一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法
阅读说明：本技术 一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法 (Wear-resistant high-hardness ceramic glaze and preparation method thereof ) 是由 黄奕雯 于 2019-12-16 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法,涉及陶瓷釉料技术领域,该耐磨高硬度陶瓷釉料,包括以下原料：钠长石、钾长石、高岭土、石英砂、锌白、高铝粘土、方解石、滑石、锂瓷、堇青石、锆英砂、莫来石粉、硅灰石、碳化硼、五氧化二铌、氧化锌、熔块；本发明提供的釉料制成的全抛釉砖的维氏硬度和耐磨性均具有提高,满足了更高硬度和耐磨性的全抛釉釉面砖的市场需求；釉面在烧制时不会产生大量的气泡,产品抛后防污能力强,其光泽度也较高；全抛釉釉面砖的釉层膨胀系数接近于瓷砖坯体,釉层受到的内应力较小,抛光时不会产生漏抛或局部露底现象,保证产品质量。(The invention discloses a wear-resistant high-hardness ceramic glaze and a preparation method thereof, relating to the technical field of ceramic glaze, wherein the wear-resistant high-hardness ceramic glaze comprises the following raw materials: albite, potassium feldspar, kaolin, quartz sand, zinc white, high alumina clay, calcite, talcum, lithium porcelain, cordierite, zircon sand, mullite powder, wollastonite, boron carbide, niobium pentoxide, zinc oxide and frit; the Vickers hardness and the wear resistance of the fully-glazed tile made of the glaze provided by the invention are both improved, and the market demand of the fully-glazed tile with higher hardness and wear resistance is met; the glaze surface does not generate a large amount of bubbles during firing, and the product has strong antifouling capability after being polished and higher glossiness; the expansion coefficient of the glaze layer of the full-glazed tile is close to that of a tile blank, the internal stress of the glaze layer is small, the phenomena of missing polishing or partial bottom exposure can not occur during polishing, and the product quality is ensured.)
技术领域
本发明涉及陶瓷釉料技术领域，具体是一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法。
背景技术
全抛釉是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料，一般为透明面釉或透明凸状花釉，施于釉面砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层，而透明凸状花釉作全釉面的杰出之作，其凸釉通过丝网印花于砖面成间断的凸粒状釉，烧成再抛釉，效果更是别具一格。
全抛釉釉面砖作为一种全新的生产工艺，存在着诸多技术问题，如釉面硬度低(维氏硬度605.5HV0.5)、不耐磨损，高温流动性差，易出现“水波纹”情况，而且釉面在烧制时容易产生大量的气泡，使产品抛后防污能力差、失光，全抛釉釉面砖的釉层膨胀系数小于瓷砖坯体，釉层受到的内应力较大，使其在烧制时产生变形，从而导致抛光时易产生漏抛或局部露底现象，并且全抛釉釉面砖的烧制温度范围较小，导致其生产工艺也不容易控制，难以保证产品质量的稳定性。
经过检索发现，1、如在授权公告号为CN104803604B的中国专利中公开了一种耐磨高硬度陶瓷配方及其生产工艺，包括陶瓷釉料、陶瓷坯料、增稠剂、减水剂，将陶瓷釉料、陶瓷坯料使用超微设备进行研磨粉碎，得到的粉体粒度为0.05～0.3μm，然后再次进行筛分，加入增稠剂和减水剂，在工艺模具中成型，脱模后得到陶瓷制品；2、如在授权公告号为CN106542735B的中国专利中公开了一种耐磨全生料超平厚抛釉及其应用，属于陶瓷釉料生产加工技术领域，耐磨全生料超平厚抛釉各成分的质量百分比为：钾长石5～20％、钠长石25～40％、水洗高岭土5～10％、碳酸钡0～10％、碳酸锶0～10％、氧化锌5～12％、方解石5～10％、白云石2～8％、石英5～10％、白刚玉8～18％；在砖坯面上施一层化妆土，采用直线淋釉方式或钟罩淋釉方式，分2次将耐磨全生料超平厚抛釉浆施于砖面上，经1160～1230℃烧成，再经抛光、打蜡得成品砖；3、如在授权公告号为CN105967523B的中国专利中公开了一种釉用熔块及其制造方法，其原料按质量百分比包括如下组分：20～30％钾长石、3～6％硅灰石、4～8％生滑石、5～8％碳酸钡、15～20％方解石、18～22％石英、10～14％氧化铝、2～4％氧化锌、1～3％碳酸钾、1～2％碳酸锶；4、如在授权公告号为CN105036558B的中国专利中公开了一种微纳复合釉料，该釉料由以下重量份的原料组成：微米α～Al2O330～60份、纳米TiO24～8份、微米Ni3～9份、纳米ZrO23～9份、纳米TiC50～60份、莫来石3～9份、高岭土20～30份、电熔刚玉30～50份、二氧化硅微粉15～30份、六偏磷酸钠2～6份、氧化锌3～8份、碳化锆6～15份、氮化硅3～9份、碳酸钇3～9份、乌刚石粉7～15份，该微纳复合釉料制备的釉具有耐高温、耐磨、耐腐蚀的特点；5、如在授权公告号为CN105272375B的中国专利中公开了一种耐磨高硬度的金刚釉、制备方法和应用，按照质量百分比计，其釉料配方包括：高岭土5～15％、红柱石5～10％、钾长石5～10％、白榴石5～12％、钙铝榴石1～3％、霞石10～18％、锂辉石5～15％、硅灰石2～8％、石英3～7％、锆英砂5～10％、白刚玉5～10％、白云石1～3％、煅烧白滑石1～3％、氧化锌0.1～0.5％、添加剂0.5～3％；6、如在授权公告号为CN106966598B的中国专利中公开了一种低温高硬度高耐磨全抛釉，包括基料和外加剂；所述基料的原料组成为：钠长石15～25wt％、钾长石8～16wt％、高岭土6～10wt％、烧滑石5～8wt％、白云石5～10wt％、碳酸钡4～12wt％、烧氧化锌3～5wt％、透明熔块4～20wt％、高温熔块16～28wt％、石英5～18wt％、氧化铝微粉7～15wt％；所述外加剂为有机硅纳米溶液或白炭黑，其用量为基料的15～20wt％。
虽然上述技术方案均在一定程度上提高了陶瓷釉层的硬度和耐磨性，也解决了釉层出现“水波纹”的问，并且其维式硬度最高可达到至723.6HV0.5，其耐磨损耗最高可达到至0.42g/12000转，但是上述技术方案还是难以满足更高硬度和耐磨性的全抛釉釉面砖的市场需求，而且上述技术方案也难以很好的同时解决如下问题：釉面在烧制时容易产生大量的气泡，使产品抛后防污能力差、失光；全抛釉釉面砖的釉层膨胀系数小于瓷砖坯体，釉层受到的内应力较大，使其在烧制时产生变形，从而导致抛光时易产生漏抛或局部露底现象；全抛釉釉面砖的烧制温度范围较小，导致其生产工艺也不容易控制，难以保证产品质量的稳定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种耐磨高硬度陶瓷釉料，以解决现有技术难以满足更高硬度和耐磨性的全抛釉釉面砖的市场需求问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：
钠长石20～30份、钾长石10～16份、高岭土4～9份、石英砂6～12份、锌白4～8份、高铝粘土3～6份、方解石7～13份、滑石5～9份、锂瓷石3～7份、堇青石6～14份、锆英砂5～11份、莫来石粉3～8份、硅灰石7～14份、碳化硼2～5份、五氧化二铌3～7份、氧化锌2～6份、熔块12～22份。
优选的，所述耐磨高硬度陶瓷釉料包括以下按照重量份计的原料：钠长石23～27份、钾长石12～14份、高岭土5～8份、石英砂8～10份、锌白5～7份、高铝粘土4～5份、方解石9～12份、滑石6～8份、锂瓷石4～6份、堇青石8～12份、锆英砂7～9份、莫来石粉4～6份、硅灰石9～12份、碳化硼3～4份、五氧化二铌4～6份、氧化锌3～5份、熔块15～19份。
优选的，所述耐磨高硬度陶瓷釉料包括以下按照重量份计的原料：钠长石25份、钾长石13份、高岭土7份、石英砂9份、锌白6份、高铝粘土4.5份、方解石11份、滑石7份、锂瓷石5份、堇青石10份、锆英砂8份、莫来石粉5份、硅灰石10份、碳化硼3.5份、五氧化二铌5份、氧化锌4份、熔块17份。
优选的，所述熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石26～35％、氧化锌3～7％、石英18～26％、碳酸钡6～9％、刚玉6～12％、其余为方解石。
优选的，所述熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石28～32％、氧化锌4～6％、石英20～24％、碳酸钡7～8％、刚玉8～10％、其余为方解石。
优选的，所述熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石30％、氧化锌5％、石英22％、碳酸钡7.5％、刚玉9％、其余为方解石。
本发明的另一目的在于提供一种如权利要求1-6任一项所述的耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325-380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
优选的，耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法还包括：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1080-1230℃，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
优选的，所述步骤二中颗粒原料和水的比例为1：0.6-0.7，球磨时间为18-22h。
优选的，所述步骤四中入窑烧制的保温时间为5-7min，烧成总用时为55-65min。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明提供的釉料制成的全抛釉砖的维氏硬度和耐磨性均具有提高，满足了更高硬度和耐磨性的全抛釉釉面砖的市场需求；
2、釉面在烧制时不会产生大量的气泡，产品抛后防污能力强，其光泽度也较高；
3、全抛釉釉面砖的釉层膨胀系数接近于瓷砖坯体，釉层受到的内应力较小，抛光时不会产生漏抛或局部露底现象，保证产品质量；
4、本发明提供的耐磨高硬度陶瓷釉料在烧制时的烧成温度范围为1080-1230℃，因此全抛釉釉面砖的烧制温度范围较大，其生产工艺也容易控制，从而保证了产品质量的稳定性。
具体实施方式
下面结合具体实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石20份、钾长石10份、高岭土4份、石英砂6份、锌白4份、高铝粘土3份、方解石7份、滑石5份、锂瓷石3份、堇青石6份、锆英砂5份、莫来石粉3份、硅灰石7份、碳化硼2份、五氧化二铌3份、氧化锌2份、熔块12份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石26％、氧化锌3％、石英18％、碳酸钡6％、刚玉6％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.6，球磨时间为18h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1080℃，入窑烧制的保温时间为5min，烧成总用时为55min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例2：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石30份、钾长石16份、高岭土9份、石英砂12份、锌白8份、高铝粘土6份、方解石13份、滑石9份、锂瓷石7份、堇青石14份、锆英砂11份、莫来石粉8份、硅灰石14份、碳化硼5份、五氧化二铌7份、氧化锌6份、熔块22份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石35％、氧化锌7％、石英26％、碳酸钡9％、刚玉12％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.7，球磨时间为22h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1230℃，入窑烧制的保温时间为7min，烧成总用时为65min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例3：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石23份、钾长石12份、高岭土5份、石英砂8份、锌白5份、高铝粘土4份、方解石9份、滑石6份、锂瓷石4份、堇青石8份、锆英砂7份、莫来石粉4份、硅灰石9份、碳化硼3份、五氧化二铌4份、氧化锌3份、熔块15份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石28％、氧化锌4％、石英20％、碳酸钡7％、刚玉8％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.65，球磨时间为19h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1090℃，入窑烧制的保温时间为6min，烧成总用时为56min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例4：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石27份、钾长石14份、高岭土8份、石英砂10份、锌白7份、高铝粘土5份、方解石2份、滑石8份、锂瓷石6份、堇青石12份、锆英砂9份、莫来石粉6份、硅灰石12份、碳化硼4份、五氧化二铌6份、氧化锌5份、熔块19份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石32％、氧化锌6％、石英24％、碳酸钡8％、刚玉10％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.62，球磨时间为20h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1100℃，入窑烧制的保温时间为5.5min，烧成总用时为57min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例5：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石25份、钾长石13份、高岭土7份、石英砂9份、锌白6份、高铝粘土4.5份、方解石11份、滑石7份、锂瓷石5份、堇青石10份、锆英砂8份、莫来石粉5份、硅灰石10份、碳化硼3.5份、五氧化二铌5份、氧化锌4份、熔块17份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石30％、氧化锌5％、石英22％、碳酸钡7.5％、刚玉9％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.65，球磨时间为20h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1150℃，入窑烧制的保温时间为7min，烧成总用时为58min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例6：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石30份、钾长石10份、高岭土4份、石英砂6份、锌白4份、高铝粘土3份、方解石7份、滑石5份、锂瓷石3份、堇青石6份、锆英砂5份、莫来石粉3份、硅灰石7份、碳化硼2份、五氧化二铌3份、氧化锌2份、熔块12份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石35％、氧化锌3％、石英18％、碳酸钡6％、刚玉6％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.66，球磨时间为20h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1170℃，入窑烧制的保温时间为6.5min，烧成总用时为58min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例7：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石20份、钾长石16份、高岭土9份、石英砂12份、锌白8份、高铝粘土6份、方解石13份、滑石9份、锂瓷石7份、堇青石14份、锆英砂11份、莫来石粉8份、硅灰石14份、碳化硼5份、五氧化二铌7份、氧化锌6份、熔块22份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石26％、氧化锌7％、石英26％、碳酸钡9％、刚玉12％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.68，球磨时间为21h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1200℃，入窑烧制的保温时间为5.5min，烧成总用时为60min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例8：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石23份、钾长石10份、高岭土4份、石英砂6份、锌白4份、高铝粘土3份、方解石7份、滑石5份、锂瓷石3份、堇青石6份、锆英砂5份、莫来石粉3份、硅灰石7份、碳化硼2份、五氧化二铌3份、氧化锌2份、熔块12份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石28％、氧化锌3％、石英18％、碳酸钡6％、刚玉6％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325-380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.7，球磨时间为21h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1210℃，入窑烧制的保温时间为5.8min，烧成总用时为62min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例9：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石27份、钾长石16份、高岭土9份、石英砂12份、锌白8份、高铝粘土6份、方解石13份、滑石9份、锂瓷石7份、堇青石14份、锆英砂11份、莫来石粉8份、硅灰石14份、碳化硼5份、五氧化二铌7份、氧化锌6份、熔块22份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石32％、氧化锌7％、石英26％、碳酸钡9％、刚玉12％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325-380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.68，球磨时间为22h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1220℃，入窑烧制的保温时间为6min，烧成总用时为58min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例10：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石20份、钾长石13份、高岭土7份、石英砂9份、锌白6份、高铝粘土4.5份、方解石11份、滑石7份、锂瓷石5份、堇青石10份、锆英砂8份、莫来石粉5份、硅灰石10份、碳化硼3.5份、五氧化二铌5份、氧化锌4份、熔块17份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石26％、氧化锌5％、石英22％、碳酸钡7.5％、刚玉9％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.62，球磨时间为19h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1140℃，入窑烧制的保温时间为6min，烧成总用时为59min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
实施例11：
一种耐磨高硬度陶瓷釉料，包括以下按照重量份计的原料：钠长石30份、钾长石13份、高岭土7份、石英砂9份、锌白6份、高铝粘土4.5份、方解石11份、滑石7份、锂瓷石5份、堇青石10份、锆英砂8份、莫来石粉5份、硅灰石10份、碳化硼3.5份、五氧化二铌5份、氧化锌4份、熔块17份，其中熔块包括以下按照质量百分比的原料：钾长石35％、氧化锌5％、石英22％、碳酸钡7.5％、刚玉9％、其余为方解石。
耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，称取配方量的上述原料，然后将原料粉碎后过325-380目的标准筛，得到符合要求的颗粒原料；
步骤二，将步骤一中的颗粒原料和水投入到球磨机内进行球磨，颗粒原料和水的比例为1：0.65，球磨时间为20h，制得耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆。
使用该釉料制成的全抛釉瓷砖的制备方法，在耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法的基础上，还包括以下步骤：
步骤三，砖坯料依次进行球磨、过筛、除铁、造粒、压制成型，经干燥、喷水施底釉、印花或喷墨加彩后，用步骤二中的耐磨高硬度陶瓷釉料釉浆直线淋釉；
步骤四，直线淋釉后的砖坯料在还原气氛下入窑烧制，烧成温度为1180℃，入窑烧制的保温时间为6min，烧成总用时为59min，抛釉后制得全抛釉瓷砖。
通过上述实施例可知，本发明提供的耐磨高硬度陶瓷釉料在烧制时的烧成温度范围为1080-1230℃，因此全抛釉釉面砖的烧制温度范围较大，其生产工艺也容易控制，从而保证了产品质量的稳定性。
为了能够更好的说明本发明提供的耐磨高硬度陶瓷釉料制成的全抛釉瓷砖的性能，试验过程如下：
采用本发明提供的实施例1-11的耐磨高硬度陶瓷釉料的制备方法制成200mm×200mm的全抛釉砖，并将其编号为全抛釉砖1-11，采用授权公告号为CN106966598B公开的一种低温高硬度高耐磨全抛釉及其制备方法中的实施例六作为对照例1，采用授权公告号为CN105272375B公开的一种耐磨高硬度的金刚釉、制备方法和应用中的实施例1作为对照例2，采用授权公告号为CN105036558B公开的微纳复合釉料中的实施例5作为对照例3，采用授权公告号为CN105967523B公开的一种釉用熔块及其制造方法中的实施例3作为对照例4，采用授权公告号为CN106542735B公开的一种耐磨全生料超平厚抛釉及其应用中的实施例3作为对照例5，采用授权公告号为CN104803604B公开的一种耐磨高硬度陶瓷配方及其生产工艺中的实施例2作为对照例6；选用正四棱椎体、夹角136°的金刚石作为压头，荷重50g，荷重时间30s，对编号全抛釉砖1-11以及对照例1-6的全抛釉砖进行维氏硬度(HV)测试；按照《GB/T3810.7-2016》的要求对编号全抛釉砖1-11以及对照例1-6的全抛釉砖进行耐磨性测定；按照《GB/T3810.14-2016》的要求对编号全抛釉砖1-11以及对照例1-6的全抛釉砖进行耐污染性测定；按照《GB/T13891.14-2008》的要求对编号全抛釉砖1-11以及对照例1-6的全抛釉砖进行光泽度测定；按照《GB/T3810.2-2016》的要求对编号全抛釉砖1-11以及对照例1-6的全抛釉砖进行表面质量的检验，具体结果如下表所示：
通过上表可知，本发明提供的釉料制成的全抛釉砖的维氏硬度和耐磨性均具有提高，满足了更高硬度和耐磨性的全抛釉釉面砖的市场需求，而且釉面在烧制时不会产生大量的气泡，产品抛后防污能力强，其光泽度也较高；全抛釉釉面砖的釉层膨胀系数接近于瓷砖坯体，釉层受到的内应力较小，抛光时不会产生漏抛或局部露底现象，保证产品质量。