一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器

文档序号:139452 发布日期:2021-10-22 浏览:20次 >En<

阅读说明:本技术 一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器 (Thin film inductor processing technology and thin film inductor ) 是由 高涛 彭美华 邹松青 林素娟 于 2021-07-06 设计创作,主要内容包括:本申请涉及电感器加工技术领域,具体公开了一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器,加工工艺包括如下步骤:设置第一绝缘层;在绝缘基板处外加磁场,设置钛层、第一铜层;设置第一挂镀铜,形成电感线圈、正面电极;设置导热硅脂填充二氧化硅层、二氧化硅层,形成隔离层、第二绝缘层;在绝缘基板处外加磁场,设置第二铜层;设置第二挂镀铜,形成引出棒;加工两个背面电极;加工侧面电极,形成初成品;将初成品于温度130-160℃的条件下,热处理0.5-2h。本申请的薄膜电感器加工工艺,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,而且增加了钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,提高薄膜电感器的性能、稳定性、良品率、实用性。(The application relates to the technical field of inductor processing, and particularly discloses a thin film inductor processing technology and a thin film inductor, wherein the processing technology comprises the following steps: providing a first insulating layer; externally applying a magnetic field at the position of the insulating substrate, and arranging a titanium layer and a first copper layer; arranging a first hanging copper plating to form an inductance coil and a front electrode; arranging a heat-conducting silicone grease filled silicon dioxide layer and a silicon dioxide layer to form an isolation layer and a second insulation layer; applying a magnetic field at the position of the insulating substrate and arranging a second copper layer; arranging a second hanging copper plating to form a leading-out rod; processing two back electrodes; processing the side electrode to form a primary finished product; the primary product is thermally treated for 0.5-2h at the temperature of 130-160 ℃. The thin film inductor processing technology effectively reduces the phenomenon of agglomeration and granulation of metal titanium and metal copper, increases the crystallinity of the titanium layer, the first copper layer and the second copper layer, and improves the performance, stability, yield and practicability of the thin film inductor.)

一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器

技术领域

本申请涉及电感器加工技术领域,尤其是涉及一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器。

背景技术

随着科技的发展,电子系统向高频宽带化、高集成度方向发展,伴随着电子元器件向微型化发展,这无疑对电子元器件提出了更高的要求。电感器为电子元器件常见的一种,其是一种能够把电能转化为磁能而储存起来的元器件,常见的电感器主要有叠层电感器、绕线电感器、薄膜电感器。其中,薄膜电感器由于其在加工工艺中引入了磁性薄膜,具有较高电感量,而且还能够减小元器件的尺寸,同时还可以改善电感器的性能,从而被广泛的研究。

相关技术中的薄膜电感器加工工艺中,一般采用溅射的方式在绝缘基板表面溅射金属钛,形成钛层,之后溅射金属铜,形成第一铜层;然后通过负向感光膜在第一铜层表面挂镀第一挂镀铜,形成正面电极、电感线圈;之后通过感光油墨形成隔离层;然后通过采用溅射的方式,溅射金属铜,形成第二铜层,并通过负向感光膜在第一铜层表面挂镀第二挂镀铜,形成引出棒;之后加工背面电极、侧面电极,从而得到薄膜电感器。但是,申请人在实际加工中发现,钛层、第一铜层、第二铜层表面出现较多的团聚颗粒化,并影响薄膜电感器的性能。

发明内容

为了降低钛层、第一铜层、第二铜层表面出现团聚颗粒化的现象,并提高薄膜电感器的性能,本申请提供一种薄膜电感器加工工艺和薄膜电感器。

第一方面,本申请提供一种薄膜电感器加工工艺,采用如下的技术方案:

一种薄膜电感器加工工艺,包括如下步骤:

S1、在绝缘基板于设置正面电极的正面、于设置背面电极的背面、两个于设置侧面电极的侧面分别溅射二氧化硅,并形成第一绝缘层;

S2、在绝缘基板背面间隔设置磁铁片,并于绝缘基板处形成外加磁场,然后在绝缘基板正面溅射金属钛,形成钛层,之后溅射金属铜,形成第一铜层;

S3、在绝缘基板正面于第一铜层表面覆盖第一负向感光膜,并通过曝光的方式,将两个相对的正面电极图形、位于两个正面电极图形之间的电感图形分别留于第一负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去电感图形和正面电极图形处的第一负向感光膜;

S4、通过挂镀的方式,在绝缘基板正面于正面电极图形和电感图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜;

S5、通过去膜的方式,除去正面电极图形和电感图形以外的第一负向感光膜,然后通过化学蚀刻的方式,除去正面电极图形和电感图形以外的钛层、第一铜层,且于电感图形处形成电感线圈、于正面电极图形处形成正面电极;

S6、在绝缘基板正面于第一挂镀铜表面覆盖第二负向感光膜,并通过曝光的方式,将隔离图形留于第二负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去隔离图形处的第二负向感光膜;

S7、在绝缘基板正面于隔离图形处溅射导热硅脂填充二氧化硅,形成导热硅脂填充二氧化硅层,然后溅射二氧化硅,形成二氧化硅层;

S8、在绝缘基板正面于二氧化硅层表面覆盖第三负向感光膜,并通过曝光的方式,将隔离图形留于第三负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去隔离图形以外的第三负向感光膜,然后通过化学蚀刻的方式,除去隔离图形以外的二氧化硅层、导热硅脂填充二氧化硅层,之后通过去膜的方式,除去隔离图形以外的第二负向感光膜、隔离图形处的第三负向感光膜,且于隔离图形处形成隔离层、第二绝缘层;

S9、在绝缘基板正面于第二绝缘层表面覆盖第四负向感光膜,并通过曝光的方式,将引出棒图形留于第四负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去引出棒图形处的第四负向感光膜;

S10、在绝缘基板背面间隔设置磁铁片,并于绝缘基板处形成外加磁场,然后在绝缘基板正面溅射金属铜,形成第二铜层;

S11、在绝缘基板正面于第二铜层表面覆盖第五负向感光膜,并通过曝光的方式,将引出棒图形留于第五负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去引出棒图形处的第五负向感光膜;

S12、通过挂镀的方式,在绝缘基板正面于引出棒图形处的第二铜层表面挂镀第二挂镀铜;

S13、通过去膜的方式,除去引出棒图形以外的第五负向感光膜,然后通过化学蚀刻的方式,除去引出棒图形以外的第二铜层,之后通过去膜的方式,除去引出棒图形以外的第四负向感光膜、引出棒图形处的第五负向感光膜,且于引出棒图形处形成引出棒;

S14、在绝缘基板背面加工出两个背面电极;

S15、在绝缘基板相对的两个侧面分别加工出侧面电极,且形成初成品;

S16、将初成品于温度为130-160℃的条件下,热处理0.5-2h;

其中,两个正面电极、两个背面电极、两个侧面电极一一对应,且所述侧面电极实现正面电极和背面电极的连接,所述引出棒一端穿过隔离层、第二绝缘层和电感线圈里面连接端连接,所述引出棒另一端和其中一个正面电极连接,所述电感线圈外面连接端穿过隔离层和剩余一个正面电极连接。

通过采用上述技术方案,申请人发现,在溅射金属钛、金属铜,且形成钛层、第一铜层、第二铜层时,加入外加磁场,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,从而降低钛层、第一铜层、第二铜层表面出现团聚颗粒化的现象,而且增加了钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,还提高了钛层、第一铜层、第二铜层的均匀性,减少钛层、第一铜层、第二铜层的缺陷,提高钛层、第一铜层、第二铜层的磁化强度,也提高薄膜电感器的性能。同时,申请人还发现,对钛层、第一铜层、第二铜层进行热处理后,能够使钛层、第一铜层、第二铜层实现非晶体向晶体转变,进一步提高薄膜电感器的性能。

本申请中,还在绝缘基板上设置第一绝缘层,有效提高第一绝缘层和绝缘基板的结合强度,而且第一绝缘层还能够有效的增加绝缘基板表面的粗糙度,结合钛层、第一铜层之间的协同作用,提高其之间的结合强度,提高薄膜电感器加工的稳定性和良品率。同时,利用导热硅脂填充二氧化硅形成隔离层,利用二氧化硅形成第二绝缘层,通过其之间的协同作用,有效提高隔离层和第二绝缘层的结合强度,并进一步提高薄膜电感器加工的稳定性和良品率。

可选的,步骤S14具体为:

Sa1、在绝缘基板正面间隔设置磁铁片,并于绝缘基板处形成外加磁场,然后在绝缘基板正面溅射金属钛,形成钛层,之后溅射金属铜,形成第一铜层;

Sa2、在绝缘基板背面于第一铜层表面覆盖第六负向感光膜,并通过曝光的方式,将两个相对的背面电极图形留于第六负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去背面电极图形处的第六负向感光膜;

Sa2、通过挂镀的方式,在绝缘基板背面于背面电极图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜;

Sa4、通过去膜的方式,除去背面电极图形以外的第六负向感光膜,然后通过化学蚀刻的方式,除去背面电极图形以外的钛层、第一铜层,且于背面电极图形处形成背面电极。

通过采用上述技术方案,便于背面电极的加工,使背面电极具有加工简便、稳定的优点,提高了薄膜电感器的良品率,满足市场需求。

可选的,步骤S15具体为:

Sb1、在绝缘基板侧面于第一绝缘层表面覆盖第七负向感光膜,并通过曝光的方式,将侧面电极图形留于第七负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去侧面电极图形处的第七负向感光膜;

Sb2、在绝缘基板侧面间隔设置磁铁片,并于绝缘基板处形成外加磁场,然后在绝缘基板侧面溅射金属钛,形成钛层,之后溅射金属铜,形成第一铜层;

Sb3、在绝缘基板侧面于第一铜层表面覆盖第八负向感光膜,并通过曝光的方式,将侧面电极图形留于第八负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去侧面电极图形处的第八负向感光膜;

Sb4、通过挂镀的方式,在绝缘基板侧面于侧面电极图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜;

Sb5、通过去膜的方式,除去侧面电极图形以外的第八负向感光膜,然后通过化学蚀刻的方式,除去侧面电极图形的钛层、第一铜层,之后通过去膜的方式,除去侧面电极图形以外的第七负向感光膜,且于侧面电极图形处形成侧面电极。

通过采用上述技术方案,便于侧面电极的加工,使侧面电极具有加工简便、稳定的优点,提高了薄膜电感器的良品率,满足市场需求。

可选的,步骤S16后,还包括步骤S17、在绝缘基板正面于第二绝缘层表面加工加固层。

通过采用上述技术方案,在第二绝缘层的表面设置加固层,提高薄膜电感器的稳定性。

可选的,步骤S17具体为:

Sc1、在绝缘基板正面于引出棒表面涂刷环氧树脂胶,环氧树脂胶固化形成加固膜;

Sc2、在绝缘基板正面于加固膜表面覆盖第九负向感光膜,并通过曝光的方式,将加固图形留于第九负向感光膜上,之后通过显影的方式,除去加固图形以外的第九负向感光膜,然后通过去膜的方式,除去加固图形以外的加固膜,之后通过去膜的方式,除去加固图形处的第九负向感光膜,且于加固图形处形成加固层。

通过采用上述技术方案,环氧树脂胶具有一定的弹性,能够对引出棒、正面电极、电感线圈起到良好的保护作用,而且加固层还具有加工简便、稳定的优点。

第二方面,本申请提供一种薄膜电感器,采用如下的技术方案:

一种薄膜电感器,包括绝缘基板、两个对称设置在绝缘基板正面两端的正面电极、设置在绝缘基板正面且位于两个正面电极之间的电感线圈、设置在绝缘基板表面且覆盖电感线圈的隔离层、两个对称设置在绝缘基板背面两端的背面电极、两个分别设置在绝缘基板相对两个侧面的侧面电极、引出棒,所述绝缘基板正面、背面、两个于设置侧面电极的侧面均固设有第一绝缘层,所述隔离层的表面固设有第二绝缘层;

两个正面电极、两个背面电极、两个侧面电极一一对应,且所述侧面电极实现正面电极和背面电极的连接,所述引出棒一端穿过隔离层、第二绝缘层和电感线圈里面连接端连接,所述隔离层、第二绝缘层均开设有与引出棒相适配的让位孔,所述引出棒另一端和其中一个正面电极连接,所述电感线圈外面连接端穿过隔离层和剩余一个正面电极连接。

通过采用上述技术方案,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,而且增加了钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,提高薄膜电感器的性能、稳定性、实用性。

可选的,所述引出棒包括与正面电极连接且与其相适配的第一端部、与电感线圈连接且与其相适配的第二端部、固设在第一端部和第二端部之间的连接部,所述第二端部位于隔离层、第二绝缘层的让位孔内。

通过采用上述技术方案,增加第一端部和正面电极的接触面积,也增加第二端部和电感线圈里面连接端的接触面积,提高薄膜电感器使用稳定性,而且还便于引出棒的加工,提高薄膜电感器的实用性。

可选的,所述电感线圈为圆形螺旋形。

通过采用上述技术方案,圆形螺旋形拐角较少,能够有效降低因拐角而受到散射增强的影响,而且还能够提高薄膜电感器的电感量,提高薄膜电感器的实用性。

可选的,所述绝缘基板为陶瓷基板。

通过采用上述技术方案,陶瓷基板不仅具有良好的绝缘性,而且还具有原料易得、加工简便的优点,提高薄膜电感器的实用性。

可选的,所述第二绝缘层表面设置有覆盖引出棒的加固层。

通过采用上述技术方案,加固层对引出棒、正面电极、电感线圈起到良好的保护作用,提高薄膜电感器的实用性。

综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:

1.本申请的薄膜电感器加工工艺,通过各个步骤之间的协同作用,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,继而降低钛层、第一铜层、第二铜层表面出现团聚颗粒化的现象,而且增加了钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,提高薄膜电感器的性能、稳定性、良品率、实用性。

2.在绝缘基板正面于第二绝缘层表面加工加固层,并利用环氧树脂胶的弹性,对引出棒、正面电极、电感线圈起到良好的保护作用,进一步提高薄膜电感器的实用性。

附图说明

图1是本申请实施例的结构示意图。

图2是为了表示电感线圈、引出棒的部分剖视图。

图3是步骤S1处理后的结构示意图。

图4是步骤S5处理后的结构示意图。

图5是步骤S8处理后的结构示意图。

图6是步骤S13处理后的结构示意图。

图7是步骤S14处理后的结构示意图。

图8是步骤S15处理后的结构示意图。

附图标记说明:1、绝缘基板;2、第一绝缘层;31、正面电极;32、背面电极;33、侧面电极;34、电感线圈;35、引出棒;351、第一端部;352、第二端部;353、连接部;4、隔离层;41、第一让位槽;5、第二绝缘层;6、让位孔;7、加固层;71、第二让位槽。

具体实施方式

以下结合附图1-8对本申请作进一步详细说明。

实施例1

本申请实施例公开一种薄膜电感器。参照图1和图2,包括绝缘基板1,绝缘基板1为方形陶瓷基板,且绝缘基板1的顶面设定为正面,绝缘基板1的底面设定为背面。绝缘基板1正面固设有第一绝缘层2,第一绝缘层2为二氧化硅溅射而成。绝缘基板1背面也固设有第一绝缘层2,绝缘基板1沿其长度方向两端的端面也分别固设有第一绝缘层2。绝缘基板1正面于第一绝缘层2的表面对称固设有两个正面电极31,两个正面电极31分别设置在绝缘基板1沿其长度方向的两端,正面电极31为方形。绝缘基板1背面于第一绝缘层2的表面对称固设有两个背面电极32,两个背面电极32分别设置在绝缘基板1沿其长度方向的两端,背面电极32为方形。绝缘基板1沿其长度方向两端的端面于第一绝缘层2的表面分别固设有侧面电极33,即侧面电极33的数量为两个,侧面电极33为方形。两个侧面电极33、两个正面电极31、两个背面电极32分别一一对应,且侧面电极33实现正面电极31和背面电极32的连接。

参照图1和图2,绝缘基板1正面于第一绝缘层2表面固设有电感线圈34,电感线圈34位于两个正面电极31之间,且电感线圈34为圆形螺旋形。绝缘基板1正面于第一绝缘层2表面固设有隔离层4,隔离层4覆盖在电感线圈34表面,隔离层4底面开设有与电感线圈34相适配的第一让位槽41,隔离层4为导热硅脂填充二氧化硅溅射而成。隔离层4的表面固设有第二绝缘层5,第二绝缘层5为二氧化硅溅射而成。电感线圈34外面连接端穿过隔离层4和其中一个正面电极31连接,电感线圈34里面连接端和剩余一个正面电极31之间固设有引出棒35,引出棒35的一端穿过隔离层4、第二绝缘层5以后和电感线圈34里面连接端连接,引出棒35的另一端和剩余一个正面电极31连接。隔离层4、第二绝缘层5均开设有与引出棒35相适配的让位孔6。第二绝缘层5的表面固设有加固层7,加固层7覆盖在引出棒35上,加固层7底面开设有与引出棒35相适配的第二让位槽71。

参照图1和图2,引出棒35包括与正面电极31连接且与其相适配的第一端部351、与电感线圈34连接且与其里面连接端相适配的第二端部352,第一端部351为方形,第二端部352也为方形,且第二端部352顶面面积小于第一端部351顶面面积。第二端部352位于隔离层4、第二绝缘层5的让位孔6内。第二端部352顶部和第一端部351顶部固设有连接部353,通过第一端部351、第二端部352、连接部353之间的相互配合,实现正面电极31和电感线圈34的连接。

参照图1和图2,正面电极31、背面电极32、侧面电极33的材料相同,正面电极31具体为固设在第一绝缘层2表面的钛层、固设在钛层表面的第一铜层、固设在第一铜层表面的第一挂镀铜。背面电极32具体为固设在第一绝缘层2表面的钛层、固设在钛层表面的第一铜层、固设在第一铜层表面的第一挂镀铜。侧面电极33具体为固设在第一绝缘层2表面的钛层、固设在钛层表面的第一铜层、固设在第一铜层表面的第一挂镀铜。引出棒35为与正面电极31和电感线圈34连接的第二铜层、固设在第二铜层表面的第二挂镀铜。

本申请实施例的薄膜电感器,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,降低钛层、第一铜层、第二铜层表面出现团聚颗粒化的现象,而且增加了钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,提高薄膜电感器的性能、稳定性、良品率、实用性。

实施例2

本申请实施例公开一种薄膜电感器加工工艺,包括如下步骤:

S1、在绝缘基板1于设置正面电极31的正面、于设置背面电极32的背面、两个于设置侧面电极33的侧面分别溅射二氧化硅,二氧化硅在绝缘基板1表面形成第一绝缘层2,参照图3。

申请人发现,第一绝缘层2不仅提高了绝缘基板1的绝缘性,而且绝缘基板1为方形陶瓷基板,陶瓷的成分主要是硅、铝、氧三种元素,在绝缘基板1表面溅射二氧化硅,利用二氧化硅中的硅以及陶瓷中硅之间的协同作用,有效提高第一绝缘层2和绝缘基板1的结合强度,同时第一绝缘层2还能够有效的增加绝缘基板1表面的粗糙度。

S2、在绝缘基板1背面间隔设置磁铁片,磁铁片为与绝缘基板1相适配的方形片,并使磁铁片于绝缘基板1处形成外加磁场,然后在绝缘基板1正面溅射金属钛,金属钛在第一绝缘层2表面形成钛层,然后溅射金属铜,金属铜在钛层表面形成第一铜层。

申请人发现,在绝缘基板1正面溅射金属钛、金属铜时,加入外加磁场,此时绝缘基板1处于缓变的梯形纵向磁场中,金属钛、金属铜在溅射沉积过程中,受到外加磁场的作用使其纵向、横向动能分量相互转化,并使金属钛、金属铜具有较大的迁移能力、自身活动性和较小的轰击损坏能力,有效的降低金属钛、金属铜出现团聚颗粒化的现象,从而降低钛层、第一铜层表面出现团聚颗粒化的现象,并增加了钛层、第一铜层的结晶性,还提高了钛层、第一铜层的均匀性,减少钛层、第一铜层的缺陷,提高钛层、第一铜层的磁化强度,也提高薄膜电感器的性能。申请人还发现,利用钛层中钛和第一铜层中铜之间的协同作用,有效提高钛层和第一铜层的结合强度,同时结合,步骤S1中的第一绝缘层2,利用第一绝缘层2、钛层、第一铜层、绝缘基板1之间协同作用,提高其之间的结合强度。

S3、在绝缘基板1正面于第一铜层表面固设第一负向感光膜。然后通过曝光的方式,将两个相对的正面电极图形、位于两个正面电极图形之间的电感图形分别留于第一负向感光膜上,且电感图形外面连接端和其中一个正面电极图形连通、里面连接端和剩余一个正面电极图形不连通。之后通过显影的方式,除去电感图形和正面电极图形处的第一负向感光膜,并露出两个正面电极图形和电感图形处的第一铜层。

S4、通过挂镀的方式,在绝缘基板1正面于正面电极图形和电感图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜。

S5、通过去膜的方式,除去绝缘基板1正面于正面电极图形和电感图形以外的第一负向感光膜,并露出正面电极图形和电感图形以外的第一铜层。然后通过化学蚀刻的方式,除去正面电极图形和电感图形以外的钛层、第一铜层,并露出正面电极图形和电感图形以外的第一绝缘层2。钛层、第一铜层、第一挂镀铜于电感图形处形成电感线圈34,钛层、第一铜层、第一挂镀铜于正面电极图形处形成正面电极31,参照图4。

S6、在绝缘基板1正面于第一挂镀铜表面固设第二负向感光膜。然后通过曝光的方式,将隔离图形留于第二负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去隔离图形处的第二负向感光膜,并露出隔离图形处于绝缘基板1表面的第一绝缘层2、电感线圈34于除里面连接端的第一挂镀铜。

S7、在绝缘基板1正面于隔离图形处溅射导热硅脂填充二氧化硅,导热硅脂填充二氧化硅在第一绝缘层2表面形成导热硅脂填充二氧化硅层。然后在绝缘基板1正面于隔离层4的表面溅射二氧化硅,二氧化硅在导热硅脂填充二氧化硅层表面形成二氧化硅层。

其中,导热硅脂填充二氧化硅采用以下方法制备:在导热硅脂中加入二氧化硅浸泡,浸泡5h后取出,然后静置处理2h,得到导热硅脂填充二氧化硅,导热硅脂进入二氧化硅内部的孔隙,且稳定存在。导热硅脂为CPU导热硅脂,且选自深圳市浩成电子材料有限公司的HC7300。

申请人发现,将导热硅脂填充到二氧化硅内部的孔隙内,并通过导热硅脂、二氧化硅之间的协同作用,不仅具有良好的导热、散热性,而且还具有良好的绝缘性。申请人还发现,在隔离层4的表面设置第二绝缘层5,利用第二绝缘层5中二氧化硅、隔离层4中二氧化硅之间的协同作用,有效提高隔离层4和第二绝缘层5的结合强度,并增加隔离层4的稳定性,提高薄膜电感器的良品率。

S8、在绝缘基板1正面于二氧化硅层表面固设第三负向感光膜。然后通过曝光的方式,将隔离图形留于第三负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去隔离图形以外的第三负向感光膜,并露出隔离图形以外的二氧化硅层。之后通过化学蚀刻的方式,除去隔离图形以外的二氧化硅层、导热硅脂填充二氧化硅层,并露出隔离图形以外的第二负向感光膜。然后通过去膜的方式,除去隔离图形以外的第二负向感光膜,并露出隔离图形以外于绝缘基板1表面的第一绝缘层2、两个正面电极31的第一挂镀铜、电感线圈34里面连接端的第一挂镀铜。之后通过去膜的方式,除去隔离图形处的第三负向感光膜,并露出二氧化硅层。导热硅脂填充二氧化硅层于隔离图形处形成隔离层4,且隔离层4于电感线圈34处形成第一让位槽41,隔离层4于电感线圈34里面连接端处形成让位孔6,二氧化硅层于隔离图形处形成第二绝缘层5,且第二绝缘层5于电感线圈34里面连接端处也形成让位孔6,参照图5。

S9、在绝缘基板1正面于第二绝缘层5表面固设第四负向感光膜。然后通过曝光的方式,将引出棒图形留于第四负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去引出棒图形处的第四负向感光膜,并露出引出棒图形于正面电极31的第一挂镀铜、电感线圈34里面连接端的第一挂镀铜、第二绝缘层5。

S10、在绝缘基板1背面间隔设置磁铁片,磁铁片为与绝缘基板1相适配的方形片,并使磁铁片于绝缘基板1处形成外加磁场,然后在绝缘基板1正面溅射金属铜,金属铜形成第二铜层。

申请人发现,加入外加磁场,有效的降低金属铜出现团聚颗粒化的现象,而且增加了第二铜层的结晶性,还提高了第二铜层的均匀性,减少第二铜层的缺陷,提高第二铜层的磁化强度,也提高薄膜电感器的性能。

S11、在绝缘基板1正面于第二铜层表面固设第五负向感光膜。然后通过曝光的方式,将引出棒图形留于第五负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去引出棒图形处的第五负向感光膜,并露出引出棒图形处于正面电极31表面的第二铜层、电感线圈34里面连接端的第二铜层、第二绝缘层5表面的第二铜层。

S12、通过挂镀的方式,在绝缘基板1正面于引出棒图形处的第二铜层表面挂镀第二挂镀铜。

S13、通过去膜的方式,除去引出棒图形以外的第五负向感光膜,并露出引出棒图形以外的第二铜层。然后通过化学蚀刻的方式,除去引出棒图形以外的第二铜层,并露出引出棒图形以外的第四负向感光膜。之后通过去膜的方式,除去引出棒图形以外的第四负向感光膜,并露出引出棒图形以外于绝缘基板1表面的第一绝缘层2、第二绝缘层5、和电感线圈34连接的正面电极31的第一挂镀铜。之后通过去膜的方式,除去引出棒图形处的第五负向感光膜,并露出引出棒35的第二挂镀铜。第二铜层、第二挂镀铜于引出棒图形处形成引出棒35,参照图6。

S14、在绝缘基板1背面加工出两个与两个正面电极31相对的背面电极32。

具体步骤为:Sa1、在绝缘基板1正面间隔设置磁铁片,磁铁片为与绝缘基板1相适配的方形片,并使磁铁片于绝缘基板1处形成外加磁场,然后在绝缘基板1背面溅射金属钛,金属钛在第一绝缘层2表面形成钛层,然后溅射金属铜,金属铜在钛层表面形成第一铜层。

Sa2、在绝缘基板1背面于第一铜层表面固设第六负向感光膜。然后通过曝光的方式,将两个相对的背面电极图形留于第六负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去背面电极图形处的第六负向感光膜,并露出两个背面电极图形处的第一铜层。

Sa3、通过挂镀的方式,在绝缘基板1背面于背面电极图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜。

Sa4、通过去膜的方式,除去背面电极图形以外的第六负向感光膜,并露出背面电极图形以外的第一铜层。然后通过化学蚀刻的方式,除去背面电极图形以外的钛层、第一铜层,并露出绝缘基板1表面的第一绝缘层2。钛层、第一铜层、第一挂镀铜于背面电极图形处形成背面电极32,参照图7。

S15、在绝缘基板1相对的两个侧面分别加工出侧面电极33。

具体步骤为:Sb1、在绝缘基板1侧面于第一绝缘层2表面固设第七负向感光膜。然后通过曝光的方式,将侧面电极图形留于第七负向感光膜上,且侧面电极图形的两端分别和正面电极31、背面电极32连接。之后通过显影的方式,除去侧面电极图形处的第七负向感光膜,并露出背面电极图形处于绝缘基板1表面的第一绝缘层2、正面电极31的侧面、背面电极32的侧面。

Sb2、在绝缘基板1侧面间隔设置磁铁片,磁铁片为与绝缘基板1相适配的方形片,并使磁铁片于绝缘基板1处形成外加磁场,然后在绝缘基板1侧面溅射金属钛,金属钛在第一绝缘层2表面形成钛层,然后溅射金属铜,金属铜在钛层表面形成第一铜层。

Sb3、在绝缘基板1侧面于第一铜层表面固设第八负向感光膜。然后通过曝光的方式,将侧面电极图形留于第八负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去侧面电极图形处的第八负向感光膜,并露出侧面电极图形处的第一铜层。

Sb4、通过挂镀的方式,在绝缘基板1侧面于侧面电极图形处的第一铜层表面挂镀第一挂镀铜。

Sb5、通过去膜的方式,除去侧面电极图形以外的第八负向感光膜,并露出侧面电极图形以外的第一铜层。然后通过化学蚀刻的方式,除去侧面电极图形以外的钛层、第一铜层,并露出侧面电极图形以外的第七负向感光膜。之后通过去膜的方式,除去侧面电极图形以外的第七负向感光膜,并露出绝缘基板1表面的第一绝缘层2、正面电极31的侧面、背面电极32的侧面。钛层、第一铜层、第一挂镀铜于侧面电极图形处形成侧面电极33,且得到初成品,参照图8。

S16、将初成品于温度为150℃的条件下,热处理1h,当然,热处理温度也可以根据实际情况而定,例如130℃、140℃、160℃等,热处理时间也可以根据实际情况而定,例如0.5h、1.5h、2h等。

申请人发现,对钛层、第一铜层、第二铜层进行热处理后,金属钛、金属铜中的非晶包能够发生分裂,并转化为晶体,可以使钛层、第一铜层、第二铜层择优生长,从而使热处理后的钛层、第一铜层、第二铜层能够实现非晶体向晶体转变,增加钛层、第一铜层、第二铜层的结晶性,减少钛层、第一铜层、第二铜层的缺陷,提高钛层、第一铜层、第二铜层的磁化强度,也提高薄膜电感器的性能。

S17、在绝缘基板1正面于第二绝缘层5表面加工加固层7。

具体步骤为:Sc1、在绝缘基板1正面于引出棒35表面涂刷环氧树脂胶,环氧树脂胶固化形成加固膜。

Sc2、在绝缘基板1正面于加固膜表面固设第九负向感光膜。然后通过曝光的方式,将加固图形留于第九负向感光膜上。之后通过显影的方式,除去加固图形以外的第九负向感光膜,并露出加固图形以外的加固膜。然后通过去膜的方式,除去加固图形以外的加固膜,并露出加固图形以外于绝缘基板1表面的第一绝缘层2、和电感线圈34连接正面电极31的第一挂镀铜、引出棒35的第二挂镀铜。之后通过去膜的方式,除去加固图形处的第九负向感光膜,并露出加固膜。加固膜于加固图形处形成加固层7,且加固层7于引出棒35处形成第二让位槽71,参照图1。

申请人发现,在第二绝缘层5的表面设置加固层7,环氧树脂胶具有一定的弹性,能够对引出棒35、正面电极31、电感线圈34起到良好的保护作用。

本申请实施例的薄膜电感器加工工艺,便于对各个步骤进行控制,而且还具有加工简便、稳定的优点,通过各个步骤之间的协同作用,不仅降低钛层、第一铜层、第二铜层表面出现团聚颗粒化的现象,并提高薄膜电感器的性能,而且还提高了薄膜电感器的良品率,满足市场需求。

以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。

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