一种基于石材加工的研磨抛光系统

文档序号:123893 发布日期:2021-10-22 浏览:32次 >En<

阅读说明:本技术 一种基于石材加工的研磨抛光系统 (Grinding and polishing system based on stone processing ) 是由 欧满权 于 2021-08-27 设计创作,主要内容包括:本发明涉及一种用于石材加工的研磨抛光系统,包括机架、设置于所述机架上的移动机构、设置于所述移动机构上的研磨抛光机构,移动机构包括支撑底板,支撑底板设置于机架上,支撑底板底部设置有电机固定块,电机固定块设置第一驱动电机,第一驱动电机输出端驱动同步轮与同步带,同步带连接驱动块,驱动块的两端均连接第一支撑架,第一支撑架的内侧均设置有第一导轨滑块,第一导轨滑块设置于支撑底板的两侧;而且本发明设置有圆柱形毛毡,在加工时,毛毡对加工过的平面进行摩擦,有效地清除了抛光液,还能通过摩擦产生的热量,提升溶液的活性,推动溶解反应。在吸附过程伴随抛光进行,毛毡在摩擦作用下,不断消除与形成吸附层。(The invention relates to a grinding and polishing system for stone processing, which comprises a rack, a moving mechanism arranged on the rack and a grinding and polishing mechanism arranged on the moving mechanism, wherein the moving mechanism comprises a supporting bottom plate, the supporting bottom plate is arranged on the rack, the bottom of the supporting bottom plate is provided with a motor fixing block, the motor fixing block is provided with a first driving motor, the output end of the first driving motor drives a synchronous wheel and a synchronous belt, the synchronous belt is connected with a driving block, two ends of the driving block are both connected with a first supporting frame, the inner side of the first supporting frame is provided with a first guide rail slide block, and the first guide rail slide blocks are arranged on two sides of the supporting bottom plate; and the invention is provided with the cylindrical felt, while processing, the felt rubs the processed level, has cleared away the polishing solution effectively, can also promote the activity of the solution, promote the dissolution reaction through the heat produced by rubbing. The adsorption process is accompanied with polishing, and the felt is continuously eliminated and forms an adsorption layer under the action of friction.)

一种基于石材加工的研磨抛光系统

技术领域

本发明涉及石材加工领域,尤其涉及一种基于石材加工的研磨抛光系统。

背景技术

如今,天然石材具有良好的物理和化学性能,如抗压、耐磨及耐腐蚀性强,经过研磨加工可以获得优美的外观。近年来,建筑行业、装饰行业等行业迅速发展,石材板材社会需求量不断增加,特别是石材需求量骤增。同时,随着人们审美要求提高,对石材加工工艺提出了更高要求。石材加工中最后工序就是研磨抛光,能够直接影响石材质量与效果。因此,对研磨抛光研究具有重要的现实意义。随着石材制品业向着艺术化、高质量、多样化的发展方向,市场对石材制品的形状、种类、精度和产品尺寸的要求越来越高、需求越来越大,从而对石材加工设备的制造水平和产品种类以及性能提出了越来越高的要求。现如今,在石材研磨加工的过程中还存在着许多问题,如由于研磨抛光的过程中研磨刀与石材加工表面产生了大量的摩擦热,在进行研磨加工时,抛光液残留于石材表面上,导致在研磨抛光降温性能差、无法提升抛光液的活性导致抛光液溶解性能差,影响了抛光的效果,而且现有的技术中无法在研磨抛光的过程中自动清理残余的抛光液,导致多余的残留抛光液腐蚀石材表面,降低了研磨抛光的质量。

发明内容

本发明克服了现有技术的不足,提供了一种基于石材加工的研磨抛光系统。

为达上述目的,本发明采用的技术方案为:

本发明提供了一种用于石材加工的研磨抛光系统,包括机架、设置于所述机架上的移动机构、设置于所述移动机构上的研磨抛光机构;

所述移动机构包括支撑底板,所述支撑底板设置于所述机架上,所述支撑底板底部设置有电机固定块,所述电机固定块设置第一驱动电机,所述第一驱动电机输出端驱动同步轮与同步带,所述同步带连接驱动块,所述驱动块的两端均连接第一支撑架,所述第一支撑架的内侧均设置有第一导轨滑块,所述第一导轨滑块设置于所述支撑底板的两侧;

所述研磨抛光机构包括第二支撑架,所述第二支撑架的一面的两端均设置有第一气缸,所述第一气缸连接第一连接块;所述第一连接块设置第二连接块,所述第二连接块上设置第二气缸,所述第二气缸的输出端连接第三连接块;所述第三连接块上的一面上设置第一立板,所述第一立板上设置有第二驱动电机,所述第二驱动电机的输出端连接联轴器,所述联轴器连接研磨轴,所述研磨轴连接研磨刀夹具且所述研磨轴在研磨刀夹具内做旋转运动,所述研磨轴的尾端固定研磨刀。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述研磨刀夹具固定于第二立板上,所述第二立板固定于第三连接块上。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第二立板的底部设置有第一活动块,所述第一活动块上设置有凹槽,所述第一活动块的凹槽与第二活动块活动连接,所述第二活动块的顶部设置有伸缩杆,所述伸缩杆固定于第二立板上。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第二活动块的底部连接活动轴,所述活动轴上设置有圆柱形毛毡。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述活动轴与第二活动块的连接为可拆卸连接。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第一连接块上还设置有导杆,所述导杆的两端固定于导杆固定块上,所述导杆固定块固定于第二支撑架上。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第三连接块的另一面上设置有第二导轨滑块,所述第二导轨滑块固定于第二连接块上。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第二支撑架的另一面上设置有第三导轨滑块,所述第三导轨滑块连接所述第二连接块。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述支撑底板的底部上还设置有第三驱动电机,所述第三驱动电机的输出端连接齿轮,所述齿轮上固定有石材固定夹具。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第三连接块的底部上设置有冷却液系统,所述冷却液系统连接导管,所述冷却系统在研磨抛光加工时提供冷却液。

本发明解决了背景技术中存在的缺陷,本发明具备以下有益效果:本发明在研磨抛光的过程中,通过冷却系统加入磨料,加入磨料一方面是降低人造石材板面粗糙度,使得人造石材表面更加平整、更光滑,抛光效果更好;另一方面使得人造石材表面形成一层保护膜,提高石材的防污性能、防腐蚀性能和表面硬度。而且本发明设置有圆柱形毛毡,在加工时,毛毡对加工过的平面进行摩擦,有效地清除了抛光液,还能通过摩擦产生的热量,提升溶液的活性,推动溶解反应。在吸附过程伴随抛光进行,毛毡在摩擦作用下,不断消除与形成吸附层。在研磨抛光的过程中,圆柱形毛毡可进行吸收灰尘、清理石材表面的灰尘,防止碎屑残留于石材表面,灰尘在气管中被排出,圆柱形毛毡具有一定的密度,微型灰尘能够通过圆柱形毛毡的细孔,而相对较大的灰尘残留于圆柱形毛毡上。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他实施例的附图。

图1示出了用于石材加工的研磨抛光系统的整体结构示意图;

图2示出了移动机构的部分结构示意图;

图3示出了移动机构的局部结构示意图;

图4示出了研磨抛光机构的部分结构示意图;

图5示出了研磨抛光机构的局部结构示意图;

图6示出了冷却液系统的局部结构示意图;

图中:

1.机架,2.移动机构,3.研磨抛光机构,201.支撑底板,202.电机固定块,203.第一驱动电机,204.同步轮,205.同步带,206.驱动块,207.第一支撑架,208.第一导轨滑块,209.第三驱动电机,210.齿轮,211.石材固定夹具,212.冷却液系统,301.第二支撑架,302.第一气缸,303.第一连接块,304.第二连接块,305.第二气缸,306.第三连接块,307.第一立板,308.第二驱动电机,309.联轴器,310.研磨轴,311.研磨刀夹具,312.第二立板,313.第一活动块,314.第二活动块,315.伸缩杆,316.导杆,317.导杆固定块,318.第二导轨滑块,319.第三导轨滑块,320.活动轴,321.圆柱形毛毡。

具体实施方式

为了能够更加清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述,这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成,需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。

在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

本发明提供了一种用于石材加工的研磨抛光系统,包括机架1、设置于所述机架1上的移动机构2、设置于所述移动机构2上的研磨抛光机构3;

所述移动机构2包括支撑底板201,所述支撑底板201设置于所述机架1上,所述支撑底板201底部设置有电机固定块202,所述电机固定块202设置第一驱动电机203,所述第一驱动电机203输出端驱动同步轮204与同步带205,所述同步带205连接驱动块206,所述驱动块206的两端均连接第一支撑架207,所述第一支撑架207的内侧均设置有第一导轨滑块208,所述第一导轨滑块208设置于所述支撑底板201的两侧;需要说明的是,第一方向(设定为X轴方向)的移动过程为,第一驱动电机203带动同步轮204与同步带204,同步带204带动第一支撑架207,第一支撑架207在第一导轨滑块208的作用下带动研磨抛光机构3完成X轴方向的移动,石材固定于石材固定夹具上,从而在X中的方向上带动石材进行研磨加工。在加工的过程中,可以通过控制终端(电脑程序、PLC程序等)控制第一驱动电机的转动速度,从而控制在X轴方向上的研磨抛光速度。

所述研磨抛光机构3包括第二支撑架301,所述第二支撑架301的一面的两端均设置有第一气缸302,所述第一气缸302连接第一连接块303;所述第一连接块303设置第二连接块304,所述第二连接块304上设置第二气缸305,所述第二气缸305的输出端连接第三连接块306;所述第三连接块306上的一面上设置第一立板307,所述第一立板307上设置有第二驱动电机308,所述第二驱动电机308的输出端连接联轴器309,所述联轴器309连接研磨轴310,所述研磨轴310连接研磨刀夹具311且所述研磨轴310在研磨刀夹具311内做旋转运动,所述研磨轴310的尾端固定研磨刀。所述第二支撑架301的另一面上设置有第三导轨滑块319,所述第三导轨滑块319连接所述第二连接块304。所述研磨刀夹具311固定于第二立板312上,所述第二立板312固定于第三连接块306上。需要说明的是,第二方向(设定为Y轴方向)的移动过程为,第一气缸302带动第一连接块303,从而带动研磨刀,使得研磨刀在Y轴方向上自由移动,而且通过控制终端控制第一气缸302的运行速度来控制研磨时在Y轴方向上的研磨抛光速度。第三方向(设定为Z轴方向)的移动过程为,第二气缸305带动第三连接块,从而使研磨刀在Z轴方向上进行移动,控制研磨时的吃刀量。此外,第二驱动电机308带动联轴器309,进而联轴器309带动研磨轴310,研磨中轴310的研磨刀进行转动,从而研磨刀对石材进行加工。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第二立板312的底部设置有第一活动块313,所述第一活动块313上设置有凹槽,所述第一活动块的凹槽与第二活动块314活动连接,所述第二活动块314的顶部设置有伸缩杆315,所述伸缩杆315固定于第二立板312上。所述第二活动块314的底部连接活动轴320,所述活动轴320上设置有圆柱形毛毡321。需要说明的是,在研磨刀的两侧均设置有圆柱形毛毡321,在加工时,毛毡对加工过的平面进行摩擦,有效地清除了抛光液,还能通过摩擦产生的热量,提升溶液的活性,推动溶解反应。在吸附过程伴随抛光进行,毛毡在摩擦作用下,不断消除与形成吸附层,防止残留液对石材表面腐蚀。而且在第二活动块314上设置伸缩杆315,在第二活动块314与第二立板312之间空隙部位上设置对射光纤,该对射光纤可以实时反馈研磨抛光的加工情况(加工深度越深,第二活动块314与第二立板之间的空隙就越大),如实时研磨抛光深度,以致于对射光纤采集到的信号反馈于控制终端,从而控制终端控制第二气缸305的伸长来控制下一刀的吃刀量,做到精准控制研磨抛光的精加工深度。另外,通过圆柱型毛毡在石材表面的转动能够有效对石材表面的碎屑进行吸附,避免碎屑残留于石材表面上,影响二次抛光效果,整体使用方便,过程简单,实用性强。此外,在所述活动轴320两侧连接气管,圆柱形毛毡321的内部与活动轴320的外部形成一个压强差,使得圆柱形毛毡具备吸附能力。因而,在研磨抛光的过程中,圆柱形毛毡321可进行吸收灰尘、清理石材表面的灰尘,防止碎屑残留于石材表面,灰尘在气管中被排出,圆柱形毛毡321具有一定的密度,微型灰尘能够通过圆柱形毛毡321的细孔,而相对较大的灰尘残留于圆柱形毛毡321上。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述活动轴320与第二活动块314的连接为可拆卸连接。需要说明的是,在使用了一段时间后的圆柱形毛毡321进行更换时,因为所述活动轴320与第二活动块314的连接为可拆卸连接,所以在更换时直接将圆柱形毛毡321与活动轴320取下,更换圆柱形毛毡321,该操作更简单方便。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第一连接块303上还设置有导杆316,所述导杆316的两端固定于导杆固定块317上,所述导杆固定块317固定于第二支撑架301上。需要说明的是,设置导杆316在第一连接块303上,在第一气缸302带动第一连接块303运动时,在导杆的作用下,使得第一气缸302做稳定的直线运动。而且导杆固定块317上设置有距离传感器,通过距离传感器可以实时地反馈气缸的位置信息,从而给定一个预设时间,控制终端控制第一气缸302的移动量,进而来控制Y轴方向的研磨抛光进给量。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第三连接块306的另一面上设置有第二导轨滑块318,所述第二导轨滑块318固定于第二连接块304上。需要说明的是,所述第三连接块306的另一面上设置有第二导轨滑块318,在设置第二导轨滑块318在第三连接块上,可有效增加研磨加工时在Z轴方向上的移动稳定性,从而提升研磨以及抛光的效果。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述支撑底板201的底部上还设置有第三驱动电机209,所述第三驱动电机209的输出端连接齿轮210,所述齿轮210上固定有石材固定夹具211。需要说明的是,石材固定于石材固定夹具211上,利用第三驱动电机209带动齿轮210,从而带动石材进行转动,在研磨与抛光的过程中,可以利用石材的转动对石材进行弧形加工,对于一些需要弧形加工件而言,加工的效率更高。

进一步地,本发明的一个较佳实施例中,所述第三连接块306的顶部设置有冷却液系统212,所述冷却液系统212连接导管,所述冷却系统213在研磨抛光加工时提供冷却液。需要说明的是,本发明在研磨抛光的过程中,通过冷却系统加入磨料,加入磨料一方面是降低人造石材板面粗糙度,使得人造石材表面更加平整、更光滑,抛光效果更好;另一方面使得人造石材表面形成一层保护膜,提高石材的防污性能、防腐蚀性能和表面硬度。

需要说明的是,由于前锯切过程中会产生很多较深划伤,因此用粗磨具可以快速将这些划伤磨除,并使整块人造石材处于同一平面;经过粗磨工序,再应用较细磨具,可改善板材表面组织结构,从而完成最后抛光加工,获得理想的人造石材抛光表面。如图1所示,左右两侧均为可进行研磨抛光的机构,在加工时,双研磨抛光可同时进行加工,快速研磨工件毛坯上的大部分多余材料,只保留后续工序的适当余量,进而进行抛光工序,提升加工效率,而且在材料在去除的过程中,工件的几何形状与数据研磨抛光的进行情况产生一定的动态变化。通过控制终端分析进给方向和切割下刀点对切割进给行程的影响,结合一刀或者多刀的研磨抛光的方式,给出一种进给方向优化方法,实现了研磨抛光加工时间最小化目标化。

此外,本设备的冷却液系统212内部的设置为具有涡轮搅拌机构,在冷却液系统212的顶部连通若干溶剂盒,该溶剂盒通过第二导管通入抛光液,进而启动涡轮搅拌系统,从而调节冷却液系统的冷却液的浓度。

需要说明的是,在设定一个第二驱动电机308转速值时,此时冷却系统对应一个冷却液(抛光液)的浓度值,冷却系统212内设置浓度传感器,控制终端设定一个阈值,当第二驱动电机308的转速达到阈值时,此时根据浓度传感器的浓度反馈值,对应改变抛光液的浓度值,石材将获得较好的抛光效果与表面光泽度。在加工的过程中,研磨刀随着加工的进行,研磨刀的转速增加,石材表面产生更高的温度,抛光液蒸发导致抛光条件恶化。因此,通过冷却液系统212提高抛光液的浓度,能够有效地对石材表面进行降温,在达到控制终端预设的第二驱动电机308的阈值转速时,抛光液浓度值亦达到相应的值,通过冷却液系统212控制抛光液的浓度,进而提升石材表面的光泽度与抛光效果,而且能够有效地降低在研磨抛光时的石材表面温度。增加抛光液的浓度一是为了缓和研磨作用,防止大颗粒磨料对板面造成大的破坏性磨痕;二是为了使抛光面更快出光。

综上所述,本发明在研磨抛光的过程中,通过冷却系统加入磨料,加入磨料一方面是降低人造石材板面粗糙度,使得人造石材表面更加平整、更光滑,抛光效果更好;另一方面使得人造石材表面形成一层保护膜,提高石材的防污性能、防腐蚀性能和表面硬度。而且本发明设置有圆柱形毛毡321,在加工时,毛毡对加工过的平面进行摩擦,有效地清除了抛光液,还能通过摩擦产生的热量,提升溶液的活性,推动溶解反应。在吸附过程伴随抛光进行,毛毡在摩擦作用下,不断消除与形成吸附层,清理了残余的抛光液,防止抛光液(如含草酸的抛光液)对石材表面腐蚀。在研磨抛光的过程中,圆柱形毛毡321可进行吸收灰尘、清理石材表面的灰尘,防止碎屑残留于石材表面,灰尘在气管中被排出,圆柱形毛毡321具有一定的密度,微型灰尘能够通过圆柱形毛毡321的细孔,而相对较大的灰尘残留于圆柱形毛毡321上。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

以上依据本发明的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定技术。

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