阅读说明：本技术 波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置 (Manufacturing method of wavy wiring, mask plate and display device ) 是由 余晶晶 于 2020-06-24 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置。波浪形起伏走线的制作方法包括步骤：制作衬底层、制作金属层、制作光阻层、设置掩膜板、光阻层图案化以及制作波浪形起伏走线。本发明根据波浪形起伏走线的实际值与设计值存在的差异偏差,对掩膜板进行适当修正补偿,从而实现在延伸方向宽度均匀的波浪形起伏走线,解决了波浪形起伏走线在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致的技术问题,实现了波浪形起伏走线的宽度均一。(The invention provides a manufacturing method of wavy routing wires, a mask plate and a display device. The manufacturing method of the wavy routing wire comprises the following steps: manufacturing a substrate layer, manufacturing a metal layer, manufacturing a light resistance layer, arranging a mask plate, patterning the light resistance layer and manufacturing wavy undulating wiring. According to the invention, the mask plate is properly corrected and compensated according to the difference deviation between the actual value and the designed value of the wavy routing, so that the wavy routing with uniform width in the extending direction is realized, the technical problem that the wavy routing cannot realize uniform width in the extending direction is solved, and the uniform width of the wavy routing is realized.)

波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示屏幕以其自发光，广视角、高对比度、响应速度快等特点成为当前显示主流趋势。

当前，随着人们对极致显示体验的追求，全面屏、窄边框等成为当期显示开发的热点。OLED显示屏幕在实现全面屏、窄边框时，通常需要将柔性屏幕的焊盘(Pad，或称为“垫”)绑定区域进行弯折，分布在该区域金属走线会因为弯折反生应力/应变的问题可能出现断裂、裂纹等不良，从而影响信号传送，影响性能表现甚至显示失效。

因而针对于焊盘绑定区域的金属走线进行各种优化设计，从而改善其耐弯折性能，比较典型的有一种波浪形的走线方式，其通过在前工序沉积的膜层上制作凹槽、孔等结构以形成波浪形的衬底层，然后在其上沉积金属膜层，再通过曝光、蚀刻工艺从而得到在膜层堆叠方向的波浪形起伏走线。显然该波浪形起伏走线有处于衬底层的平坦位置，也有处于凹槽、孔底部，也有处于凹槽、孔的边缘位置爬坡。

如图1所示，为现有方法制作的一种波浪形起伏走线90的结构示意图，由于波浪形起伏走线90所处衬底层上位置的不同，在曝光、蚀刻工艺中显然是存在差异的，波浪形起伏走线90沿衬底层上的凹槽、孔等结构形成上下起伏结构，并且制作的波浪形起伏走线90在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致。在图1中，波浪形起伏走线90在位于顶端位置的宽度D1小于位于凹槽、孔底部的宽度D2。

如图2所示，为现有曝光、蚀刻工艺中制作波浪形起伏走线的掩膜板91的结构示意图，经研究发现这是由于在曝光、蚀刻工艺中使用的掩膜板91中对应波浪形起伏走线90位置的缝隙910为均一化的宽度，并由于衬底层上表面与掩膜板91的距离存在差异导致。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置，通过对掩膜板进行适当修正补偿，解决了波浪形起伏走线在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致的技术问题。

为了解决上述问题，本发明提供一种波浪形起伏走线的制作方法，包括步骤：

制作衬底层步骤，制作一衬底层，所述衬底层的上设有多个起伏结构，所述起伏结构设有连续的凸起和凹槽，在所述起伏结构的延伸方向依次为左爬坡、顶端、右爬坡、谷底，用于使所述衬底层的上表面呈高低起伏的波浪形；

制作金属层步骤，在所述衬底层上制作一金属层，所述金属层覆盖在所述衬底层的上表面；

制作光阻层步骤，在所述金属层上制作一光阻层，所述光阻层为正性光阻或者为负性光阻；

设置掩膜板步骤，在所述光阻层上方设置一掩膜板；当所述光阻层为正性光阻时，所述掩膜板在对应预制作波浪形起伏走线位置设有遮光部，所述遮光部在对应所述起伏结构的延伸方向的左爬坡、顶端、右爬坡、谷底位置设有依次连接的左过渡遮光区、顶端遮光区、右过渡遮光区、谷底遮光区，其中所述谷底遮光区的宽度小于所述顶端遮光区的宽度；当所述光阻层为负性光阻时，所述掩膜板在对应预制作波浪形起伏走线位置设有透光部，所述透光部在对应所述起伏结构的延伸方向的左爬坡、顶端、右爬坡、谷底位置设有依次连接的左过渡透光区、顶端透光区、右过渡透光区、谷底透光区，其中所述谷底透光区的宽度小于所述顶端透光区的宽度；

光阻层图案化步骤，通过曝光、刻蚀所述光阻层的方式形成图案化的光阻层；以及

制作波浪形起伏走线步骤，通过刻蚀所述金属层的方式制作形成宽度均匀的波浪形起伏走线。

进一步地，在所述光阻层图案化步骤中包括：

曝光光阻层步骤，在所述掩膜板上方对所述光阻层进行曝光处理；

刻蚀光阻层步骤，通过干法刻蚀所述光阻层；当所述光阻层为正性光阻时，被曝光的光阻层脱离所述金属层；当所述光阻层为负性光阻时，未被曝光的光阻层脱离所述金属层；以及

去除脱离的光阻层，通过剥离方式去除脱离的光阻层。

进一步地，所述金属层的材质包括铜、铝或其合金。

进一步地，制作衬底层步骤包括：

制作至少一介电层步骤，制作至少一层介电层，所述介电层的材质为有机材料或无机材料；以及

制作起伏结构步骤，刻蚀所述介电层形成连续的凸起和凹槽，所述凸起和凹槽相互连接形成多个起伏结构。

进一步地，在所述制作起伏结构步骤中，所述介电层设有两层及两层以上，所述凹槽的槽底位于所述衬底层上表面下方的任一层所述介电层的内部或上表面或下表面。

进一步地，在波浪形起伏走线步骤之后还包括：制作覆盖层步骤，在所述浪形起伏走线上制作至少一覆盖层，所述覆盖层的材质为有机材料或无机材料。

本发明还提供一种掩膜板，其包括遮光部以及透光部，用于制作宽度均匀的波浪形起伏走线；其中，当预制作的波浪形起伏走线上覆盖的光阻层为正性光阻时，所述掩膜板在对应预制作波浪形起伏走线位置设有遮光部，所述遮光部在对应所述起伏结构的延伸方向的左爬坡、顶端、右爬坡、谷底位置设有依次连接的左过渡遮光区、顶端遮光区、右过渡遮光区、谷底遮光区，其中所述谷底遮光区的宽度小于所述顶端遮光区的宽度；当预制作的波浪形起伏走线上覆盖的光阻层为负性光阻时，所述掩膜板在对应预制作波浪形起伏走线位置设有透光部，所述透光部在对应所述起伏结构的延伸方向的左爬坡、顶端、右爬坡、谷底位置设有依次连接的左过渡透光区、顶端透光区、右过渡透光区、谷底透光区，其中所述谷底透光区的宽度小于所述顶端透光区的宽度。

进一步地，在所述掩膜板用于制作波浪形起伏走线时，采用前文所述的波浪形起伏走线的制作方法。

本发明还提供一种显示装置，其包括显示区域和与所述显示区域边缘相邻的非显示区域；在所述非显示区域内设有采用前文所述的波浪形起伏走线的制作方法制作的波浪形起伏走线。

进一步地，所述显示装置还包括：基板，设有所述显示区域以及所述非显示区域；与外部区域相邻的显示单元，所述显示单元位于基板之上，所述显示单元包括像素阵列。所述每个像素包括：位于基板上的有机发光元件，以及与该有机发光元件连接的薄膜晶体管。其中所述有机发光元件包括：电性连接到薄膜晶体管的第一电极；位于第一电极上的有机发射层；以及位于该有机发射层上的第二电极。其中薄膜晶体管包括：位于基板上的有源层；位于该有源层上的栅电极；以及分别与所述有源层的端部电性连接的源电极和漏电极。

本发明的优点在于，提供一种波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置，根据波浪形起伏走线的实际值与设计值存在的差异偏差，对掩膜板进行适当修正补偿，从而实现在延伸方向宽度均匀的波浪形起伏走线，解决了波浪形起伏走线在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致的技术问题，实现了波浪形起伏走线的宽度均一。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有方法制作的一种波浪形起伏走线的结构示意图；

图2为现有曝光、蚀刻工艺中制作波浪形起伏走线的掩膜板的结构示意图；

图3为本发明实施例中的一种波浪形起伏走线的制作方法的流程图；

图4为本发明实施例中所述衬底层的截面图；

图5为本发明实施例中的制作衬底层步骤的流程图；

图6本发明实施例中当光阻层为正性光阻时的掩膜板的结构示意图；

图7本发明实施例中当光阻层为负性光阻时的掩膜板的结构示意图；

图8为本发明实施例中的光阻层图案化步骤的流程图；

图9为本发明实施例中制作完成光阻层时的结构示意图；

图10为本发明实施例中制作的波浪形起伏走线的结构示意图；

图11为本发明实施例中的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

请参阅图3至图10所示，在本发明一实施例中，提供一种波浪形起伏走线的制作方法，如图3所示，该方法包括步骤S1-S7。

S1、制作衬底层步骤，制作一衬底层1，如图4所示，为所述衬底层1的截面图，所述衬底层1的上设有多个起伏结构11，所述起伏结构11设有连续的凸起111和凹槽112，在所述起伏结构11的延伸方向依次为左爬坡110、顶端120、右爬坡130、谷底140，用于使所述衬底层1的上表面呈高低起伏的波浪形。

其中，如图4、图5所示，制作衬底层步骤S1具体包括S11-S12。S11、制作至少一介电层步骤，制作至少一层介电层113，所述介电层113的材质为有机材料或无机材料。S12、制作起伏结构步骤，刻蚀所述介电层113形成连续的凸起111和凹槽112，所述凸起111和凹槽112相互连接形成多个起伏结构11。在所述制作起伏结构步骤S12中，所述介电层113设有两层及两层以上，所述凹槽112的槽底位于所述衬底层1上表面下方的任一层所述介电层113的内部或上表面或下表面。

S2、制作金属层步骤，在所述衬底层1上制作一金属层2，所述金属层2覆盖在所述衬底层1的上表面。所述金属层2的材质包括铜、铝或其合金。

S3、制作光阻层步骤，在所述金属层2上制作一光阻层3，所述光阻层3为正性光阻或者为负性光阻。

S4、设置掩膜板步骤，在所述光阻层3上方设置一掩膜板20；如图6、图7所示，所述掩膜板20包括遮光部21以及透光部22。

如图6所示，当所述光阻层3为正性光阻时，所述掩膜板20在对应预制作波浪形起伏走线位置设有遮光部21，所述遮光部21在对应所述起伏结构11的延伸方向的左爬坡110、顶端120、右爬坡130、谷底140位置设有依次连接的左过渡遮光区211、顶端遮光区212、右过渡遮光区213、谷底遮光区214，其中所述谷底遮光区214的宽度小于所述顶端遮光区212的宽度。优选所述顶端遮光区212和所述谷底遮光区214在所述光阻层3上的投影为矩形，所述左过渡遮光区211和所述右过渡遮光区213在所述光阻层3上的投影为梯形，用于连接所述顶端遮光区212和所述谷底遮光区214。

如图7所示，当所述光阻层3为负性光阻时，所述掩膜板20在对应预制作波浪形起伏走线位置设有透光部22，所述透光部22在对应所述起伏结构11的延伸方向的左爬坡110、顶端120、右爬坡130、谷底140位置设有依次连接的左过渡透光区221、顶端透光区222、右过渡透光区223、谷底透光区224，其中所述谷底透光区224的宽度小于所述顶端透光区222的宽度。优选所述顶端透光区222和所述谷底透光区224在所述光阻层3上的投影为矩形，所述左过渡透光区221和所述右过渡透光区223在所述光阻层3上的投影为梯形，用于连接所述顶端透光区222和所述谷底透光区224。

S5、光阻层图案化步骤，通过曝光、刻蚀所述光阻层3的方式形成图案化的光阻层。其中，如图8所示，在所述光阻层图案化步骤S5中具体包括S51-S53。S51、曝光光阻层步骤，在所述掩膜板20上方对所述光阻层3进行曝光处理。S52、刻蚀光阻层步骤，通过干法刻蚀所述光阻层3；当所述光阻层3为正性光阻时，被曝光的光阻层3脱离所述金属层；当所述光阻层3为负性光阻时，未被曝光的光阻层3脱离所述金属层。S53、去除脱离的光阻层，通过剥离方式去除脱离的光阻层3。如图9所示，为本实施例制作完成光阻层3时的结构示意图。

S6、制作波浪形起伏走线步骤，通过刻蚀所述金属层2的方式制作形成宽度均匀的波浪形起伏走线30。如图10所示，为本实施例制作完成的波浪形起伏走线30的结构示意图。本实施例根据波浪形起伏走线的实际值与设计值存在的差异偏差，对掩膜板20进行适当修正补偿，从而实现在延伸方向宽度均匀的波浪形起伏走线30，解决了波浪形起伏走线在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致的技术问题，实现了波浪形起伏走线30的宽度均一。

S7、制作覆盖层步骤，在所述浪形起伏走线20上制作至少一覆盖层(未图示)，所述覆盖层的材质为有机材料或无机材料。

如图6、图7所示，本发明还提供一种掩膜板20，其包括遮光部21以及透光部22，用于制作宽度均匀的波浪形起伏走线30。

其中一种情形，如图6所示，当预制作的波浪形起伏走线30上覆盖的光阻层3为正性光阻时，所述掩膜板20在对应预制作波浪形起伏走线位置设有遮光部21，所述遮光部21在对应所述起伏结构11的延伸方向的左爬坡110、顶端120、右爬坡130、谷底140位置设有依次连接的左过渡遮光区211、顶端遮光区212、右过渡遮光区213、谷底遮光区214，其中所述谷底遮光区214的宽度小于所述顶端遮光区212的宽度。优选所述顶端遮光区212和所述谷底遮光区214在所述光阻层3上的投影为矩形，所述左过渡遮光区211和所述右过渡遮光区213在所述光阻层3上的投影为梯形，用于连接所述顶端遮光区212和所述谷底遮光区214。

另一种情形，如图7所示，当预制作的波浪形起伏走线30上覆盖的光阻层3为负性光阻时，所述掩膜板20在对应预制作波浪形起伏走线位置设有透光部22，所述透光部22在对应所述起伏结构11的延伸方向的左爬坡110、顶端120、右爬坡130、谷底140位置设有依次连接的左过渡透光区221、顶端透光区222、右过渡透光区223、谷底透光区224，其中所述谷底透光区224的宽度小于所述顶端透光区222的宽度。优选所述顶端透光区222和所述谷底透光区224在所述光阻层3上的投影为矩形，所述左过渡透光区221和所述右过渡透光区223在所述光阻层3上的投影为梯形，用于连接所述顶端透光区222和所述谷底透光区224。

本实施例中，在所述掩膜板20用于制作波浪形起伏走线30时，采用前文所述波浪形起伏走线的制作方法。

如图11所示，本发明还提供一种显示装置100，其包括显示区域101和与所述显示区域101边缘相邻的非显示区域102；在所述非显示区域102内设有采用前文所述的波浪形起伏走线的制作方法制作的波浪形起伏走线30。

如图11所示，本实施例中，所述显示装置100还包括：基板1001，设有所述显示区域101以及所述非显示区域102，所述基板1001包括所述衬底层10；设有所述显示区域101内的显示单元1002，所述显示单元1002位于基板1001之上，所述显示单元1002包括像素阵列。所述每个像素包括：位于基板1001上的有机发光元件4，以及与该有机发光元件4连接的薄膜晶体管5。其中所述有机发光元件4包括：电性连接到薄膜晶体管5的第一电极41；位于第一电极41上的有机发射层42；以及位于该有机发射层42上的第二电极43。其中薄膜晶体管5包括：位于基板1001上的有源层51；位于该有源层51上的栅电极52；以及分别与所述有源层51的端部电性连接的源电极53和漏电极54。

本公开实施例中的显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明的优点在于，提供一种波浪形起伏走线的制作方法、掩膜板及显示装置，根据波浪形起伏走线的实际值与设计值存在的差异偏差，对掩膜板进行适当修正补偿，从而实现在延伸方向宽度均匀的波浪形起伏走线，解决了波浪形起伏走线在其延伸方向上的宽度无法实现均匀一致的技术问题，实现了波浪形起伏走线的宽度均一。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。