阅读说明：本技术 一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺 (Preparation process of non-cracking glaze-surface over-glaze decoration craft porcelain ) 是由 苏昆仑 于 2019-09-29 设计创作，主要内容包括：一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺,釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料,釉料包括以下原料：石英岩、夕线石、海泡石、白云石、硼砂、石粉、低温熔块、氧化锆、氧化锌、氧化钇,釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小,通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数,使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数,石粉可以提高釉料的细腻度,增加釉面的美观,同时釉料中还包括有低温熔块,低温熔块通过煅烧制成,可有效降低釉料的烧成温度,低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小,可进一步降低釉料的热膨胀系数,使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数,保证釉料烧制时,不会龟裂,保证工艺瓷的釉面的美观。(A preparation technology of an over-glaze decoration craft porcelain with a non-cracking glaze surface comprises a blank body and a glaze material, wherein the glaze material comprises the following raw materials: the glaze comprises quartz rock, sillimanite, sepiolite, dolomite, borax, mountain flour, low-temperature frits, zirconium oxide, zinc oxide and yttrium oxide, wherein the sepiolite and the sillimanite in the glaze have small thermal expansion coefficients, the thermal expansion coefficient of the glaze can be reduced through the matching of the sepiolite and the sillimanite, the thermal expansion coefficient of the glaze is smaller than that of a blank body, the mountain flour can improve the fineness of the glaze and increase the attractiveness of the glaze, meanwhile, the glaze also comprises the low-temperature frits, the low-temperature frits are prepared through calcination, the firing temperature of the glaze can be effectively reduced, the thermal expansion coefficient of wollastonite in the low-temperature frits is small, the thermal expansion coefficient of the glaze can be further reduced, the thermal expansion coefficient of the glaze is smaller than that of the blank body, cracking is avoided when the.)

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺

技术领域

本发明属于工艺瓷制备领域，具体涉及一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。

背景技术

陶瓷行业是能耗大户，在能源消耗中占了很大的比例，降低陶瓷生产能耗是陶瓷行业一项长期而重要的任务，在所有的能耗方式中，降低坯体的烧成温度，实现低温快烧是解决能耗过大的根本性办法，其优越性已在陶瓷界形成共识。

釉上彩是陶瓷的主要装饰技法之一，它是用各种彩料在已经烧成的瓷器釉面上绘制各种纹饰，然后二次入窑，通常包括彩绘瓷、彩饰瓷、青花加彩瓷、五彩瓷、粉彩瓷、色地描金瓷及珐琅彩等。釉上彩用釉料不仅要求附着力强，能有效附着于瓷器釉面上，而且要求具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和耐候性，图案呈现效果好，目前釉上彩在二次烧制过程中，容易开裂，严重影响外观质量，有待进一步改进。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的缺点，提供一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。

本发明采用如下技术方案：

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，所述釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，

坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份；

釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份；

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。

进一步的，所述低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。

进一步的，所述步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上。

进一步的，所述步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1。

进一步的，所述步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2。

进一步的，所述步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型。

进一步的，所述步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。

进一步的，所述釉料的厚度为0.3-0.5mm。

由上述对本发明的描述可知，与现有技术相比，本发明的有益效果是：釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.3-0.5mm。

坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份。

釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份。

低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。

具体的，步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上。

步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1。

步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2。

步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型。

步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。

实施例1

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.3mm。

坯体包括以下重量份的原料：钾长石22份、埃洛石22份、德化石英35份、硅藻土15份、白云石10份、蛭石5份、赤铁矿5份、氮化硼4份、氧化镧3份、硅酸锆1份、氧化钇0.8份。

釉料包括以下重量份的原料：石英岩30份、夕线石22份、海泡石12份、白云石15份、硼砂5份、石粉5份、低温熔块10份、氧化锆1份、氧化锌8份、氧化钇1份。

低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20份、硅灰石15份、菱铁矿5份、硼酸5份、氧化镁4份、碳酸钙3份、氧化钛1份、氧化钴0.8份。

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在1020℃下素烧7h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1160℃。

具体的，步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至310℃，烧窑时间50min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至955℃，烧窑时间3.5小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1160℃，烧窑时间3.8小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1160℃，烧窑时间1.8小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至60℃，冷却时间延长至8小时以上。

步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2:0.8。

步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8:1.2。

步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型。

步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉。

实施例2

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.5mm。

坯体包括以下重量份的原料：钾长石25份、埃洛石18份、德化石英40份、硅藻土10份、白云石15份、蛭石8份、赤铁矿3份、氮化硼8份、氧化镧1份、硅酸锆2份、氧化钇0.5份。

釉料包括以下重量份的原料：石英岩40份、夕线石18份、海泡石15份、白云石10份、硼砂8份、石粉3份、低温熔块12份、氧化锆3份、氧化锌4份、氧化钇2份。

低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石25份、硅灰石10份、菱铁矿8份、硼酸3份、氧化镁8份、碳酸钙1份、氧化钛2份、氧化钴0.5份。

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1180℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在980℃下素烧9h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130℃。

具体的，步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至290℃，烧窑时间70min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至945℃，烧窑时间4.5小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1130℃，烧窑时间4.2小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1130℃，烧窑时间2.2小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至30℃，冷却时间延长至8小时以上。

步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.5:1。

步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:2:1。

步骤四中坯体的成型方法为碾压成型。

步骤六中，釉浆的施釉方式为浸釉。

实施例3

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.4mm。

坯体包括以下重量份的原料：钾长石24份、埃洛石20份、德化石英37份、硅藻土12份、白云石12份、蛭石6份、赤铁矿4份、氮化硼6份、氧化镧2份、硅酸锆1.5份、氧化钇0.6份。

釉料包括以下重量份的原料：石英岩35份、夕线石20份、海泡石13份、白云石12份、硼砂6份、石粉4份、低温熔块11份、氧化锆2份、氧化锌6份、氧化钇1.5份。

低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石22份、硅灰石13份、菱铁矿7份、硼酸4份、氧化镁6份、碳酸钙2份、氧化钛1.5份、氧化钴0.6份。

其制备工艺包括如下步骤：

步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；

步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1165℃下熔炼成低温熔块，

步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；

步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；

步骤五，将坯体送入窑炉中，在1000℃下素烧8h，获得素坯；

步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；

步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1145℃。

具体的，步骤七中烧成控制如下：

低温阶段：窑炉内由常温升至300℃，烧窑时间60min；

分解氧化阶段：窑炉内升温至950℃，烧窑时间4小时；

高温强还原阶段：窑炉内升温至1145℃，烧窑时间4小时；

高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145℃，烧窑时间2小时；

自然冷却阶段：窑炉内冷却至45℃，冷却时间延长至8小时以上。

步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨19h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.3:0.9。

步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨27h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.9:1.1。

步骤四中坯体的成型方法为注浆成型。

步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉。

釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，故不能以此限定本发明实施的范围，即依本发明申请专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。