1)的分光特性。根据该方式，能够制得对波长400nm～波长1,000nm的范围的光进行遮光并在来自于可见光线的干扰少的状态下能够透射红外线(优选为超过波长1,000nm的红外线，更优选为波长100nm～波长1,300nm的红外线)的膜。(1)中所示的分光特性中，A/C、最小值A及最大值C的优选范围与上述本发明的固化性组合物中的上述A/C、最小值A及最大值C的优选范围相同。

(1)：在波长1,000nm～波长1,300nm之间存在透射率成为50％的波长Tb，将比上述波长Tb短200nm的波长设为Ta、将比上述波长Tb长200nm的波长设为Tc时的从Ta的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最小值A与从Tc的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最大值C的比即A/C为4.5以上。

本发明的固化膜的膜厚并无特别限定，但是优选为0.1μm～50μm，更优选为0.1μm～20μm，进一步优选为0.5μm～10μm。

(红外线透射滤波器)

本发明的红外线透射滤波器具备本发明的固化膜。

本发明的红外线透射滤波器优选层叠于支撑体而使用。作为支撑体，可举出上述。

本发明的红外线透射滤波器也能够与包含彩色着色剂的滤色器组合而使用。滤色器能够使用包含彩色着色剂的着色组合物来制造。作为彩色着色剂，可举出本发明的组合物中所说明的彩色着色剂。着色组合物还能够含有树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂、表面活性剂、溶剂、聚合抑制剂、紫外线吸收剂等。关于这些详细内容，可举出本发明的组合物中所说明的材料，能够使用这些。

本发明的红外线透射滤波器也能够与具有与本发明的膜不同的分光特性的其他红外线透射滤波器组合而使用。

作为其他红外线透射滤波器，可举出满足以下(1)中所记载的分光特性的过滤器等。(1)中所示的分光特性中，A/C、最小值A及最大值C的优选范围与上述本发明的固化性组合物中的上述A/C、最小值A及最大值C的优选范围相同。

(1)：在波长1,000nm～波长1,300nm之间存在透射率成为50％的波长Tb，将比上述波长Tb短200nm的波长设为Ta、将比上述波长Tb长200nm的波长设为Tc时的从Ta的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最小值A与从Tc的波长至±50nm的范围的波长中的吸光度的最大值C的比即A/C为4.5以上。

(层叠体)

本发明的层叠体包含本发明的固化膜或本发明的红外线透射滤波器及介电质多层膜。

介电质多层膜是指层叠有折射率不同的介电质的膜且以相对于特定波长的防反射或完全反射为目的形成于透镜的表面等的光学薄膜。

介电质多层膜优选至少包含布拉格反射层。

布拉格反射层为沿层的厚度方向具有折射率的变调的层。入射具有与其折射率变调正交的成分的光时，布拉格反射层在各折射率表面产生光透射及反射光，这些彼此干涉，其结果，入射光的一部分被反射。通常，布拉格反射层具有周期性的多层结构且增加或减少层的数，由此能够控制反射率。并且，布拉格反射层中的选择反射通常控制多层构造中的各个层的厚度，由此能够选择反射波长。

作为布拉格反射层的一例，例如能够交替地层叠几十层氧化硅与五氧化铌的薄膜来制作。并且，也能够通过层叠多层高分子薄膜来制作。市售品中，能够使用Sumitomo 3MLimited制的多层反射薄膜“ESR”等。

作为介电质多层膜，例如优选地举出波长Tbnm～波长Tb+200nm的光的透射率为80％以上并且波长400nm～波长Tbnm的光的透射率为10％以下，更优选波长Tbnm～波长Tb+200nm的光的透射率为90％以上并且波长400nm～波长Tbnm的光的透射率为5％以下。

通过本发明的层叠体具有介电质多层膜，认为进一步抑制来自于可见光的干扰的产生。

(固体摄像元件)

本发明的固体摄像元件具有上述的本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体。作为本发明的固体摄像元件的结构，只要为具有本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体的结构且作为固体摄像元件而发挥功能的结构则并无特别限定，但是例如可举出如以下的结构。

为如下结构：在支撑体上具有包括构成固体摄像元件(CCD影像传感器、CMOS影像传感器等)的受光区域的多个光二极体及多晶硅等的传输电极，在光二极体及传输电极上具有仅开口光二极体的受光部的由钨等构成的遮光膜，在遮光膜上具有以覆盖遮光膜整面及光二极体受光部的方式形成的由氮化硅等构成的设备保护膜，在设备保护膜上具有本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体的结构。另外，也可以为如下结构：在设备保护膜上且本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体的下部(与支撑体邻近的一侧)具有聚光机构(例如为显微透镜等。以下相同)的结构或在本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体具有聚光机构的结构等。

(传感器)

本发明的传感器(光学传感器，优选为红外线传感器)包含上述的本发明的固化膜、本发明的红外线透射滤波器或本发明的层叠体。作为红外线传感器的结构，只要为作为红外线传感器而发挥功能的结构则并无特别限定。以下，使用图式对本发明的红外线传感器的一实施方式进行说明。

图1中，符号110为固体摄像元件。设置于固体摄像元件110上的摄像区域具有红外线截止滤波器111及红外线透射滤波器114。并且，在红外线截止滤波器111上层叠有滤色器112。在滤色器112及红外线透射滤波器114的入射光hν侧配置有显微透镜115。以覆盖显微透镜115的方式形成有平坦化层116。

红外线截止滤波器111为透射可见光线区域的光(例如，波长400～700nm的光)且遮蔽红外区域的光的过滤器。滤色器112为形成有透射吸收可见区域中的特定波长的光的像素的滤色器，并无特别限定，能够使用以往公知的像素形成用滤色器。例如可使用形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的像素的滤色器等。例如能够参考日本特开2014-043556号公报的0214～0263段的记载，该内容被编入到本说明书中。红外线透射滤波器114为具有可见光线遮蔽性且透射特定波长的红外线的过滤器，由具有上述的分光特性的本发明的膜或层叠体构成。

图1所示的红外线传感器中，还可以在平坦化层116上配置有与红外线截止滤波器111不同的红外线截止滤波器(其他红外线截止滤波器)。作为其他红外线截止滤波器，可举出具有含有铜的层和/或介电质多层膜的滤波器等。关于这些详细内容可举出上述。并且，作为其他红外线截止滤波器，也可以使用双频带通滤波器。

并且，图1所示的实施方式中，滤色器112设置于比红外线截止滤波器111更靠入射光hν侧，但是也可以替换红外线截止滤波器111与滤色器112的顺序将红外线截止滤波器111设置于比滤色器112更靠入射光hν侧。

并且，图1所示的实施方式中，红外线截止滤波器111与滤色器112相邻而层叠，但是两个过滤器无需相邻，也可以在其之间设置有其他层。

并且，图1所示的实施方式中，还可以包含具有与红外线透射滤波器114不同的分光特性的其他红外线透射滤波器。

图2所示的红外线传感器为本发明的红外线传感器的另一实施方式，该红外线传感器在固体摄像元件110的摄像区域具有红外线透射滤波器114及与红外线透射滤波器114不同的第2的红外线透射滤波器120。并且，红外线透射滤波器114及第2的红外线透射滤波器120的入射光hν侧配置有显微透镜115。以覆盖显微透镜115的方式形成有平坦化层116。

图2所示的红外线传感器中，作为第2的红外线透射滤波器120，也可以具有2种以上具有不同的分光特性的红外线透射滤波器。

(图像显示装置)

本发明的膜或层叠体也能够用于液晶显示装置或有机电致发光(有机EL)显示装置等图像显示装置。关于显示装置的定义或各显示装置的详细内容，例如记载于“电子显示器设备(佐佐木昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.1990年发行)”、“显示器设备(伊吹顺章著、Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.平成元年发行)”等。并且，关于液晶显示装置，例如记载于“下一代液晶显示器技术(内田龙男编集、Kogyo ChosakaiPublishing Co.,Ltd.1994年发行)”。本发明能够应用的液晶显示装置的类型并无特别限制，例如能够应用于上述“下一代液晶显示器技术”中所记载的各种方式的液晶显示装置。

图像显示装置可以为作为显示元件具有白色有机EL元件的图像显示装置。作为白色有机EL元件，优选为串联结构。关于有机EL元件的串联结构，记载于日本特开2003-045676号公报、三上明义监修、“有机EL技术开发的最前线-高亮度·高精度·长寿命化·技术知识册-”、技术资讯协会、326-328页、2008年等。由有机EL元件发光的白色光的光谱优选在蓝色区域(430nm-485nm)、绿色区域(530nm-580nm)及黄色区域(580nm-620nm)具有强的极大发光峰值。除了这些发光峰值以外，更优选还在红色区域(650nm-700nm)具有极大发光峰值。

[实施例]

以下，通过实施例对本发明进行更具体地说明，但是本发明只要不脱离其宗旨，则并不限定于以下实施例。另外，只要没有特别说明，“份”、“％”为质量基准。

(实施例1～79及比较例1～6)

＜可见吸收分散液、红外吸收分散液的制备＞

各实施例或比较例中，以下述表1～表29中所记载的组成制备了可见吸收分散液和/或红外吸收分散液。

例如，实施例1中，制备了可见吸收分散液R1、Y1、B1、红外吸收分散液IR1及IR2共计5个分散液。

具体而言，使用0.3mm直径的氧化锆微珠，通过珠磨(附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.制))混合分散3小时，分别制备了各实施例或比较例中的可见吸收分散液和/或红外吸收分散液。

表1～表29中，“可见颜料”的栏中记载了所使用的可见光吸收化合物的种类及含量，“可见衍生物”的栏中记载了所使用的颜料衍生物的种类及含量，“分散剂”的栏中记载了所使用的分散剂的种类及含量，“溶剂”的栏中记载了所使用的溶剂的种类及含量。

并且，表1～表29中，“红外颜料”的栏中记载了所使用的其他红外线吸收剂的种类及含量，“红外衍生物”的栏中记载了所使用的颜料衍生物的种类及含量。

另外，各表中所记载的可见吸收分散液及红外吸收分散液中的各成分的含量为制备最终固化性组合物时的固化性组合物中的含量。

并且，表1～表29中，“-”的记载表示未使用相应的化合物。

＜固化性组合物的制备＞

各实施例或比较例中，将下述表1～表29中所记载的成分混合成各表中所记载的组成(质量份)来制备了固化性组合物。

具体而言，通过混合所制备的上述可见吸收分散液、上述红外吸收分散液、可见染料、红外染料(红外线吸收剂)、树脂、聚合性单体(固化性化合物)、聚合引发剂、添加剂、聚合抑制剂(polymerizationinhibitor)、表面活性剂及溶剂来进行了制备。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

[表8]

[表9]

[表10]

[表11]

[表12]

[表13]

[表14]

[表15]

[表16]

[表17]

[表18]

[表19]

[表20]

[表21]

[表22]

[表23]

[表24]

[表25]

[表26]

[表27]

[表28]

[表29]

表1～表29中，由符号记载的化合物的详细内容为如下述。

〔可见颜料(可见光吸收化合物)〕

VP-1：C.I.颜料红254

VP-2：C.I.颜料红122

VP-3：C.I.颜料黄139

VP-4：C.I.颜料黄185

VP-5：C.I.颜料蓝15:6

VP-6：C.I.颜料蓝16

VP-7：C.I.颜料紫23

VP-8：Irgaphor Black X11(BASF公司制)

VP-9：C.I.颜料黑32

VP-10：Si单体粒子

VP-11：C.I.颜料黑7

〔可见衍生物(颜料衍生物)〕

VS-1：C.I.颜料红254-SO₃H衍生物

VS-2：C.I.颜料黄139-SO₃H衍生物

VS-3：C.I.颜料蓝15:6-SO₃H衍生物

VS-4：C.I.颜料红254-NH₂衍生物

VS-5：C.I.颜料黄139-NH₂衍生物

VS-6：C.I.颜料蓝15:6-NH₂衍生物

〔分散剂〕

D-1：下述结构的化合物

D-2：下述结构的化合物

[化学式42]

〔溶剂〕

S-1：PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)

S-2：PGME(丙二醇单甲醚)

S-3：环戊酮(Cyclopentanone)

〔可见染料(可见光吸收化合物)〕

VD-1：RDW-K01(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)

〔红外颜料(其他红外线吸收剂)〕

IP-1：下述结构的化合物

IP-2：下述结构的化合物

IP-3：下述结构的化合物

IP-4：下述结构的化合物

IP-5：下述结构的化合物

[化学式43]

[化学式44]

[化学式45]

〔红外衍生物(颜料衍生物)〕

IS-1：下述结构的化合物

IS-2：下述结构的化合物

IS-3：下述结构的化合物

IS-4：下述结构的化合物

IS-5：下述结构的化合物

IS-6：下述结构的化合物

IS-7：下述结构的化合物

[化学式46]

[化学式47]

[化学式48]

[化学式49]

[化学式50]

[化学式51]

〔红外染料(红外线吸收剂)〕

ID-1：下述结构的化合物(极大吸收波长：902nm)

ID-2：下述结构的化合物(极大吸收波长：1,007nm)

ID-3：下述结构的化合物(极大吸收波长：1,104nm)

ID-4：下述结构的化合物(极大吸收波长：1,156nm)

ID-5：下述结构的化合物(极大吸收波长：1,176nm)

ID-6：下述结构的化合物(极大吸收波长：1,311nm)

ID-7：ST7/4(Syntech公司制)

ID-8：CIR-RL(Japan Carlit Co.,Ltd.制)(极大吸收波长：1，104nm)

[化学式52]

[化学式53]

〔树脂〕

B-1：下述结构的化合物

B-2：下述结构的化合物

B-3：ARTON F4520(JSR CORPORATION制)

B-4：ARTON D4540(JSR CORPORATION制)

B-5：Neoprim S-200(MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY,INC.制)

[化学式54]

〔聚合性单体(固化性化合物)〕

M-1：下述结构的化合物

M-2：下述结构的化合物

M-3：A-DPH(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)

M-4：A-BPE-10(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)

[化学式55]

〔聚合性引发剂〕

I-1：IRGACURE OXE01(BASF公司制)

I-2：IRGACURE 369(BASF公司制)

I-3：NCI-930(ADEKA Corporation制)

〔添加剂〕

A-1：下述结构的化合物

A-2：AO-80(ADEKA Corporation制)

A-3：LA-82(ADEKA Corporation制)

A-4：OGSOLPG-100(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制)

[化学式56]

〔聚合抑制剂(polymerizationinhibitor)〕

In-1：对甲氧基苯酚

In-2：1,2-二甲氧基苯酚

〔聚合抑制剂(polymerizationinhibitor)〕

Su-1：MegafacF-781F(DIC CORPORATION CO.,LTD.制)

Su-2：MegafacF-554F(DIC CORPORATION CO.,LTD.制)

(评价)

＜固化膜的制作＞

以下示出各实施例或比较例中进行的固化膜的制作方法的一例，但是本发明的固化膜并不限定于此。

例如，通过下述成膜方法对除了实施例69～71的各实施例或比较例中所得到的固化性组合物进行了成膜。

以后烘烤后的膜厚成为上述表中所记载的目标膜厚(单位：μm)的值的方式，将各组合物涂布于支撑体上，接着使用加热板在100℃下加热了120秒钟。

接着，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制)，使用任意尺寸的光罩，以成为所期望的图案尺寸的曝光量对涂布后的固化性组合物(涂布膜)进行了曝光。

之后，将形成有经曝光的涂布膜的基板载置于旋转·喷淋显影机(DW-30型、CHEMITRONICS CO.,Ltd.制)的水平转台上，使用CD-2060(氢氧化四甲基铵水溶液、FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制)在23℃下进行60秒钟旋覆浸没显影，形成了固化膜。

通过纯水对形成有固化膜的图案的基板进行冲洗处理，之后进行了旋转干燥。另外，使用200℃的加热板进行300秒钟加热处理(后烘烤)，制造了固化膜。

关于实施例69～71，通过相同的方法进行了涂布·加热之后，使用加热板在220℃下进行300秒钟加热处理，由此形成了固化物层。

接着，在固化物层上涂布正型光刻胶「FHi622BC”(FUJIFILM ElectronicMaterials Co.,Ltd.制)，在110℃下进行1分钟预烘烤，形成了膜厚3.0μm的光阻剂层。

接着，使用i射线步进机(Canon Inc.制)以200mJ/cm²的曝光量对光阻剂层进行图案曝光，接着，在光阻剂层的温度或环境温度成为90℃的温度下进行了1分钟加热处理。之后，使用显影液“FHD-5”(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制)进行1分钟的显影处理，进而在110℃下实施1分钟之后烘烤处理，形成了光阻图案。

接着，将光阻图案作为蚀刻遮罩，按以下顺序进行了固化物层的干式蚀刻。

通过干式蚀刻装置(Hitachi High-Technologies Corporation制、U-621)，RF功率：800W、天线偏压：400W、晶圆偏压：200W、腔室的内部压力：4.0Pa、基板温度：50℃、将混合气体的气体种类及流量设为CF₄：80mL/min、O₂：40mL/min、Ar：800mL/min，实施了80秒钟的第1段阶的蚀刻处理。

接着，通过相同的蚀刻腔室，RF功率：600W、天线偏压：100W、晶圆偏压：250W、腔室的内部压力：2.0Pa、基板温度：50℃、将混合气体的气体种类及流量设为N₂：500mL/min、O₂：50mL/min、Ar：500mL/min(N₂/O₂/Ar＝10/1/10)，实施了28秒钟的第2段阶蚀刻处理、过度蚀刻处理。

在上述条件下进行了干式蚀刻之后，使用光刻胶剥离液“MS230C”(FUJIFILMElectronic Materials Co.,Ltd.制)实施了120秒钟剥离处理而去除抗蚀剂，进而实施了基于纯水的清洗、旋转干燥。之后，在100℃下进行2分钟的脱水烘烤处理，制造了实施了所期望的图案化的固化膜。

使用上述成膜法，在国际公开第2017/159130号的实施例1的基板11与透镜17之间制作固化膜，制作了附固化膜的传感器。

关于“介电质”的栏中记载为“有”的实施例，在基板11上蒸镀介电质多层膜，进而通过上述成膜法制作固化膜，形成透镜17，制作了传感器。

＜半值波长、吸光度比及遮蔽度的测量＞

各实施例或比较例中，对所得到的固化膜进行了半值波长、吸光度比及遮蔽度的测量。

具体而言，使用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-TechnologiesCorporation制U-4100)，对各实施例或比较例中所得到的固化膜进行了半值波长(上述波长Tb)、吸光度比(上述A/C)及遮蔽度(上述A'/C)的测量。

测量结果分别记载于表1～表29中。

＜来自于可见光的干扰的测量＞

暗室中设置有2个在波长400nm～波长2,000nm的范围具有均等的光扩散性能的白色扩散板。

对其中一个白色扩散板照射对AM1.5G条件的波长300nm～波长400nm区域与比波长800nm更长的波长区域进行遮蔽的光，对另一个照射了从具有1.0μW/cm²的发光面强度及预定的波长的红外LED(light emitting diode)光源发射的光。关于红外LED光源的波长，具体而言，实施例21～24为1300nm，实施例79为1100nm，其他为1200nm。

之后，使用所制作的摄像元件拍摄两个扩散板的同时，夹持未从AM1.5G条件改变光谱形状的减光板，由此降低发光强度。

与两个扩散板的信号强度相比，记录AM1.5G侧的强度Iv实现红外LED侧的强度I的1/10的减光率，通过下述评价基准进行了评价。评价结果记载于表1～表29的“外光”的栏中。

〔评价基准〕

5：以减光率0％实现

4：以减光率90％实现

3：以减光率99％实现

2：以减光率99.9％实现

1：即使以减光率99.9％也无法实现

上述试验结果中，数值(1～5)越大，结果越良好。

本试验结果良好的组合物被认为即使例如在太阳光的存在下也能够获得来自于可见光的干扰(外光干扰)少的红外线图像。

＜高湿灵敏度的评价＞

使用上述“固化膜的制作”中所制作的实施例的固化性组合物的传感器(具备本发明的固化膜的传感器)中，在温度20℃/相对湿度95％的空间下拍摄300m处的目的波长的目标的图像与在温度20℃/相对湿度10％的空间下拍摄300m处的目标的图像相同(A判定)。

相对于此，使用比较例3的组合物的传感器中，在高湿度下显著地发现了图像的残影(B判定)。具体而言，使用比较例3的组合物的传感器中，与在温度20℃/相对湿度10％的空间在拍摄300m处的目标的图像相比，在温度20℃/相对湿度95％的空间下拍摄300m处的目的波长的目标的图像像的残影显著。

使用本试验结果良好的(A判定)固化性组合物的传感器能够获得很难依赖于湿度且良好的图像。

＜角度依赖性的评价＞

从上述“固化膜的制作”中所制作的各实施例或比较例中的传感器的受光面的法线方向，从0度及30度照射波长400nm～波长1,800nm的波长的光，获得了每个入射角度的信号。

使用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100)，对上述信号测量半值宽，得到了半值宽的变化(0度中的半值宽与30度中的半值宽的差的绝对值)。按照下述评价基准评价角度依赖性，评价结果记载于表1～表29中。

(评价基准)

5：半值宽完全不变

4：半值宽的变化小于10nm

3：半值宽的变化为10nm～20nm

2：半值宽的变化为20nm～30nm

1：半值宽的变化超过30nm

上述试验结果中，数值(1～5)越大，结果越良好。

本试验良好的组合物能够获得在图像的中心部及端部很难产生灵敏度差且良好的图像。

＜低背化的评价＞

各实施例或比较例中，通过上述方法在玻璃基板上制作各组合物膜(固化膜)，针对存在这些膜的图案的部位及不存在这些膜的图案的部位进行了基于下述触感的评价。

试验人员为5名以上的20多岁，试验人员用惯用手的食指触摸经提示的膜而非肉眼观察。试验人员被指示仅对刺激片沿垂直方向施加力而不进行跟踪动作。施加的力始终显示于液晶显示器上，将试验人员本身施加的力调节成1N。

试验人员强制性回答了两种是否在接触表面有凹凸。在试行各实验之前，使基板在恒温板(日亚理化制NHP-45N)上保温到32℃，以免热量的移动成为凹凸感的原因。关于试行，对各基板均进行了10次。按照下述评价基准评价了低背化，评价结果记载于表1～表29中。

(评价基准)

A：存在凹凸的回答率为50％以下

B：存在凹凸的回答率超过50％

本试验为良好(A)的组合物膜被认为即使导入到传感器也很难对有意的高背化带来影响。

＜耐光性的评价＞

各实施例或比较例中，通过上述方法在玻璃基板上形成固化膜，放入耐光试验机(照度1万Lx、温度50℃、相对湿度50％)6个月，实施了耐光性评价。

关于耐光性评价前后的膜，测量波长400nm～波长1,300nm的光的透射率T％，求出该差量的ΔT％＝|T％(耐光性试验前)-T％(耐光性试验后)|来评价了耐光性。按照下述评价基准评价了耐光性，评价结果记载于表1～表29中。

(评价基准)

5：ΔT％＜3％

4：3％≦ΔT％＜5％

3：5％≦ΔT％＜10％

2：10％≦ΔT％＜20％

1：20％≦ΔT％

从表1～表29中所记载的结果可知，本发明的固化性组合物抑制在固化后的固化膜中来自于可见光的干扰的产生、高湿灵敏度优异且角度依赖性优异且能够低背化。

另外，实施例1中，未添加聚合抑制剂的情况下，未添加表面活性剂的情况下，均为与实施例1相同的结果。

可知比较例1的固化性组合物不含有满足上述式1(Y＞X×0.5)的红外线吸收剂，因此不会抑制固化后的固化膜中来自于可见光的干扰的产生。

可知比较例2的固化性组合物不含有满足上述式1(Y＞X×0.5)的红外线吸收剂而仅具有介电质多层膜，因此虽然抑制来自于可见光的干扰的产生但是角度依赖性较差。

可知比较例3中所记载的固化性组合物不含有满足上述式1(Y＞X×0.5)的红外线吸收剂，因此固化后的固化膜中高湿灵敏度较差。

可知比较例4中所记载的固化性组合物的上述A/C的值小于4.5，因此不会抑制固化后的固化膜中来自于可见光的干扰的产生。

可知比较例5中所记载的固化性组合物中，在波长1,000nm～波长1,300nm之间不存在上述波长Tb且在固化后的固化膜中很难透射红外线，因此无法获得红外线图像。

可知比较例6中所记载的固化性组合物中，在波长1,000nm～波长1,300nm之间不存在上述波长Tb，因此以0.1μm～100μm中的任一厚度涂布上述固化性组合物时，不存在Tb且低背化较差。

符号说明

110-固体摄像元件，111-红外线截止滤波器，112-滤色器，114-红外线透射滤波器，115-显微透镜，116-平坦化层，120-第2的红外线透射滤波器。