具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述：参见图1-图6。

高稳定性角磨机，包括角磨机1本体及与之相配合的机架2，所述角磨机1为双头角磨机，所述角磨机1两端出轴上分别设有第一水磨片3及第二水磨片4，所述第一水磨片3用于石材的粗抛光，所述第二水磨片4用于石材的精抛光。

所述角磨机1壳体上连接有转动电机11，即角磨机1可绕转动电机11输出轴转动，所述转动电机11设于横向导轨12上，所述横向导轨12上设有与转动电机11安装板相配合的滑块14，所述滑块14为与横向导轨12滑动配合的滑块，所述横向导轨12两端滑动设于对称设置的纵向导轨13上，所述纵向导轨13固设于机架2两侧，上述横向导轨12及纵向导轨13均优选丝杆模组，且均用伺服电机驱动，即横向导轨12与纵向导轨13构成XY坐标系，所述横向导轨12及纵向导轨13均与PLC控制器相连。

所述第一水磨片3端面及第二水磨片4端面设置时绕转动电机11轴线对称设置，即角磨机1翻转后可使水磨片端面均在同一水平面上。

所述角磨机1两侧分别设有第一感应轮5及第二感应轮6，所述第一感应轮5转动设于角磨机1支架上，所述第一水磨片3端面与第一感应轮5相切，所述第一感应轮5表面光滑度优选与石材被第一水磨片3抛光后光滑度相同，即第一感应轮5在石材被第一水磨片3抛光前，与石材接触后可转动，当第一水磨片3将石材进行粗抛后第一感应轮5只可在石材表面相对滑动。

所述第一感应轮5一端固设有第一链轮21，所述第一链轮21外径小于第一感应轮5外径，所述第一链轮21通过第一链条连接有第一调节轮22，所述第一调节轮22外圆部为链齿，所述第一链轮21外径大于第一调节轮22外径，即第一链轮21将动力传输至第一调节轮22时，第一链轮21的转速小于第一调节轮22转动的转速，所述第一调节轮22中心设有第一通孔23，所述第一调节轮22内部绕第一通孔23均匀设有第一离心销24，所述第一离心销24优选4组，所述第一链轮21内部设有与第一离心销24相配合的第一滑动孔26，所述第一离心销24可在第一滑动孔26内滑动，所述第一滑动孔26中部设有第一挡板27，所述第一挡板27上设有可供第一离心销24滑动的孔。

所述第一离心销24包括第一离心块及第一活塞，所述第一离心块与第一活塞之间通过第一销柱相连，所述第一销柱滑动穿设于第一挡板27孔内，所述第一挡板27与第一活塞之间设有第一弹簧25，所述第一弹簧25套设于第一销柱上且两端分别顶靠第一挡板27及第一活塞，所述第一活塞滑动设于第一滑动孔26内且置于靠近第一通孔23轴心一侧，第一调节轮22不转动时，第一活塞位于第一通孔23内。

所述第一通孔23两端分别与三通阀8及第一喷射泵7相连，所述第一通孔23两端设有转动接头，所述转动接头设于第一调节轮22两侧。

所述第二感应轮6转动设于角磨机1支架上，所述第二水磨片4端面与第二感应轮6相切，所述第二感应轮6表面光滑度优选与石材被第二水磨片4抛光后光滑度相同，即第二感应轮6在石材被第二水磨片4抛光前，与石材接触后可转动，当第二水磨片4将石材进行精抛后第二感应轮6只可在石材表面相对滑动。

所述第二感应轮6一端固设有第二链轮31，所述第二链轮31外径小于第二感应轮6外径，所述第二链轮31通过第二链条连接有第二调节轮32，所述第二调节轮32外圆部为链齿，所述第二链轮31外径大于第二调节轮32外径，即第二链轮31将动力传输至第二调节轮32时，第二链轮31的转速小于第二调节轮32转动的转速，所述第二调节轮32中心设有第二通孔33，所述第二调节轮32内部绕第二通孔33均匀设有第二离心销34，所述第二离心销34优选4组，所述第二链轮31内部设有与第二离心销34相配合的第二滑动孔36，所述第二离心销34可在第二滑动孔36内滑动，所述第二滑动孔36中部设有第二挡板37，所述第二挡板37上设有可供第二离心销34滑动的孔。

所述第二离心销34包括第二离心块及第二活塞，所述第二离心块与第二活塞之间通过第二销柱相连，所述第二销柱滑动穿设于第二挡板37孔内，所述第二挡板37与第二活塞之间设有第二弹簧35，所述第二弹簧35套设于第二销柱上且两端分别顶靠第二挡板37及第二活塞，所述第二活塞滑动设于第二滑动孔36内且置于靠近第二通孔33轴心一侧，第二调节轮32不转动时，第二活塞位于第二通孔33内。

所述第二通孔33两端分别与三通阀8及第二喷射泵7相连，所述第二通孔33两端设有转动接头，所述转动接头设于第二调节轮32两侧。

所述三通阀8与第二通孔33连接管的管径截面等于第一调节轮22在不转动时水量通过第一通孔23的截面，即使用第二水磨片4进行精抛时开始的用水量与第一水磨片3最后一次粗抛的用水量相等或相近。

所述机架2上设有集水槽41，所述集水槽41绕石材四周设置，即可将喷射于石材上的水收集入集水槽41内，所述集水槽41一侧设有排水孔42，所述机架2下方设有与排水孔42相连的集水箱43，所述集水箱42用过螺栓固定于机架2上，所述集水箱43底部设有排水阀49。

所述集水箱43内设有浮球44，所述浮球44连接有浮球杆45，所述浮球干45滑动穿设于集水箱43顶部面板上，所述浮球杆45穿设集水箱43后连接有连接板47，所述连接板47一侧与浮球干45相连另一侧固设有滑动杆46，所述滑动杆46滑动设于集水箱43顶部面板上，所述滑动杆46下端设有顶销48，所述顶销48端部设有圆弧形凸起。

所述滑块14上设有长连杆，所述长连杆一侧自上而下分别设有与顶销48相配合的第一开关组、第二开关组及第三开关组，所述第一开关组包括第一按钮51、第一按压弹簧及第一按压板，所述第一按压板滑动设于长连杆上，所述第一按压板与长连杆之间设有第一按压弹簧，所述第一按钮51与第一按压板相配合，所述第一按钮51通过电缆与排水阀49相连。

所述第二开关组包括第二按钮52、第三按钮53、第二按压弹簧及第二按压板，所述第二按压板滑动设于长连杆上，所述第二按压板与长连杆之间设有第二按压弹簧，所述第二按钮51及第三按钮53与第一按压板相配合，所述第二按钮52通过电缆与排水阀49相连，所述第三按钮53通过电缆与转动电机11及三通阀8相连，即第三按钮53控制转动电机11转动180°的同时使三通阀8将水流从第一调节轮22的连接管切换至第二调节轮32的连接管，即从第一水磨片3与石材抛光切换至第二水磨片4与石材抛光。

所述第三开关组包括第四按钮54、第五按钮55、第三按压弹簧及第三按压板，所述第三按压板滑动设于长连杆上，所述第三按压板与长连杆之间设有第三按压弹簧，所述第四按钮54及第五按钮55与第一按压板相配合，所述第四按钮54通过电缆与排水阀49相连，所述第五按钮55通过电缆连接有警示灯，所述警示灯用于提醒操作者。

所述第一按钮51、第二按钮52及第四按钮54与排水阀49构成串联电路，即前述任一按钮触发后均可触发排水阀49打开排水。

使用如上述高稳定性角磨机的方法：抛光时，先用第一水磨片3与石材接触，进行粗抛，滑块14在横向导轨12上滑动时第一感应轮5与石材表面接触进行转动，带动第一调节轮22转动，使第一离心销24受离心力作用滑动压缩第一弹簧25，即此时第一通孔23为完全打开状态，供水量最大，抛光后的水均通过排水孔42流入集水箱43内，浮球44上述，滑块14完成一次滑动为一个抛光周期，滑动至最左端时第一开关组与顶销48配合触发排水阀49排水，随着石材表面越来越光滑，当其光滑度与第一感应轮5相同或相近时，此时第一感应轮5为静止不转动，即只在石材表面滑动，此时第一调节轮22内的第一离心销24堵住一部分第一通孔23的截面，使喷射水量减少，此时完成一个抛光形成后顶销48因浮球44水位下降而下降，触发第二开关组，第二开关组触发排水阀49排水的同时使转动电机11转动，此处有可供转动电机11转动的转动区，即转动时水磨片不会与石材干涉，转动后第二水磨片4与石材接触对石材进行精抛，与此同时，三通阀8切换将水流从第一调节轮22切换至第二调节轮23；

此时精抛时第二调节轮32的运行原理与第一调节轮22的运行原理相同，当精抛后的石材表面光滑度与第二感应轮6相同或相近时，此时第二感应轮6为静止不转动，即只在石材表面滑动，此时第二调节轮32内的第二离心销34堵住第一通孔23的截面，使喷射水量进一步减少，此时集水箱43收集该次抛光使用水量进一步减少，浮球44继续下降，此时顶销48触发第三开关组，第三开关组触发排水阀49泄水的同时触发警示灯，使用者得到警示灯通知后知晓该石材已精抛完成，随后将石材取出，将各机械结构复位。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。