阅读说明：本技术 基板处理装置 (Substrate processing apparatus ) 是由 朴庸硕 于 2019-05-28 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种基板处理装置,其照射紫外线使基板干燥,并且,能够进行使基板的表面具有亲水性的处理。本发明提供的基板处理装置包括：灯组件,包括紫外线灯和反射罩,上述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板,上述反射罩配置在上述紫外线灯的上侧,将从上述紫外线灯照射的紫外线反射向基板；气体供应排出装置,设置在上述基板的上侧,用于向上述基板的上面供应气体并排出沿着上述基板的上表面移动的流体；以及壳体,具有容纳空间,上述容纳空间容纳通过上述紫外线灯加热的气体。(The present invention relates to a substrate processing apparatus that can perform a process of drying a substrate by irradiating ultraviolet rays and imparting hydrophilicity to the surface of the substrate. The substrate processing apparatus provided by the invention comprises: a lamp assembly including an ultraviolet lamp for irradiating ultraviolet rays to the substrate transferred by the transfer device, and a reflection cover disposed above the ultraviolet lamp for reflecting the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet lamp toward the substrate; a gas supply and discharge device provided above the substrate, for supplying a gas to an upper surface of the substrate and discharging a fluid moving along the upper surface of the substrate; and a housing having an accommodating space accommodating the gas heated by the ultraviolet lamp.)

基板处理装置

技术领域

本发明涉及基板处理装置，更具体地涉及照射紫外线使基板干燥，并且，能够进行使基板的表面具有亲水性的处理的基板处理装置。

背景技术

通常，大面积基板的基板干燥装置具有气刀和排气结构，上述气刀分别设置在传送的基板的上面和下面，喷射干燥空气，上述排气结构将因该干燥空气的喷射而产生的雾排出到外部。

以往的排气结构是使用设置在干燥室的下部的排气扇来一并排气的结构。

以往的基板干燥装置构成为包括：干燥室；上部气刀和下部气刀，设置在干燥室的内部，分别位于传送的基板的上部和下部侧，将干燥空气喷射到基板；以及排气部，设置在干燥室的下部。

这种以往的基板干燥装置在传送基板的状态下，从上部气刀和下部气刀喷射干燥空气。当喷射这种高压的干燥空气时，将基板的表面的清洗水或清洗药液移动到基板的传送方向的相反侧，使基板干燥。

在这种情况下，通过高压的干燥空气的喷射液体颗粒与气流一起从基板分离，以雾状存在于槽的内部，这种雾通过设置在干燥室的下部的排气部排出到外部。

然而，通过设置在干燥室下部的排气部难以完全除去雾，并且，有可能发生雾再附着在基板的情况。

即，有可能发生如下情况：在槽的内部形成由于高压的干燥空气的喷射而引起的涡流，在涡流的作用下雾再附着到已通过上部气刀和下部气刀的基板。

因此，存在当雾再附着到基板时，水渍留在基板的问题，而且水渍作用为缺陷而可能导致工艺不良。

另外，利用气刀的干燥工艺之后，为了接下来所进行的PI涂层固定，对基板的表面进行改质的表面处理工艺中使用紫外线照射装置。

但是，由于基板在残留有雾的状态下通过紫外线照射装置进行表面处理工艺，因而存在基板的表面处理成品率降低的问题。

因此，需要开发出在干燥工艺后除去残留在基板上的雾的同时能够对基板的表面进行处理的基板处理装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献：韩国授权实用新型公报第20-0452959号(2011.04.04授权公告，发明名称：大面积基板的干燥装置)

发明内容

发明要解决的问题

本发明要解决的问题是提供一种基板处理装置，其通过在基板的上侧配置供气室和排气室并在供气室的内部具备紫外线灯的单个装置，在除去残留在基板上的雾的同时能够对基板的表面进行使其具有亲水性的处理。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明提供一基板处理装置，其包括：灯组件，包括紫外线灯和反射罩，上述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，上述反射罩配置在上述紫外线灯的上侧，将从上述紫外线灯照射的紫外线向基板反射；气体供应排出装置，设置在上述基板的上侧，用于向上述基板的上表面供应气体并排出沿所着述基板的上表面移动的流体；以及壳体，具有容纳空间，上述容纳空间容纳通过上述紫外线灯加热的气体，上述气体供应排出装置包括：供气室，设置在上述基板的上侧并在内部形成供气空间，上述灯组件配置在上述供气空间上，具有从外部向上述供气空间供应气体的供气口；以及排气室，沿着上述基板的传送方向设置在上述供气室的一侧，在内部形成有排气空间，具有排出存在于上述排气空间上的流体的排气口。

根据本发明的基板处理装置，上述供气室的一侧壁具有用于上述基板在上述供气室的下侧以及上述排气室的下侧移动时连通上述供气空间的一侧和上述排气空间的一侧的连通部。

根据本发明的基板处理装置中，上述气体供应排出装置还可以包括：供气扇，设置在上述供气口，以从外部将气体供应到上述供气空间；排气扇，设置在上述排气口，以将上述排气空间上的流体排出到外部；以及支撑框架，分别设置在上述传送装置的两侧，以在上述传送装置上支撑上述供气室。

根据本发明的基板处理装置，还可以包括流动引导部件，配置在上述连通部上，以使通过上述紫外线灯加热的气体能够沿着上述基板的上面移动。

根据本发明的基板处理装置中，上述流动引导部件可包括：流动引导部件固定部，固定在上述供气室的一侧壁；以及流体引导部，形成为从上述流动引导部件固定部的一端朝向引入基板的方向倾斜，引导上述供气空间上的流体，使其沿着上述基板的上表面进行移动。

根据本发明的基板处理装置中，上述反射罩还可以包括狭缝部，形成在上述反射罩的上部，以使供应到上述供气空间的气体移动到上述紫外线灯侧。

根据本发明的基板处理装置，还包括高度调节装置，配置在上述供气空间上，以调节上述紫外线灯的高度，上述高度调节装置可包括：设置板，上述紫外线灯设置在上述设置板的下方，上述反射罩设置在上述设置板的上方；以及滚珠螺杆，一端露出在上述供气室的外侧，另一端结合到上述设置板，向上下方向移动上述设置板。

根据本发明的基板处理装置，还可包括引导装置，用于引导通过上述高度调节装置移动的上述设置板的移动，上述引导装置可包括：第一引导部件和第二引导部件，各自的一端连接到上述供气室的上部，另一端连接到上述支撑框架，以引导上述设置板的移动；第一套管，在与上述设置板的一侧结合的状态下可移动地结合到上述第一引导部件；以及第二套管，在与上述设置板的另一侧结合的状态下可移动地结合到上述第二引导部件。

根据本发明的基板处理装置，在上述壳体中，上述容纳空间与上述供气空间、上述排气空间连通，在上述容纳空间的上部配置有上述传送装置的一部分，在两侧具有引入上述基板的引入口和排出上述基板的排出口，沿着上述基板的宽度方向配置有多个上述供气口和上述排气口。

根据本发明的基板处理装置，还可以包括固定部件，用于将上述壳体的上端固定到上述支撑框架的下部。

附图说明

图1是示意性地示出根据本发明实施例的基板处理装置的结构的侧视图。

图2是示出根据本发明实施例的基板处理装置的灯组件和气体供应排出装置的一部分的立体图。

图3是示意性地示出根据本发明实施例的灯组件和气体供应排出装置的结构的剖视图。

图4是示出根据本发明实施例的反射罩的结构的立体图。

图5是示出根据本发明实施例的流动引导部件的另一例的图。

具体实施方式

在下文中，将参照本发明的优选实施例的附图进行说明，上述优选实施例可以具体解决上述问题。在说明本实施例时，对相同的结构使用相同的名称和相同的符号，并在下文中省略对此的附加说明。

图1是示意性地示出根据本发明的基板处理装置的结构的侧视图，图2是示出根据本发明的基板处理装置的灯组件和气体供应排出装置的一部分的立体图。其中，图1所示的箭头表示供应并排出用于基板处理的气体的流动。

另外，图3是示意性地示出根据本发明的灯组件和气体供应排出装置的结构的剖视图，图4是示出根据本发明的反射罩的结构的立体图，图5是示出根据本发明的流动引导部件的另一例的图。

如图1至图5所示，根据本发明的基板处理装置包括传送装置100、灯组件200、气体供应排出装置300、以及壳体800。

如图1所示，传送装置100可包括沿着基板S的传送方向配置的多个传送轴110。

传送轴110向与传送基板S的方向垂直的方向延伸，能够以相同的间隔配置成相互平行。

传送轴110可具备多个传送辊120，该多个传送辊120围绕传送轴110并与基板S的下面一部分直接接触，从而传送基板S。

即，通过传送轴110的旋转，传送辊120也旋转，通过传送辊120的旋转来实现与传送辊120接触的基板S的传送。

传送轴110从与传送轴110连接的驱动部130得到旋转力。

如图2和图3所示，灯组件200可包括配置在后述的供气室310的供气空间311中的紫外线灯210和反射罩220。

紫外线灯210向通过传送装置100传送的基板S照射紫外线，以除去基板S上存在的雾，并且，利用从紫外线产生的臭氧，能够进行使基板S的表面具有亲水性的表面处理。

在这种情况下，因臭氧而生成的-OH基团附着在基板S的表面，能够使基板S表面具有亲水性。

即，当处理基板S的表面使其具有亲水性时，在后续工艺的PI涂层工艺中相对于基板S表面的药液的润湿性提高，从而能够提高工艺的成品率。

反射罩220配置在紫外线灯210的上侧，能够将从紫外线灯210照射的紫外线反射到基板S。

另外，反射罩220可具有狭缝部221，使得通过后述的供气室310供应的气体能够移动到紫外线灯210侧。

在这种情况下，通过狭缝部221移动到紫外线灯210侧的气体还起防止紫外线灯210过热的作用。

如图4所示，在本实施例中公开了在反射罩220的上部沿着反射罩220的长度方向形成有长孔形态的多个狭缝部221的情况，但是，也可以沿着反射罩220宽度方向形成多个狭缝部221。

气体供应排出装置300设置在基板S的上侧，能够将气体供应到基板S的上表面，从而排出沿着基板S的上面移动的流体。这种气体供应排出装置300可包括供气室310、排气室320、以及支撑框架330。

供气室310在内部形成供气空间311。而且，如上所述，灯组件200可以配置在供气应间311。

在这种情况下，优选的是，供气室310的下部形成为开放的结构，使得从紫外线灯210照射的紫外线能够向基板S的表面照射。

由于供气室310的下部形成为开放的结构，使得供气空间311能够与后述的壳体800的容纳空间810连通。

另外，供气室310的上部可具有从外部将气体供应到供气空间311的供气口312。在这种情况下，可沿基板S的宽度方向配置多个供气口312。

根据本发明的气体供应排出装置300还可以包括供气扇313。

供气扇313可以设置在供气口312上，通过供气扇313的操作，可以通过供气口312将气体从外部供应到供气空间311。

排气室320设置在供气室310的一侧，在内部可以形成排气空间321。

在这种情况下，排气室320的下部可以形成为开放的结构。而且，由于排气室320的下部形成为开放的结构，使得排气空间321和容纳空间810能够相互连通。

另外，排气室320的上部可具有用于将存在于排气空间321的流体排出到外部的排气口322。这种情况下，能够沿着基板S的宽度方向配置多个排气口322。

根据本发明的气体供应排出装置300还可以包括排气扇323。

排气扇323可以设置在排气口322上，可以通过排气扇323的操作将排气空间321的流体通过排气口322排出到外部。

另外，流体可包括供应到供气空间311的气体和从紫外线灯210产生的臭氧，流体还可以包括通过由紫外线灯210加热的气体来干燥基板S的同时从基板S除去的雾。

另外，供气室310的一侧壁上可具有连通部400。当基板S在供气室310的下侧和排气室320的下侧移动时，该连通部400用于连通供气空间311的一侧和排气空间321的一侧。

更具体地，当基板S在供气室310的下侧和排气室320的下侧移动时，基板S的上面与排气室320的下侧、以及供气室310的下侧之间只剩下微小的空间。在这种结构中，在供气空间311对基板S进行处理的流体难以为了排出而移动到排气空间321。

即，在供气室310的一侧面形成有连通部400以连通供气空间311的一侧和排气空间321的一侧，从而使在供气空间311上处理基板S的流体顺利地排出到排气空间321。

结果，由于供气室310和排气室320配置在基板S的上侧，并且，形成有连通供气空间311的一侧面和排气空间321的一侧面的连通部400，使得气体供应排出装置300的供排气结构能够对基板S的上表面实现上部供排气结构。

因此，在供气空间311的一侧面，流体通过连通部400移动到排气空间321，从而增加基板S的上表面和流体接触的面积，因而能够提高基板S的干燥性能和基板S的表面处理性能。

虽然没有详细地图示，支撑框架330分别设置在传送装置100的两侧，能够将供气室310支撑在传送装置100上方。

即，供气室310由支撑框架330支承，排气室320设置在供气室310的一侧。因此，供气室310和排气室320能够设置在传送的基板S的上方。

根据本发明的基板处理装置还可以包括流动引导部件500。

流动引导部件500配置在连通部400上，能够使通过紫外线灯210加热的气体沿着基板S的上表面进行移动。

流动引导部件500可包括流动引导部件固定部510和流体引导部520。

流动引导部件固定部510可通过其他的紧固部件(未图示)将流动引导部件500固定在供气室310的一侧壁上。

流体引导部520形成为从流动引导部件固定部510的一端朝向引入基板S的方向倾斜，从而能够引导供气空间311的流体，使其沿着基板S的上表面移动。

如图2所示，流体引导部520能够形成为圆弧形，从流动引导部件固定部510的一端倾斜的部位朝向引入基板S的方向。

另外，作为流体引导部520的其他示例，如图5所示，流体引导部520也可形成为垂直于传送的基板S，并且，其一侧面、即与供气空间311相对的部位形成为圆弧形。

即，流体引导部520通过附壁效应而使供气空间311上的流体沿着流体引导部520的表面移动，而且，沿着流体引导部520移动的流体广泛地扩散到基板S的上表面并沿着基板S的上表面移动，从而除去存在于基板S的雾。

另外，随着通过流体引导部520将流体引导至基板的上面，防止了气流使基板S翘起的现象，从而具有能够最大限度地防止基板S因气流而损伤的优点。

基板处理装置还可以包括高度调节装置600，以调节根据本发明的紫外线灯210的高度。

即，高度调节装置600能够调节紫外线灯210从基板S分离的高度。

高度调节装置600可包括设置板610和滚珠螺杆620。

紫外线灯210可以设置在设置板610的下方，反射罩220可以设置在设置板610的上方。

虽然没有详细地图示，滚珠螺杆620被设置为其一端露出在供气室310的外侧，另一端结合到设置板610，能够向上下方向移动设置板610。

即，通过操作滚珠螺杆620，设置板610相对于基板S向上下方向移动，从而能够调节紫外线灯210的高度。滚珠螺杆620可以分别设置在设置板610的两侧。

另外，根据本发明的基板处理装置还可以包括引导装置700，用于引导通过高度调节装置600而移动的设置板610的移动。

引导装置700可包括第一引导部件710、第二引导部件720、第一套管730、以及第二套管740。

第一引导部件710的一端连接到供气室310的上部，另一端连接到支撑框架330，从而引导设置板610的移动。

在从第一引导部件710隔开一定间隔的位置处，第二引导部件720的一端连接到供气室310的上部，另一端连接到支撑框架330，与第一引导部件710一起引导设置板610的移动。

第一套管730在与设置板610的一侧结合的状态下，能够可移动地结合到第一引导部件710。

第二套管740在与设置板610的另一侧结合的状态下，能够可移动地结合到第二引导部件720。

即，当设置板610通过高度调节装置600上下移动时，结合到设置板610的一侧的第一套管730受到第一引导部件710的引导而上下移动，结合到设置板610的另一侧的第二套管740受到第二引导部件720的引导而上下移动。

因此，在通过高度调节装置调节紫外线灯210的高度的过程中，通过引导装置700使设置板610稳定地移动。结果，紫外线灯210能够稳定地移动。

壳体800可以配置在传送的基板S的下方，具有容纳空间810，其容纳通过紫外线灯210加热的气体。

另外，壳体800的一侧可具有引入基板S的引入口801，壳体800的另一侧可具有排出完成基板S处理的基板S的排出口。

另外，壳体800的上部能够形成为开放的结构，使得能够和供气空间311的下部、以及排气空间321的下部连通。

即，以传送的基板S为基准，在供气室310和排气室320配置在基板S的上侧、壳体800配置在基板S的下侧的状态下，形成供气空间311、排气空间321、以及壳体800的容纳空间的结构，因而除了引入基板S的引入口801和排出基板S的排出口802之外，供气空间311、排气空间321、以及容纳空间800形成密闭的结构。

因此，能够保护工作人员免受紫外线照射引起的对人体有害的环境的影响。

另外，传送装置100的一部分能够配置在壳体800的容纳空间810的上部，使得基板S能够通过排气室320和供气室310并移动。

具体说明上述的形成于壳体800的容纳空间810的作用如下：在基板S通过引入口801之前，通过紫外线灯210加热的气体容纳在容纳空间810。

在这种情况下，当通过引入口801的同时对基板S进行处理时，基板S的上表面被通过紫外线灯210照射的紫外线和通过供气口312供应的气体进行处理，基板S的下表面被容纳在容纳空间810的加热的气体进行处理。

如上所述，通过干燥基板S的上下面，能够进一步提高基板干燥性能。

另外，支承框架330的下部还可以包括用于固定壳体800的上端的固定部件900。

固定部件900还可以包括支撑框架紧固部910和壳体紧固部920，支撑框架紧固部910在支撑框架330的下部通过其他的紧固部件(未图示)来紧固，壳体紧固部920形成为从支撑框架紧固部910折弯，并通过其他的紧固部件(未图示)紧固到壳体800的上端。

即，壳体800的上部能够通过固定部件900固定在支承框架330的下部。

如上所述，根据本发明的基板处理装置通过在基板的上侧配置供气室和排气室、在供气室的内部具备紫外线灯的一个装置，具有能够除去残留在基板上的雾并对表面进行使基板的表面具有亲水性的处理的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过在基板的下侧具备壳体，容纳通过紫外线灯加热的气体，利用所容纳的气体干燥基板的下表面，从而具有能够进一步提高基板干燥性能的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过具备高度调节装置，具有相对于基板能够选择性地调节紫外线灯的高度的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过具备引导装置，具有能够通过高度调节装置使紫外线灯稳定地移动的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过具备流动引导装置，能够使在供气空间中通过紫外线灯加热的气体沿着基板的上表面移动，从而具有进一步提高基板的干燥以及基板的表面处理性能的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过利用流动引导部件将流体引导至基板的上面，防止了基板因气流而翘起的现象，从而具有能够最大限度地防止基板因气流而受到损伤的效果。

另外，根据本发明的基板处理装置通过供气室、排气室、以及壳体形成为密闭的结构，具有能够保护工作人员免受紫外线照射引起的对人体有害的环境的效果。

如上所述，参照附图对本发明的优选实施例进行了说明，但是，所属领域的技术人员在不脱离上述的权利要求范围中所记载的本发明的构思和领域的范围内，能够对本发明进行各种修改或变更。