阅读说明：本技术 光学膜 (Optical film ) 是由 梶谷俊一 于 2016-12-16 设计创作，主要内容包括：本发明的光学膜用于通过被透光的光引导装置按压于涂布有光固化性树脂的被粘体的一面,并在被所述光引导装置按压的状态下使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂固化,从而在所述被粘体上形成微细结构体,所述光学膜具备：微细凹凸层,形成在基材膜上,并具有凹凸图案；以及微细结构体,形成在所述微细凹凸层上,所述基材膜和所述微细结构体具有光透过性。(An optical film according to the present invention is an optical film for forming a microstructure on an adherend, which is coated with a photocurable resin, by being pressed against one surface of the adherend by a light guide device that transmits light therethrough, and curing the photocurable resin by transmitting the light through the light guide device in a state where the optical film is pressed by the light guide device, the optical film including: a fine uneven layer formed on the base material film and having an uneven pattern; and a microstructure formed on the fine uneven layer, the base film and the microstructure having light transmittance.)

光学膜

本申请是国际申请日为2016年12月16日、国际申请号为PCT/JP2016/087643、进入中国申请号为201680072490.3、发明名称为“防反射光学体的形成方法、显示面板及光学膜”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及防反射光学体的形成方法、显示面板及光学膜。本申请主张2015年12月18日在日本进行专利申请的特愿2015-247855的优先权，并将该在先申请的全部公开内容援引于此以进行参照。

背景技术

在笔记本PC(个人计算机)、平板型PC、智能手机、移动电话等大多数电子设备中，在与设置有显示图像的显示器的面侧(显示器面侧)为相反侧的面设置有拍摄元件(第一拍摄元件)。根据这样的电子设备，利用者在进行风景等的摄影时，能够一边在显示器上确认由第一拍摄元件拍摄的摄影图像一边进行摄影。

此外，近年来，在显示器面侧也设置有拍摄元件(第二拍摄元件)的电子设备变得普遍。根据这样的电子设备，利用者在例如拍摄利用者本人的情况下，能够一边在显示器上确认由第二拍摄元件拍摄的摄影图像一边进行摄影，便利性得到提高。

在如上所述的将拍摄元件设置在显示器面侧的电子设备中，在显示面板的一部分设置透过区，并在该透过区的正下方设置拍摄元件(第二拍摄元件)。在此情况下，有时产生因在拍摄元件的镜片上反射的光在显示面板上进行反射而再次入射到拍摄元件的镜片而引起的重影(ghost)。因此，为了抑制重影的产生、提高透过率等，在与拍摄元件(第二拍摄元件)对应的显示面板上的区域实施形成微细结构体(防反射光学体)而防止光的反射的防反射处理。

作为防反射处理的方法有将被粘体(液晶面板等)投入到真空室内，通过浸涂等湿式涂布来将电介质膜作为防反射膜(AR(Antireflection)膜)形成在被粘体上的方法(第一方法)。

此外，作为另一方法有使用辊对辊法将具有微细结构的膜与粘着体贴合，并通过粘着体将该膜与被粘体贴合的方法(第二方法)。

此外，作为另一方法，在专利文献1和专利文献2公开了制作在具有凹凸的脱模性的膜上形成透明树脂层作为转印层的防反射转印膜，并将防反射转印膜上的转印层转印到基板上的方法(第三方法)。应予说明，在专利文献1中，在脱模性的膜上涂布流动状态的树脂，并在使该树脂固化之后将脱模性的膜剥离，从而在由固化了的树脂构成的基板上形成微细结构体。此外，在专利文献2中，在使用辊转印法、注射成型同时转印法等将防反射转印膜的透明树脂层与基板粘接之后，将脱模性的膜剥离，从而在基板上形成微细结构体。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-90902号公报

专利文献2：日本特开2003-98304号公报

发明内容

技术问题

在考虑了电子设备用途的情况下，对于防反射处理要求实现薄型化(10μm以下水平)，此外，要求不是针对被粘体(显示面板)的整个面，而是能够进行部分处理。

在第一方法中，为了仅对被粘体的一部分进行防反射处理，也需要将大面积的被粘体投入到真空室内。因此，将第一方法用于针对被粘体的一部分的防反射处理是不现实的。

此外，在第二方法中，由于使用辊对辊方式将具有微细结构的膜与粘着体贴合，所以在考虑了处理的容易性、强度等的情况下，需要将膜和粘着体的总厚度设为50μm以上。因此，在第二方法中，难以实现薄型化。

此外，关于第三方法，专利文献1和专利文献2对于仅在被粘体上的一部分形成具有微细结构的防反射光学体的具体方法都没有做任何考虑。

鉴于上述的问题点而完成的本发明的目的在于提供一种能够实现薄型化并且仅在被粘体的一部分形成防反射光学体的防反射光学体的形成方法、显示面板及光学膜。

技术方案

为了解决上述课题，本发明的防反射光学体的形成方法，包括：涂布工序，在被粘体的一面涂布光固化性树脂；按压工序，利用透光的光引导装置将在一面侧具备微细结构体的基材膜从与所述一面相对的另一面侧向所述光固化性树脂按压；固化工序，在利用所述光引导装置按压所述基材膜的状态下，使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂固化；以及剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由固化了的所述光固化性树脂而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述光固化性树脂固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由固化了的所述光固化性树脂而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。

此外，为了解决上述课题，本发明的防反射光学体的形成方法，包括：按压工序，利用透光的光引导装置将在一面侧具备微细结构体，并在该微细结构体之上形成有半固化的光固化性树脂层的基材膜从与所述一面相对的另一面侧向被粘体按压；固化工序，在利用所述光引导装置按压所述基材膜的状态下，使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂层固化；以及剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由固化了的所述光固化性树脂层而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述光固化性树脂层固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由固化了的所述光固化性树脂层而固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。

此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望所述微细结构体在所述基材膜侧的一面和与所述一面相对的另一面形成有微细结构。

此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望在所述基材膜上形成有具有凹凸图案的微细凹凸层，在所述微细凹凸层上形成有无机膜，在所述无机膜上形成有所述微细结构体。

此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望所述微细结构体的厚度为10μm以下，所述微细结构体具有可见光波长以下的间距的凹凸图案。

此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望将所述基材膜向所述被粘体按压的压力为0.5MPa以上。

此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望所述防反射光学体具备紫外线透过性。

此外，为了解决上述课题，本发明的显示面板通过上述任一防反射光学体的形成方法而仅在其一部分形成有所述微细结构体。

此外，为了解决上述课题，本发明的光学膜是用于通过被透光的光引导装置按压于涂布有光固化性树脂的被粘体的一面，并在被所述光引导装置按压的状态下使光在所述光引导装置传导而使所述光固化性树脂固化，从而在所述被粘体上形成微细结构体的光学膜，所述光学膜具备：微细凹凸层，形成在基材膜上，并具有凹凸图案；以及微细结构体，形成在所述微细凹凸层上。

此外，为了解决上述课题，本发明的光学膜是用于通过被透光的光引导装置按压于被粘体的一面，并在被所述光引导装置按压的状态下使光在所述光引导装置传导而在所述被粘体的一面形成微细结构体的光学膜，所述光学膜具备：微细凹凸层，形成在基材膜上，并具有凹凸图案；微细结构体，形成在所述微细凹凸层上；以及光固化性树脂层，形成在所述微细结构体上，并由半固化的光固化性树脂构成。

此外，在本发明的光学膜中，期望还具备：无机膜，形成在所述微细凹凸层与所述微细结构体之间。

此外，在本发明的光学膜中，期望所述微细结构体在所述基材膜侧的一面和与所述一面相对的另一面形成有微细结构。

技术效果

根据本发明的防反射光学体的形成方法、显示面板及光学膜，能够实现薄型化并且仅在被粘体的一部分形成防反射光学体。

附图说明

图1A是示出本发明的第一实施方式的防反射光学体的形成方法中的涂布工序的图。

图1B是示出本发明的第一实施方式的防反射光学体的形成方法中的按压工序的图。

图1C是示出本发明的第一实施方式的防反射光学体的形成方法中的固化工序的图。

图1D是示出本发明的第一实施方式的防反射光学体的形成方法中的剥离分离工序的图。

图2是示出图1所示的光学膜的构成例的图。

图3A是示出图2所示的光学膜的制造方法的图。

图3B是示出图2所示的光学膜的制造方法的图。

图3C是示出图2所示的光学膜的制造方法的图。

图4是示出图1所示的光学膜的其他构成例的图。

图5A是示出图4所示的光学膜的制造方法的图。

图5B是示出图4所示的光学膜的制造方法的图。

图5C是示出图4所示的光学膜的制造方法的图。

图6是示出由本发明的第一实施方式的形成方法得到的防反射光学体在被粘体上的形成状态的一例的图。

图7是示出由本发明的第一实施方式的形成方法得到的防反射光学体在被粘体上的形成状态的另一例的图。

图8A是示出本发明的第二实施方法的防反射光学体的形成方法的图。

图8B是示出本发明的第二实施方法的防反射光学体的形成方法中的按压工序的图。

图8C是示出本发明的第二实施方法的防反射光学体的形成方法中的固化工序的图。

图8D是示出本发明的第二实施方法的防反射光学体的形成方法中的剥离分离工序的图。

图9是示出图8所示的光学膜的构成例的图。

图10A是示出图9所示的光学膜的制造方法的图。

图10B是示出图9所示的光学膜的制造方法的图。

图10C是示出图9所示的光学膜的制造方法的图。

图10D是示出图9所示的光学膜的制造方法的图。

图11是示出由本发明的第二实施方式的形成方法得到的防反射光学体在被粘体上的形成状态的一例的图。

图12A是表示实施例1的防反射光学体的表面特性的测定结果的图表。

图12B是表示比较例1的防反射光学体的表面特性的测定结果的图表。

图13A是实施例1的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图13B是实施例2的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图13C是实施例3的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图13D是实施例4的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图13E是比较例1的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图13F是比较例2的防反射光学体的从上面拍摄得到的图。

图14是示出从实施例1到实施例4的防反射光学体的反射光谱的图。

符号说明：

10：部件，11：被粘体，12：UV固化性树脂，13：光引导装置，14、14a：光学膜，15：基材膜，16：微细结构体，16a：防反射光学体，16p：UV固化性树脂层，17：粘接层，17p：UV固化性树脂层，18：夹具，21：微细凹凸层，21p：UV固化性树脂层，22：无机膜，23、25、26、28：辊，24：溅射靶，27：剥离膜

具体实施方式

以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。应予说明，本发明不仅限于以下的实施方式，当然在不脱离本发明的主旨的范围内能够进行各种变更。以下，在各图中对相同的构成标记相同的符号，并省略说明。

(第一实施方式)

图1A～图1D是示出本发明的第一实施方式的防反射光学体的形成方法的图。本实施方式的防反射光学体的形成方法包括：涂布工序、按压工序、固化工序和剥离分离工序。

在图1A所示的涂布工序中，将作为光固化性树脂的UV固化性树脂12涂布在被粘体11上。此外，通过能够使光(使UV固化性树脂12固化的光)透过的光引导装置13来保持光学膜14。光学膜14在基材膜15的一面侧形成有具有紫外线(UV光)透过性的微细结构体16(薄膜光学体层)，并以使形成有微细结构体16的一面侧朝向被粘体11的方式被保持。应予说明，在基材膜15上形成有微细结构体16的状态下利用分光光度计来测定波长范围350nm～450nm的平均反射率而得到的值为2％时，后述的UV固化性树脂12的固化不充分，在该值为7％时，能得到充分的UV固化性树脂12的固化和紧密贴合。因此，微细结构体16具有紫外线透过性是指波长范围350nm～450nm的平均反射率为7％以上。

参照图2对光学膜14的构成进行更详细地说明。

如图2所示，光学膜14具备：基材膜15、微细凹凸层21、无机膜22、和微细结构体16(薄膜光学体层)。应予说明，在图1A～图1D中，为了图的简化，省略微细凹凸层21和无机膜22的记载。

基材膜15是为了保护微细结构体16等和提高操作性而设置的。基材膜15的种类没有特别地限制，但优选为透明且难以断裂的膜。作为基材膜15，例如可以使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜、TAC(三醋酸纤维素)膜等。基材膜15的厚度只要根据对光学膜14要求的操作性进行适当调整即可，例如为50μm～125μm。

微细凹凸层21形成在基材膜15的一面上。在微细凹凸层21的表面形成有凹凸图案(在光学膜14的膜厚方向上为凸的凸部和在光学膜14的膜厚方向上为凹的凹部)。凸部和凹部可以周期性(例如，千鸟格状、矩形格状)地配置，此外可以随机地配置。此外，凸部和凹部的形状没有特别地限制，可以是炮弹型、锥体状、柱状、针状等。应予说明，凹部的形状是指通过凹部的内壁形成的形状。

微细凹凸层21的表面的凹凸图案的平均周期(间距)是可见光波长以下(例如，830nm以下)，优选为100nm以上且350nm以下，进一步优选为150nm以上且280nm以下。因此，微细凹凸层21的表面成为所谓的蛾眼结构。通过将微细凹凸层21的表面的凹凸图案的间距设为可见光波长以下，能够实现防反射特性的提高。

微细凹凸层21的凹凸图案的平均周期为相邻的凸部间和凹部间的距离的算术平均值。应予说明，微细凹凸层21的凹凸图案例如是能够通过扫描型电子显微镜(SEM)、或者截面透射型电子显微镜(截面TEM)等而观察的。此外，作为平均周期的计算方法，例如有分别提取多个相邻的凸部的组合和相邻的凹部的组合，测定构成各组合的凸部间的距离和凹部间的距离，并将测定值进行平均的方法。

此外，微细凹凸层21的凸部的高度(凹部的深度)没有特别地限制，优选为150nm以上且300nm以下，更优选为190nm以上且300nm以下，进一步优选为190nm以上且230nm以下。

无机膜22由氧化钨、氧化硅、硅、ITO等无机物构成。无机膜22以约20nm的膜厚形成在微细凹凸层21的表面上。无机膜22作为用于便于将微细结构体16从光学膜14剥离的脱模层而设置。

作为薄膜光学体层的微细结构体16形成在无机膜22上。在微细结构体16的无机膜22侧的面形成有使微细凹凸层21的凹凸图案反转而成的凹凸图案。微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面是平坦的。应予说明，微细结构体16的厚度期望为10μm以下。在微细结构体16的厚度超过10μm时，详细情况在后面进行描述，但此时难以将固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的除固着位置以外的微细结构体16分离。

参照图3A～图3C对图2所示的光学膜14的制造方法进行说明。

准备基材膜15，如图3A所示，在基材膜15的一面上形成由未固化的UV固化性树脂(例如，UV固化性丙烯酸树脂)构成的UV固化性树脂层21p。

应予说明，用于UV固化性树脂层21p的形成的树脂不限于UV固化性丙烯酸树脂。

UV固化性树脂层21p期望由固化物具有透明性的固化性树脂形成。固化性树脂例如包含聚合性化合物和固化引发剂。聚合性化合物是由固化引发剂来进行固化的树脂。作为聚合性化合物，例如列举环氧聚合性化合物和丙烯酸聚合性化合物等。

环氧聚合性化合物是在分子内具有一个或两个以上的环氧基的单体、低聚物或预聚物。作为环氧聚合性化合物，列举各种双酚型环氧树脂(双酚A型、F型等)、酚醛清漆型环氧树脂、橡胶和聚氨酯等各种改性环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、二苯乙烯型环氧树脂、三苯酚甲烷型环氧树脂、双环戊二烯型环氧树脂、三苯基甲烷型环氧树脂及他们的预聚物等。

丙烯酸聚合性化合物是在分子内具有一个或两个以上的丙烯酸基的单体、低聚物或预聚物。这里，单体还被分类为在分子内具有一个丙烯酸基的单官能单体、在分子内具有两个丙烯酸基的双官能单体、在分子内具有三个以上丙烯酸基的多官能单体。

作为“单官能单体”，例如列举羧酸类(丙烯酸)、羟基类(丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯)、烷基或脂环类的单体(丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十八酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯)、其他功能性单体(丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢呋喃酯、丙烯酸苄酯、乙基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、N,N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰吗啉、N-异丙基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基-丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基-丙烯酸酯、2-(全氟-3-甲基丁基)乙基丙烯酸酯)、2,4,6-三溴苯酚丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯酚甲基丙烯酸酯、丙烯酸2-(2,4,6-三溴苯氧基)乙酯、丙烯酸2-乙基己酯等。

作为“双官能单体”，例如列举三(丙二醇)二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷-二烯丙基醚、聚氨酯丙烯酸酯等。

作为“多官能单体”，例如列举三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯等。

作为上述列举的丙烯酸聚合性化合物之外的例子，列举丙烯酸吗啉、甘油丙烯酸酯、聚醚系丙烯酸酯、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基己内酯、乙氧基二甘醇丙烯酸酯、甲氧基三甘醇丙烯酸酯、聚乙二醇丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、EO改性双酚A二丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯低聚物、聚酯低聚物等。从透明性、与微细结构体16的剥离性的观点来看，聚合性化合物优选为丙烯酸聚合性化合物。

固化引发剂为使固化性树脂固化的材料。作为固化引发剂的例子，例如列举热固化引发剂、光固化引发剂等。固化引发剂也可以是通过热、光以外的任何能量线(例如电子束)等进行固化的材料。在固化引发剂为热固化引发剂的情况下，固化性树脂成为热固化性树脂，在固化引发剂为光固化引发剂的情况下，固化性树脂成为光固化性树脂。

这里，从透明性、与微细结构体16的剥离性的观点来看，固化引发剂优选为紫外线固化引发剂。因此，固化性树脂优选为紫外线固化性丙烯酸树脂。紫外线固化引发剂为光固化引发剂的一种。作为紫外线固化引发剂，例如列举2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等。

在UV固化性树脂层21p中，可以添加与光学膜14的用途对应的添加剂。作为这样的添加剂，例如列举无机填料、有机填料、调平剂、表面调整剂、消泡剂等。应予说明，作为无机填料的种类，例如列举SiO₂、TiO₂、ZrO₂、SnO₂、Al₂O₃等金属氧化物微粒。进一步地，为了能够容易地将微细结构体16从光学膜14剥离，在微细凹凸层21中可以添加脱模剂等。

如图3A所示，一边形成UV固化性树脂层21p，一边使辊23与UV固化性树脂层21p紧密贴合。

辊23例如具有圆筒形或者圆柱状。在辊23的表面，形成有与在微细凹凸层21形成的凹凸图案对应的凹凸图案。辊23可以是平板状。应予说明，上述那样的构成的辊23的制作方法是本领域技术人员熟知的，此外，由于与本发明没有直接关系，所以省略说明。

通过使辊23与由未固化的UV固化性树脂构成的UV固化性树脂层21p紧密贴合，从而将形成在辊23的表面的凹凸图案转印到UV固化性树脂层21p的表面。虽然如上所述，辊23可以是平板状，但通过设为圆筒形或者圆柱状，从而能够利用辊对辊方式将辊23的凹凸图案转印到UV固化性树脂层21p，由此能够实现转印的高效化。

如图3A所示，在进行辊23的凹凸图案向UV固化性树脂层21p的转印的同时，从基材膜15的另一面侧照射UV光，使UV固化性树脂层21p固化。通过这样做，能够在基材膜15上形成微细凹凸层21。应予说明，在辊23的表面也可以使用氟材料等进行脱模处理以便将微细凹凸层21从辊23剥离。

在形成微细凹凸层21之后，如图3B所示，例如通过使用了由氧化钨构成的溅射靶24的溅射法，在微细凹凸层21的表面以5nm～50nm、更优选为15nm～35nm的膜厚形成作为脱模层的无机膜22。在无机膜22的厚度比上述的范围小的情况下，以及无机膜22的厚度比上述的范围大的情况下，微细结构体16从无机膜22剥离的效果变低。应予说明，作为构成无机膜22的材料，可以使用氧化硅、硅、ITO等。

在形成无机膜22之后，如图3C所示，在无机膜22上以约2μm的厚度形成由未固化的UV固化性树脂(例如，UV固化丙烯酸树脂)构成的UV固化性树脂层16p。由于UV固化性树脂层16p由未固化的UV固化性树脂构成，所以在UV固化性树脂层16p的无机膜22侧的面，UV固化性树脂还渗透到无机膜22的凹凸图案的凹部，形成凹凸结构。即，在UV固化性树脂层16p的无机膜22侧的面形成使微细凹凸层21的表面的凹凸图案反转而成的凹凸图案。

接下来，如图3C所示，使辊25与UV固化性树脂层16p紧密贴合。辊25的表面平坦。因此，UV固化性树脂层16p的与无机膜22为相反侧的面成为平坦面。在进行辊25向UV固化性树脂层16p的紧密贴合的同时，向UV固化性树脂层16p照射UV光，由此能够使UV固化性树脂层16p固化，形成微细结构体16(薄膜光学体层)。

应予说明，在图2和图3A～图3C中，使用光学膜14的微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面为平坦面的例子进行了说明，但如图4所示，光学膜14可以在微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面也形成凹凸图案。即，可以在微细结构体16的双面形成凹凸图案。

对于图4所示的光学膜14的制造方法，参照图5A～图5C进行说明。在图5A～图5C中，对于与图3A～图3C同样的构成标记相同的符号，并省略说明。

图5A和图5B所示的工序与图3A和图3B所示的工序相同。即，在图5A所示的工序中，在基材膜15的一面上形成UV固化性树脂层21p，并使辊23与UV固化性树脂层21p紧密贴合，从而在UV固化性树脂层21p的表面形成凹凸图案。然后，通过将UV光照射到UV固化性树脂层21p，而使UV固化性树脂层21p固化，形成微细凹凸层21。此外，在图5B所示的工序中，在微细凹凸层21上形成无机膜22。

在图5C所示的工序中，与图3C所示的工序同样，在无机膜22上形成UV固化性树脂层16p。接下来，如图5C所示，使辊26与UV固化性树脂层16p紧密贴合。这里，在辊26的表面形成有凹凸图案。因此，在UV固化性树脂层16p的与无机膜22为相反侧的面也形成凹凸图案。作为辊26，可以使用与辊23相同的辊。在进行辊26向UV固化性树脂层16p的紧密贴合的同时，向UV固化性树脂层16p照射UV光，由此能够使UV固化性树脂层16p固化，形成在双面形成有凹凸图案的微细结构体16(薄膜光学体层)。

再次参照图1，图1A所示的涂布工序之后，在图1B所示的按压工序中，利用夹具18将光引导装置13固定，并介由夹具18利用光引导装置13将图2或图4所示的光学膜14从与形成有微细结构体16的一面为相反侧的面向涂布在被粘体11的UV固化性树脂12按压。通过被光学膜14按压，UV固化性树脂12在被粘体11与光学膜14之间被压开。应予说明，夹具18以不遮挡在光引导装置13传导的光的方式将光引导装置13固定。

在图1C所示的固化工序中，在介由夹具18利用光引导装置13按压光学膜14的状态下，使UV光在光引导装置13传导而使UV固化性树脂12固化。

在图1D所示的剥离分离工序中，解除光学膜14的按压而将光学膜14从被粘体11释放，由此使微细结构体16从光学膜14剥离(以与无机膜22之间的界面为界进行剥离)。根据固化工序，在形成在光学膜14的微细结构体16(薄膜光学体层)中的存在有UV固化性树脂12且被照射有在光引导装置13传导的光的区域中，微细结构体16与被粘体11通过固化了的UV固化性树脂12而固着。然后，通过将光学膜14释放，从而一边将通过固化了的UV固化性树脂12而固着的微细结构体16与基材膜15上的除由UV固化性树脂12固着的位置以外的微细结构体16分离(分割)，一边以与无机膜22之间的界面为界将通过固化了的UV固化性树脂12而固着的微细结构体16从光学膜14(基材膜15)剥离，并作为防反射光学体16a形成在被粘体11。

图6、图7是示出由本实施方式的形成方法得到的防反射光学体16a在被粘体11上的形成状态的一例的图。在图6中示出了使用图2所示的光学膜14(微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面平坦的光学膜14)的例子。此外，在图7中示出了使用图4所示的光学膜14(在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14)的例子。

如图6、图7所示，根据本实施方式，能够形成仅在被粘体11的一部分介由固化了的UV固化性树脂12而形成有防反射光学体16a的部件10。部件10例如用于显示面板等。在将部件10用于移动电话、智能手机等电子设备的显示面板的情况下，防反射光学体16a例如形成在显示面板的整个面中的设置在电子设备的显示器面侧的拍摄元件的镜片的周围区域(例如，数mm×数mm左右的区域)。

应予说明，如图7所示，在使用在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14的情况下，UV固化性树脂12也进入到微细结构体16的被粘体11侧的面的凹部而进行固化。因此，能够提高微细结构体16与被粘体11之间的粘接力。

这样，在本实施方式中，由于介由光引导装置13将UV光照射到UV固化性树脂12，所以仅针对存在UV固化性树脂12且照射有在光引导装置13传导的光的区域，使UV固化性树脂12固化，并使形成在光学膜14的微细结构体16与被粘体11固着。并且，通过将与被粘体11固着的微细结构体16从光学膜14剥离而使防反射光学体16a形成在被粘体11。因此，通过调整涂布UV固化性树脂12的区域和光引导装置13的形状，从而能够容易地仅在被粘体11上的一部分区域形成防反射光学体16a。

(第二实施方式)

接下来，对本发明的第二实施方式的防反射光学体16a的形成方法进行说明。

图8A～图8D是示出本实施方式的防反射光学体16a的形成方法的图。本实施方式的防反射光学体的形成方法包括：按压工序、固化工序和剥离分离工序。

在第一实施方式中，在被粘体11涂布UV固化性树脂12，之后将光学膜14压着在被粘体11，并使UV固化性树脂12固化，由此仅在被粘体11的一部分区域形成防反射光学体16a。另一方面，在本实施方式中，如图9所示，使用在微细结构体16上形成有由半固化的光固化性树脂(UV固化性树脂)构成的粘接层17(光固化性树脂层)的光学膜14a。应予说明，在光学膜14a中，微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面为平坦面。

参照图10A～图10D对图9所示的光学膜14a的制造方法进行说明。

从图10A到图10C所示的工序与从图3A到图3C所示的工序相同。即，在图10A所示的工序中，在基材膜15的一面上形成UV固化性树脂层21p，并使辊23与UV固化性树脂层21p紧密贴合，从而在UV固化性树脂层21p的表面形成凹凸图案。然后，通过将UV光照射到UV固化性树脂层21p，而使UV固化性树脂层21p固化，形成微细凹凸层21。此外，在图10B所示的工序中，在微细凹凸层21上形成无机膜22。此外，在图10C所示的工序中，在无机膜22上形成未固化的UV固化性树脂层16p，并使辊25与UV固化性树脂层16p紧密贴合。然后，在进行辊25向UV固化性树脂层16p的紧密贴合的同时，向UV固化性树脂层16p照射UV光，由此使UV固化性树脂层16p固化，形成微细结构体16。应予说明，如图4所示，也可以在微细结构体16(薄膜光学体层)的双面形成凹凸图案(微细结构)。

在图10D所示的工序中，在微细结构体16上灌注UV固化性树脂，并隔着剥离膜27利用辊28从其上进行加压，由此形成UV固化性树脂层17p。然后，向UV固化性树脂层17p照射UV光，使UV固化性树脂层17p半固化，由此形成粘接层17。

应予说明，在UV光向UV固化性树脂层17p的照射量为2kJ/m²的情况下，UV固化性树脂层17p没有固化，为液体状。此外，在UV光向UV固化性树脂层17p的照射量为4kJ/m²的情况下，UV固化性树脂层17p完全固化。另一方面，在UV光向UV固化性树脂层17p的照射量为3kJ/m²的情况下，UV固化性树脂层17p半固化，能够实现后述的被粘体11与微细结构体16的固着。

再次参照图8，如图8A所示，利用光引导装置13保持光学膜14a。这里，光学膜14a以使形成有微细结构体16和粘接层17的一面朝向被粘体11的方式被保持。应予说明，在图8A～图8D中，为了图的简化，而省略对微细凹凸层21和/或无机膜22的记载。

在图8B所示的按压工序中，利用夹具18将光引导装置13固定，并介由夹具18利用光引导装置13将光学膜14a从与形成有微细结构体16和粘接层17的一面为相反侧的面向被粘体11按压。

在图8C所示的固化工序中，在介由夹具18利用光引导装置13按压光学膜14a的状态下，使UV光在光引导装置13传导而使粘接层17固化。

在图8D所示的剥离分离工序中，解除光学膜14a的按压而将光学膜14a从被粘体11释放，由此使微细结构体16从光学膜14a剥离。根据固化工序，在被照射有在光引导装置13传导的光的区域中，形成在光学膜14a的微细结构体16与被粘体11通过固化了的粘接层17而固着。然后，通过将光学膜14a释放，从而一边将通过固化了的粘接层17而固着的微细结构体16与基材膜15上的除由粘接层17固着的位置以外的微细结构体16分离(分割)，一边以与无机膜22之间的界面为界将通过固化了的粘接层17而固着的微细结构体16从光学膜14a(基材膜15)剥离，并作为防反射光学体16a形成在被粘体11。

图11是示出由本实施方式的形成方法得到的防反射光学体16a在被粘体11上的形成状态的一例的图。

如图11所示，根据本实施方式，能够形成仅在被粘体11的一部分介由固化了的粘接层17而形成有防反射光学体16a的部件10。

这样，在本实施方式中，由于介由光引导装置13将UV光照射到粘接层17，所以仅针对照射有在光引导装置13传导的光的区域，使粘接层17固化，由此使形成在光学膜14a的微细结构体16与被粘体11固着。并且，通过将与被粘体11固着的微细结构体16从光学膜14a剥离而使防反射光学体16a形成在被粘体11。因此，通过调整光引导装置13的压着面的形状，从而能够容易地仅在被粘体11上的一部分区域形成防反射光学体16a。

接下来，列举实施例和比较例来更具体说明本发明，但本发明并不限于下述实施例。

在以下的实施例中，作为被粘体11使用松波硝子工业(株)制造、产品名称“S9112”的白板玻璃。此外，作为光引导装置13使用尺寸为10mm×10mm×20mm(与光学膜14、14a的接触面的尺寸为10mm×10mm)的石英材料。光引导装置13的与光学膜14、14a的接触面为平坦面。

(实施例1)

在本实施例中，使用了图2所示的光学膜14。首先，对光学膜14的制造条件进行说明。

作为基材膜15使用厚度125μm的帝人公司制造的PET膜。在基材膜15上形成由UV固化性树脂构成的UV固化性树脂层21p，并在使辊23紧密贴合的同时，照射UV光而使UV固化性树脂层21p固化，形成微细凹凸层21。在本实施例中，在微细凹凸层21形成凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm的凹凸图案。然后，通过使用了由氧化钨构成的溅射靶的溅射法，在微细凹凸层21的表面以20nm的膜厚形成作为脱模层的无机膜22。应予说明，如上所述，无机膜22的膜厚期望设为5nm～50nm，更优选地为15nm～35nm。在无机膜22的厚度比上述范围小的情况下和无机膜22的厚度比上述范围大的情况下，微细结构体16从无机膜22剥离的效果变差。因此，在本实施例中，将无机膜22的厚度设为20nm。

在无机膜22之上，以约2μm的厚度形成由未固化的UV固化性丙烯酸树脂构成的UV固化性树脂层16p。然后，使辊25与UV固化性树脂层16p紧密贴合，并以10kJ/m²的照射量向UV固化性树脂层16p照射UV光，使UV固化性树脂层16p固化，形成微细结构体16。在微细结构体16的无机膜22侧的面，与形成在微细凹凸层21的凹凸图案对应地，形成凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm的凹凸图案。应予说明，如上所述，微细结构体16的厚度期望为10μm以下。在微细结构体16的厚度超过10μm时，详细情况在后面进行描述，但此时难以将固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的除固着位置以外的微细结构体16分离。因此，在本实施例中，将微细结构体16的厚度设为约2μm。

然后，如图1A所示，使用微量移液器将UV固化性树脂12(三键(threebond)公司制造，产品名称“TB3042”)滴0.3μL于被粘体11的一面上。

接下来，如图1B所示，介由夹具18利用光引导装置13以约0.5MPa的压力将光学膜14从与形成有微细结构体16的一面为相反侧的面向涂布在被粘体11的UV固化性树脂12按压。

接下来，如图1C所示，在介由夹具18利用光引导装置13按压光学膜14的状态下，使UV光在光引导装置13传导而使UV固化性树脂12固化。在本实施例中，通过卤素灯介由光引导装置13以15kJ/m²的照射量照射UV光。

接下来，如图1D所示，解除光学膜14的按压而将光学膜14从被粘体11释放，由此使通过UV固化性树脂12固着于被粘体11的微细结构体16从光学膜14剥离。

这里，通过使基于UV固化性树脂12的被粘体11与微细结构体16之间的粘接力比微细结构体16与微细凹凸层21之间的粘接力强，能够将微细结构体16从光学膜14剥离，并作为防反射光学体16a固着于被粘体11。进一步地，由于微细结构体16的厚度被薄膜化为2μm左右，所以能够容易地与固着位置以外的微细结构体16分离。应予说明，由于在微细结构体16与微细凹凸层21之间形成有作为脱模层的无机膜22，所以能够便于将微细结构体16从光学膜14剥离。

(实施例2)

在本实施例中，使用图4所示的在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14。在本实施例中使用的光学膜14的制造方法与实施例1大致相同。其中，在本实施例中，在无机膜22上形成UV固化性树脂层16p之后，不是使表面平坦的辊25紧密贴合，而是使表面形成有凹凸图案的辊26紧密贴合，并使UV固化性树脂层16p固化。在微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面形成的凹凸图案与在无机膜22侧的面形成的凹凸图案同样，凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm。此外，在本实施例中，微细结构体16的厚度也设为约2μm。这是因为如上所述在微细结构体16的厚度超过10μm时，难以将固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的除固着位置以外的微细结构体16分离。

在本实施例中，使用这样制作的光学膜14(在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜)，根据图1A～图1D所示的形成方法，在与实施例1同样的条件下，在被粘体11形成防反射光学体16a。

(实施例3)

在本实施例中，使用根据与实施例2同样的条件制作的光学膜14(在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14)。并且，根据图1A～图1D所示的形成方法，使用该光学膜14在被粘体11形成防反射光学体16a。其中，在本实施例中，在图1B、图1C所示的工序中，将利用光引导装置13将光学膜14向被粘体11按压的按压压力设为比实施例2大。即，在实施例2中，利用光引导装置13将光学膜14向被粘体11按压的按压压力为0.5MPa，但在本实施例中，将利用光引导装置13将光学膜14向被粘体11按压的按压压力变更为3.0MPa。其他条件与实施例2相同。

(实施例4)

在本实施例中，使用图9所示的在微细结构体16上形成有粘接层17的光学膜14a。首先，对光学膜14a的制造条件进行说明。

由于直到形成微细结构体16为止与实施例1相同，所以省略说明。在微细结构体16形成后，在微细结构体16上灌注UV固化性树脂，并隔着剥离膜27利用辊28从其上进行加压，由此形成UV固化性树脂层17p。然后，以3kJ/m²的照射量向UV固化性树脂层17p照射UV光，使UV固化性树脂半固化，由此以约3μm的膜厚形成粘接层17。

使用这样制作的光学膜14a(在微细结构体16上形成有粘接层17的光学膜)，根据图8A～图8D所示的形成方法，在被粘体11形成防反射光学体16a。

即，如图8A所示，介由夹具18利用光引导装置13将光学膜14a从与形成有微细结构体16和粘接层17的一面为相反侧的面进行保持。然后，如图8B所示，以约0.5MPa的压力向被粘体11按压。

接下来，如图8C所示，在介由夹具18利用光引导装置13按压光学膜14a的状态下，使UV光在光引导装置13传导而使粘接层17固化。在本实施例中，通过卤素灯介由光引导装置13以15kJ/m²的照射量照射UV光。

接下来，如图8D所示，解除光学膜14a的按压而将光学膜14a从被粘体11释放，由此使微细结构体16从光学膜14a剥离。

这里，通过使基于粘接层17的被粘体11与微细结构体16之间的粘接力比微细结构体16与微细凹凸层21之间的粘接力强，能够将微细结构体16从光学膜14a剥离，并作为防反射光学体16a固着于被粘体11。应予说明，由于在微细结构体16与微细凹凸层21之间形成有作为脱模层的无机膜22，所以能够便于将微细结构体16从光学膜14a剥离。

(比较例1)

接下来，对比较例1的防反射光学体向被粘体的形成方法进行说明。

作为基材膜使用厚度50μm的环状烯烃系膜(COC膜)。在COC膜的一面上涂布UV固化性树脂，并使用在表面形成有凹凸图案的辊，通过辊对辊方式在UV固化性树脂形成凹凸图案。然后，通过使UV固化性树脂固化，从而制作出在一面具备微细结构体的光学膜。该微细结构体的凹凸图案与实施例1～实施例4同样，凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm。然后，使用粘着材(作为厚度25μm的丙烯酸系粘着材的粘着胶带(PANAC公司制造，产品名称“PDS1”))，利用辊将与形成有微细结构体的光学膜的一面为相反侧的面与被粘体贴合，在被粘体形成防反射光学体。

(比较例2)

接下来，对比较例2的防反射光学体在被粘体上的形成方法进行说明。

首先，作为基材膜使用厚度125μm的帝人公司制造的PET膜。在PET膜的一面上涂布UV固化性树脂，并使用在表面形成有凹凸图案的辊，通过辊对辊方式在UV固化性树脂形成凹凸图案。然后，使UV固化性树脂固化，并通过溅射法以厚度20nm的氧化钨膜涂覆在固化了的UV固化性树脂上。之后，利用脱模材料(3M公司制造、商品名“Novec1720”)来涂覆氟树脂，由此，制作出在一面形成有微细结构体的光学膜。

然后，在被粘体上涂布UV固化性树脂后，利用辊将与形成有微细结构体的光学膜的一面为相反侧的面与被粘体压着。之后，释放由辊施加的压力，照射UV光而使UV固化性树脂固化，由此，在被粘体形成防反射光学体。

对通过上述的实施例1～实施例4和比较例1、比较例2而形成在被粘体11的防反射光学体的评价结果进行说明。

首先，将针对分别通过实施例1～实施例4和比较例1、比较例2而形成在被粘体11的防反射光学体的膜厚的评价结果示于表1。

应予说明，膜厚的测定是使用膜厚计(三丰公司制造，LITEMATIC VL-50S)，沿着防反射光学体的形成面，分别针对X方向和与X方向垂直的Y方向，测定防反射光学体的端部两个位置和中央部的一个位置，即合计九个位置的膜厚。然后，根据九个位置的膜厚的测定结果，求出平均膜厚(形成体平均膜厚)、厚度的标准偏差值(形成体厚度的标准偏差值)和最大膜厚与最小膜厚之差(形成体厚度Max-Min)。

[表1]

如表1所示，在比较例1中，形成体厚度的标准偏差值与实施例1～实施例3为大致相同程度，但膜厚与实施例1～实施例4相比变大。如上所述，在考虑了电子设备用途的情况下，防反射光学体的厚度要求为10μm以下的水平。因此，在比较例1中，膜厚变得过大，不适于上述那样的用途。

此外，在比较例2中，虽然膜厚能够减小到与实施例1～实施例4大致相同程度的水平，但厚度的偏差大，面的歪斜成为问题。

另一方面，在实施例1～实施例4中，膜厚为10μm以下，实现了薄型化。此外，在实施例1～实施例3中，厚度偏差也小，实现了低歪斜化。应予说明，如果将实施例2与实施例3进行比较，则形成的防反射光学体的厚度存在较大差异。实施例2与实施例3之间，光学膜14的向被粘体11的按压压力不同。因此，可知能够通过调整光学膜14的向被粘体11的按压压力来调整形成的防反射光学体的厚度。

将形成的防反射光学体的表面特性的测定结果示于图12A、图12B。作为代表性的例子，将在实施例1中形成的防反射光学体的表面特性的测定结果示于图12A，将在比较例1中形成的防反射光学体的表面特性的测定结果示于图12B。应予说明，图12A、图12B分别示出了使用三维表面粗糙度测量计((株)菱化系统制造的“VertScan”)而得到的测量结果。在图12A、图12B中，横轴表示沿着形成的防反射光学体上的一个方向的距离，纵轴表示以某个位置上的厚度为基准的各位置上的膜厚之差。

如图12A、图12B所示，可知在实施例1中形成的防反射光学体与在比较例1中形成的防反射光学体相比，膜厚的偏差小，实现了低歪斜性。

图13A～图13F是分别示出从上面拍摄实施例1～实施例4和比较例1、比较例2中形成在被粘体11的防反射光学体而得到的像的图。在图13A～图13F中，以矩形(长方形)状的区域为目标区域而形成微细结构体。应予说明，在拍摄照片时，在被粘体的背面(与形成有微细结构体的一面为相反侧的面)粘贴黑色的胶带，使观察变得容易。

如图13A～图13D所示，可知在实施例1～实施例4中，与作为目标区域的矩形状的区域对齐地形成有微细结构体，并仅在被粘体的一部分区域高精度地形成有微细结构体。

如图13E所示，在比较例1中也与作为目标区域的矩形状的区域大致对齐地形成有微细结构体。但是，在比较例1中，由于是与目标区域对齐地配置粘着材和光学膜，并利用辊进行贴合，所以如果目标区域小，则难以进行粘贴。此外，如上所述，在比较例1中，微细结构体的膜厚变大，难以将比较例1的方法应用于电子设备用途的防反射光学体的形成。

此外，如图13F所示，在比较例2中，无法与作为目标区域的矩形状的区域对齐地形成微细结构体，因此，难以使用比较例2的方法而仅在所期望的区域高精度地形成防反射光学体。

接下来，对实施例1～实施例4中在被粘体11上的微细结构体的防反射特性的评价结果进行说明。

将由实施例1～实施例4中形成的防反射光学体得到的视感反射率(为XYZ颜色系统的Y值的反射率，依据JIS Z 8722测定的反射率)示于表2。应予说明，通常，在作为防反射部件使用的情况下，视感反射率期望为1％以下，优选为0.6％以下。此外，在图14示出在实施例1～实施例4中形成的防反射光学体的反射光谱。应予说明，在图14中，横轴表示入射光的波长，纵轴表示入射光的反射率。

[表2]

	视感反射率
		实施例1	0.27
实施例2	0.26
		实施例3	0.15
实施例4	0.42

如表2所示，在实施例1～实施例4中视感反射率都为0.6％以下。此外，如图14所示，在实施例1～实施例4中，针对各波长的反射率都为0.8％以下，示出了良好的反射特性。

应予说明，如图14所示，在实施例1的反射光谱中，产生了遍及全波长范围的波动。另一方面，在除了光学膜14(微细结构体16)的结构之外在相同条件下形成防反射光学体的实施例2中，未产生这样的波动。据此，可认为实施例1中的波动的产生起因于微细结构体16的构成。

在实施例1中，被粘体11与UV固化性树脂12之间的界面和UV固化性树脂12与微细结构体16之间的界面分别是大致平坦的。因此，可认为在实施例1的反射光谱中产生的波动是由于被粘体11与UV固化性树脂12之间的界面处的光折射率、和UV固化性树脂12与微细结构体16之间的界面处的光折射率的差异而引起的。即，可认为是由于在被粘体11与UV固化性树脂12之间的界面反射的光、与在UV固化性树脂12与微细结构体16之间的界面反射的光进行干涉，从而在反射光谱产生了波动。

另一方面，在实施例2中，虽然被粘体11与UV固化性树脂12之间的界面是平坦的，但UV固化性树脂12与微细结构体16之间的界面具有凹凸结构。因此，可认为不产生在两个界面反射的光的干涉，抑制了波动的产生。因此，通过如实施例2、实施例3那样在微细结构体16的双面设置凹凸图案，从而能够抑制反射光谱中的波动的产生，得到更良好的反射特性。

这样，本发明的第一实施方式的防反射光学体16a在被粘体11上的形成方法包括：在被粘体11的表面涂布UV固化性树脂12(光固化性树脂)的涂布工序、利用透光的光引导装置13将在一面侧形成有经薄膜化的微细结构体16的基材膜15从与一面相对的另一面侧向UV固化性树脂12按压的按压工序、在利用光引导装置13按压基材膜15的状态下，使UV光在光引导装置13传导而使UV固化性树脂12固化的固化工序、通过解除基材膜15的按压，并一边将由固化了的UV固化性树脂12固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的除由光固化性树脂12固着的位置以外的微细结构体16分离，一边使由固化了的UV固化性树脂12固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15剥离，从而将防反射光学体16a形成在被粘体11的剥离分离工序。

此外，本发明的第二实施方式的防反射光学体16a在被粘体11上的形成方法包括：利用透光的光引导装置13将在一面侧形成有经薄膜化的微细结构体16，并在微细结构体16之上形成有由半固化的光固化性树脂构成的粘接层17(光固化性树脂层)的基材膜15从与一面相对的另一面侧按压于被粘体11的按压工序、在利用光引导装置13按压基材膜15的状态下，使光在光引导装置13传导而使粘接层17固化的固化工序、通过解除基材膜15的按压，并一边将由固化了的粘接层17而固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的除由粘接层17固着的位置以外的微细结构体16分离，一边使由固化了的粘接层17而固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15剥离，从而将防反射光学体16a形成在被粘体11的剥离分离工序。

根据固化工序，在存在有UV固化性树脂12或粘接层17且被照射有在光引导装置13传导的光的区域中，形成在基材膜15的一面侧的微细结构体16与被粘体11通过固化了的UV固化性树脂12或粘接层17而固着。然后，通过解除基材膜15的按压，并将光学膜14、14a释放，从而仅在存在有UV固化性树脂12或粘接层17且被照射有在光引导装置13传导的光的区域中，将与被粘体11固着的微细结构体16从光学膜14、14a剥离，并作为防反射光学体16a形成在被粘体11。因此，在第一实施方式中，通过调整涂布UV固化性树脂12的区域和光引导装置13的压着面的形状，从而能够容易地仅在被粘体11上的一部分区域形成微细结构体16，此外，在第二实施方式中，通过调整光引导装置13的压着面的形状，从而能够容易地仅在被粘体11上的一部分区域形成微细结构体16。此外，由于不需要像比较例1那样通过粘着膜来使被粘体11与微细结构体16固着，所以能够实现薄膜化。

基于附图和实施方式对本发明进行了说明，但希望注意的是只要是本领域技术人员，则容易基于本公开进行各种变形或修正。因此，希望留意这些变形或修正包含于本发明的范围。