具体实施方式

为使得本发明的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，下面所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而非全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1所示，本实施例提供了一种减少镜头反射的方法，用于解决上述背景技术中存在的技术问题。

需要说明的是，镜头组件包括有镜头架和镜头，镜头架通常为带有安装孔的筒体或圆环，安装孔用于安装固定镜头和采集光。当摄像时，光线进入安装孔，一部分进入镜头进行成像，一部分照在镜头周边的镜头架表面上，经反射后可能再次进入镜头。因此，本实施例提供的方法，目的是降低该反射光，以减少光在镜头架的内腔反射，从而减少反射光对成像的干扰，以保证镜头组件的成像质量。

该减少镜头反射的方法，具体包括：

步骤S1、提供真空镀膜机，打开镀膜室，清洁真空室，放置镜头座架，关闭镀膜室；

该步骤为镀膜前期准备工作之一；

步骤S2、选择好减反射膜膜系，导入真空镀膜机；

该步骤为确定减反射膜的膜层数，并确定每层膜层的膜厚；并根据膜层数和膜厚，设置Si和Ti为靶材；

步骤S3、开机械泵和扩散泵，开预阀，20分钟后，关预阀，开低阀，对镀膜室抽低真空；

该步骤为镀膜前期准备工作之一；

步骤S4、当镀膜室气压低于0.1Pa时，关低阀，开高阀，对镀膜室抽高真空；

该步骤为镀膜前期准备工作之一；

步骤S5、当镀膜室气压达到0.01Pa后，无需打开烘烤，保持室温范围，开启旋转，转速为15转/分钟；

该步骤为镀膜前期准备工作之一；其中，保持室温的目的是为了防止高温损坏镜头架，因为镜头架通常为塑料材质，需要使用冷镀方式；然后开启旋转，使镜头架旋转，为镀膜作准备；

步骤S6、当镀膜室气压为0.001Pa以下时，对真空室充氧气，然后开启离子源、膜厚控制仪和电子枪蒸镀；

该步骤为镀膜过程，通过电子枪蒸镀，使镜头架的表面形成交替层叠的SiO₂膜层和TiO₂膜层，从而形成减反射膜；镀膜过程中，可以通过膜厚控制仪控制每一层的膜厚，即控制SiO₂膜层和TiO₂膜层的厚度；

步骤S7、蒸镀完毕后，转入超声波流水线清洗。

该步骤为在蒸镀完毕后，需要对膜层表面进行清洗，本实施例可以使用超声波清洗。

本实施例提供的一种减少镜头反射的方法，镀膜后的镜头腔内反射低于1％，有效地减少了干扰光，保证了镜头组件的成像质量。

进一步地，为了保证减反射膜的效果，该减反射膜的层数为5～12层中的任一层数，由SiO₂膜层和TiO₂膜层交替层叠组成。

具体的，膜层数和对应的膜厚如下表所示，基底为塑料(对应镜头架)，通带(高透过率的波段)为：400nm～700nm。

进一步地，在本申请的另一实施例中，还提供了一种镜头组件，包括：

镜头架，镜头架上设有镜头；

减反射膜，减反射膜设置于镜头架的表面，并围绕镜头圆周设置，用于减少镜头架的表面的光反射。

具体的，该减反射膜采用如上所述的减少镜头反射的方法镀在镜头架上。

综上所述，上述实施例提供的一种减少镜头反射的方法及镜头组件，通过在镜头架的表面镀减反射膜，用于减少镜头架的表面的光反射，从而降低光反射对成像的影响，提高了成像质量。

以上所述，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。