废包装桶清洗剂及清洗工艺

本发明属于危险废物包装处理技术领域,尤其涉及一种废包装桶清洗剂及清洗工艺,所述清洗剂包括的组分及各组分的重量百分含量为：航空煤油87-89％,异己二醇4-6％,乙二醇丁醚6-8％,油料香精0.05-0.2％。本发明的有益效果是：该清洗剂沸点高,闪点高,价格较有机溶剂低,可对废矿物油、树脂、胶体、涂料、染料等难清洗废包装桶进行清洗,清洗效果好,应用范围广,清洗后的废溶剂可有价销售,是一种环保、有效、经济的油性清洗剂。

2021-10-29

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一种无残留汽车空调管道清洗剂及其制备方法

一种无残留汽车空调管道清洗剂及其制备方法,涉及清洗剂领域；包括如下质量百分比计的组分：极性溶剂3-15％；非极性溶剂45-65％；氯代烃10-20％；液化石油气20-35％。本发明的一种无残留汽车空调管道清洗剂,去污力强、安全、性质稳定,可以清除空调系统管道内部在运行过程中产生的金属粉末、油污及微量水分,并且易挥发、无残留。氯代烃的溶解性很强,具有较强的脱脂能力,且易挥发；采用极性溶剂和非极性溶剂的复配,可以增强对油污和极性污垢的清洗力,提高清洗剂的稳定性；脱臭液化石油气为抛射剂,为气雾剂型清洗剂提供强大的喷射力。

2021-10-29

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一种珠宝清洗剂及其制备方法

本发明涉及清洗剂技术领域,尤其涉及一种珠宝清洗剂及其制备方法。珠宝清洗剂按质量百分比计,其组分包括酸性溶液3～8%、水30～50%、有机溶剂5～10%、渗透剂5～15%、缓蚀剂4～10%、光亮剂25～50%、气味调节剂0.1～0.5%。所述制备方法包括如下步骤：将水和渗透剂搅拌均匀,缓慢加入酸性溶液并搅拌均匀,依次加入缓蚀剂、有机溶剂、光亮剂并搅拌均匀,加入气味调节剂,搅拌均匀后得到所述清洗剂成品。本发明的珠宝清洗剂对饰品本身无损伤,具有温和、快速、高效的优点。通过光亮剂和缓蚀剂的协同作用,同时还具有耐腐蚀、增亮的作用。添加的气味调节剂,很好的掩盖了清洗剂中令人不愉快的气味,改善了清洗剂的使用体验。

2021-10-29

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一种具有泡腾效果的果蔬清洗剂及其制备方法和用途

本发明公开了一种具有泡腾效果的果蔬清洗剂及其制备方法和用途,属于洗涤剂技术领域,本发明中的清洗剂包含有以下质量百分比的原料：食用盐10-15％、小苏打15-18％、无水柠檬酸15-16％、豆浆粉2-3％、大米粉2-3％、淀粉2-4％、余量为食用纯碱。本发明使用的原料多来自于日常生活用料,具有来源广泛,价格低廉的特点,分解后物质无毒无害、易于清洗,具有高效、安全的优点。

2021-10-26

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一种化学清洗液及其使用方法

本发明提供一种化学清洗液及其使用方法,其中所述化学清洗液含有氧化剂、吡唑及其衍生物、氧化剂稳定剂、二甘醇胺、氟化物以及水。本发明的清洗液清洗能力强,可一步有效去除铜大马士革工艺中等离子体刻蚀残留物和硬膜氮化钛,并且对金属Cu和非金属介质(如SiON、TEOS、低介质常数材料BDII等)均有较小的腐蚀速率。

2021-10-22

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一种用于马桶清洁的泡腾片、制备方法及应用

本发明公开了一种用于马桶清洁的泡腾片,按照质量百分比计算,所述泡腾片包括过碳酸钠60％－70％、柠檬酸5％－10％、小苏打8％－15％和聚乙二醇6000 12％－18％。本发明的有益效果在于,当如厕后,将本泡腾片直接置入马桶内,可以将马桶内的细菌或病毒有效杀灭,或者当如厕冲水后,将本泡腾片直接置入马桶内,可将残留的细菌或者病毒有效杀灭。

2021-10-15

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异丙醇和溶剂油的混合物在半导体设备表面处理的方法

异丙醇和溶剂油的混合物在半导体设备表面处理的方法,所述处理方法包括如下步骤：S1、常温状态下,将纯异丙醇和脱芳烃类溶剂油分别置入调试模块,进行搅拌反应,得到混合物；S2、使用混合物浸湿无尘布；S3、运用无尘布覆盖需要清洁的半导体设备表面,降低油性污染物和金属污染物与设备表面的粘结力；S4、再用无尘布擦拭半导体设备表面,使得油性污染物和金属污染物剥离设备表面,达到清洁效果,常温下表面残留清洁剂可快速挥发。该异丙醇和溶剂油的混合物在半导体设备表面处理的方法,利用异丙醇的高清洁效果、渗透性和溶剂油的稳定性、低粘性,提高了对半导体设备表面油性污染物和金属污染物的处理。

2021-10-15

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一种化学机械抛光清洗液及其使用方法

本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及其使用方法,该清洗液包含两种C原子数不同的有机碱、分散助剂、余量为水。本发明的化学机械抛光清洗液是一种用于硅晶圆片抛光垫的清洗液,通过对化学机械抛光后抛光垫的清洗,能够改善抛光后硅晶圆片的表面质量,延长抛光垫的使用时间,降低成本。

2021-10-01

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一种PU、PVC处理剂及其制备方法

本发明公开了一种PU、PVC处理剂,包括以下质量份数组分：四氢呋喃10－20份,环己酮25－35份,丁酮35－50份,碳酸二甲酯5－10份,TPU德国巴斯夫733 4.5－5.5份,HDI三聚体0.5－1份。本发明还公开了PU、PVC处理剂制备方法,包括以下步骤：按质量份数将环己酮、丁酮、四氢呋喃、碳酸二甲酯、HDI三聚体投入后边分散边投入TPU德国巴斯夫733,转速为500-800转/分钟,搅拌2-3小时使其溶解分散均匀后过400目筛,放料,包装成品。所得产品PU、PVC处理剂可有效去除PU、PVC表面油污、能够强力渗透PU、PVC表层,提高粘合力。

2021-10-01

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一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液

本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液,包括所述清洗液按照以下质量百分比的原料制成：胍或胍的衍生物的质量百分比1～20％,链烷醇胺的质量百分比1～20％,抗氧化剂的质量百分比0.1～10％,可选的含氮杂环的金属腐蚀阻止剂的质量百分比0.01～5％。本发明中的清洗液不含季铵碱。该清洗液除了可以有效去除抛光后铜晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留并不对铜表面明显腐蚀,该清洗液可以对在半导体高级节点中使用的钴的阻碍层具有保护性能。

2021-09-28

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