具体实施方式

以下，对本发明的内容进行说明。另外，虽然参考附图进行说明，但有时省略符号。

另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。

并且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或者任意一种，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或者任意一种。

进而，在本说明书中，关于组合物中的各成分的量，当在组合物中存在多个相当于各成分的物质时，只要无特别说明，则是指组合物中存在的相应的多个物质的总量。

在本说明书中，“工序”这一术语不仅是指独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要达成工序的所期望的目的，则也包含在本术语中。

在本说明书中的基团(原子团)的标记中，未标注经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团及具有取代基的基团。例如，“烷基”是指不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。

只要无特别说明，在本说明书中，“曝光”是指不仅包含使用光的曝光，还包含使用电子束、离子束等的粒子束的描绘。并且，作为用于曝光的光，通常可以举出汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等的活化光线(活性能量射线)。

并且，本说明书中的化学结构式有时也以省略了氢原子的简略结构式记载。

在本发明中，“质量％”和“重量％”的含义相同，“质量份”和“重量份”的含义相同。

并且，在本发明中，两个以上的优选方式的组合为更优选的方式。

并且，只要无特别说明，关于本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)为如下的分子量：通过使用TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOHCORPORATION制的商品名称)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，利用溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计进行检测，并将聚苯乙烯用作标准物质进行换算。

(感光性转印材料)

关于本发明所涉及的感光性转印材料，其依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及负型感光性层，上述热塑性树脂层含有：碱溶性树脂A；色素B，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化；及化合物C，通过光产生酸、碱或自由基。

本发明人等发现，在以往的负型感光性转印材料中，很难兼顾曝光部及非曝光部的视觉辨认性(基于曝光部和非曝光部的颜色的不同而容易视觉辨认，所谓的“印出性”)和所得到的图案的分辨率。

具体而言，例如，虽然详细的机理尚不明确，但本发明人等发现，为了提高曝光部和非曝光部的视觉辨认性，在负型感光性层中大量添加印出剂的情况下，会大量产生显影残渣，分辨率降低。

本发明人等进行深入研究的结果，发现通过设为上述结构的感光性转印材料，可以得到曝光部及非曝光部的视觉辨认性(印出性)、以及所得到的图案的分辨率优异的感光性转印材料。

详细的上述效果的表现机理尚不明确，但推测为如下：为依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及负型感光性层的层结构，且上述热塑性树脂层含有：碱溶性树脂A；色素B，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化；及化合物C，通过光产生酸、碱或自由基，由此通过曝光而显色性或脱色性优异、曝光部及非曝光部的视觉辨认性优异，同时能够抑制显影残渣，并且，通过具有热塑性树脂层，转印性(层压性)优异，能够抑制转印面中的气泡等的混入，所得到的图案的分辨率优异。

以下，对本发明所涉及的感光性转印材料进行详细说明。

＜热塑性树脂层＞

本发明所涉及的感光性转印材料依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及负型感光性层。

并且，上述热塑性树脂层含有：碱溶性树脂A；色素B，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化；及化合物C，通过光产生酸、碱或自由基。

〔碱溶性树脂A〕

热塑性树脂层含有碱溶性树脂A。

另外，在本发明中，“碱溶性”是指，在22℃下，碳酸钠的1质量％水溶液100g中的溶解度为0.1g以上。

并且，碱溶性树脂A优选为热塑性树脂。

作为碱溶性树脂A，可以举出丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚丙烯胺、聚亚烷基二醇等。

其中，作为碱溶性树脂A，从显影性及转印性的观点而言，更优选为丙烯酸树脂。

在此，丙烯酸树脂是指，具有选自包括源自(甲基)丙烯酸的结构单元(也称为“由(甲基)丙烯酸形成的结构单元”。其他也相同。)、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元及源自(甲基)丙烯酰胺的结构单元的组中的至少1种结构单元的树脂，上述结构单元的含量相对于树脂的总质量优选为50质量％以上。

其中，丙烯酸树脂中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计比例优选为30质量％～100质量％，更优选为50质量％～100质量％。

并且，从制作时的层间的成分混合抑制性的观点而言，碱溶性树脂A优选为与中间层中所包含的树脂不同的树脂。

并且，碱溶性树脂A优选包含具有酸基的聚合物。

作为酸基，可以举出羧基、磺基、磷酸基、膦酸基等，优选使用羧基。

关于具有酸基的聚合物，并无特别限制，从碱显影性的观点而言，优选为酸值60mgKOH/g以上的碱溶性树脂，更优选为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。

作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，并无特别限制，能够从公知的树脂中适当选择使用。

例如，可以优选举出作为日本特开2011-95716号公报的0025段中所记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂的碱溶性树脂、日本特开2010-237589号公报的0033段～0052段中所记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂、日本特开2016-224162号公报的0053段～0068段中所记载的粘合剂聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂等。

上述含有羧基的丙烯酸树脂中的具有羧基的单体的共聚比相对于丙烯酸树脂的总质量，优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，进一步优选为12质量％～30质量％。

并且，从显影性及转印性的观点而言，碱溶性树脂A优选为具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元的丙烯酸树脂。

碱溶性树脂A可以具有反应性基团。作为反应性基团，只要是能够进行加成聚合的基团即可，可以举出烯属不饱和基团；羟基、羧基等缩聚性基团；环氧基、(嵌段)异氰酸酯基等加聚反应性基团等。

关于碱溶性树脂A的酸值，只要是碱溶性，则并无特别限制，从碱显影性的观点而言，优选为60mgKOH/g～200mgKOH/g，更优选为60mgKOH/g～150mgKOH/g。

碱溶性树脂A的重均分子量优选为1,000以上，更优选为1万～10万，进一步优选为2万～5万。

热塑性树脂层可以单独含有1种碱溶性树脂A，也可以含有2种以上碱溶性树脂A。

从显影性及转印性的观点而言，碱溶性树脂A的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为10质量％以上且99质量％以下，更优选为20质量％以上且90质量％以下，进一步优选为40质量％以上且80质量％以下，尤其优选为50质量％以上且70质量％以下。

＜色素B＞

热塑性树脂层含有：色素B(也简称为“色素B”。)，显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化。

在本发明中，色素“通过酸、碱或自由基而极大吸收波长发生变化”可以是指，处于显色状态的色素通过酸、碱或自由基而脱色的方式、处于脱色状态的色素通过酸、碱或自由基而显色的方式、处于显色状态的色素变化成其他色相的显色状态的方式中的任一个方式。

具体而言，色素B可以是通过曝光从脱色状态变化而显色的化合物，也可以是通过曝光从显色状态变化而脱色的化合物。在这种情况下，可以是通过曝光而在热塑性树脂层内产生酸、碱或自由基并发挥作用，从而显色或脱色的状态发生变化的色素，也可以是通过酸、碱或自由基而热塑性树脂层内的状态(例如pH)发生变化，从而显色或脱色的状态发生变化的色素。并且，也可以是不通过曝光而酸、碱或自由基作为刺激被直接赋予，从而显色或脱色的状态发生变化的色素。

其中，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、及分辨率的观点而言，色素B优选为通过酸或自由基而最大吸收波长发生变化的色素，更优选为通过酸而最大吸收波长发生变化的色素，尤其优选色素B为通过酸而最大吸收波长发生变化的色素，且后述的化合物C为通过光产生酸的化合物。

并且，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，优选色素B为通过酸、碱或自由基而显色的色素。

作为本发明中的色素B的显色机理的例子，可以举出向热塑性树脂层添加光产酸剂、光产碱剂或光自由基产生剂，在曝光之后，通过从上述光产酸剂等产生的酸、碱或自由基，使酸反应性色素、碱反应性色素或自由基反应性色素(例如无色色素)显色的方式等。

色素B显色时的波长范围400nm～780nm中的极大吸收波长为450nm以上，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，优选为550nm以上，更优选为550nm以上且700nm以下，进一步优选为550nm以上且650nm以下。

并且，色素B可以仅具有一个、也可以具有两个以上显色时的波长范围400nm～780nm的极大吸收波长。当色素B具有2个以上显色时的波长范围400nm～780nm的极大吸收波长的情况下，2个以上的显色时的极大吸收波长中、吸光度最高的显色时的极大吸收波长为450nm以上即可。

极大吸收波长的测定方法如下：在大气气氛下，在25℃下，使用分光光度计：UV3100(Shimadzu corporation制造)，在400nm～780nm的范围内测定透射光谱，并测定光的强度成为极小的波长(极大吸收波长)。

作为通过曝光而显色或脱色的色素，例如，可以举出无色化合物。

并且，作为通过曝光而脱色的色素，例如，可以举出无色化合物、二芳基甲烷系色素、恶嗪系色素、呫吨系色素、亚氨基萘醌系色素、偶氮甲碱系色素、蒽醌系色素等。

其中，作为色素B，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，优选为无色化合物。

作为无色化合物，可以举出三芳基甲烷系(例如三苯基甲烷系)、螺吡喃系、荧烷(fluoran)系、二芳基甲烷系、若丹明内酰胺系、吲哚苯酞系、无色金胺(leuco auramine)系等。其中，优选为具有三芳基甲烷骨架的无色化合物(三芳基甲烷系色素)及具有荧烷骨架的无色化合物(荧烷系色素)，更优选为具有三苯基甲烷骨架的无色化合物(三苯基甲烷系色素)及具有荧烷骨架的无色化合物(荧烷系色素)。

并且，作为无色化合物，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，优选具有内酯环、亚磺内酯(sultine)环或磺内酯环。由于无色化合物具有内酯环、sultine环或磺内酯环，例如能够与从光产酸剂产生的酸进行反应，从而变化为闭环状态而脱色、或变化为开环状态而显色。优选内酯环、sultine环或磺内酯环开环的化合物，更优选具有内酯环、内酯环开环从而显色的无色化合物。

并且，作为色素B的具体例，可以举出亮绿、乙基紫、甲基绿、结晶紫、碱性品红、甲基紫2B、甲基氮萘红、玫瑰红、间胺黄、百里酚磺酞、二甲苯酚蓝、甲基橙、对甲基红、刚果红、苯并红紫4B、α-萘红、尼罗蓝2B、尼罗蓝A、甲基紫、孔雀石绿、副品红(parafuchsin)、维多利亚纯蓝-烷基萘磺酸盐、维多利亚纯蓝BOH(Hodogaya Chemical Co.,Ltd.制造)、油蓝#603(Orient Chemical Industries Co,.Ltd.制造)、油粉#312(Orient Chemical IndustriesCo,.Ltd.制造)、油红5B(Orient Chemical Industries Co,.Ltd.制造)、油鲜红#308(Orient Chemical Industries Co,.Ltd.制造)、油红OG(Orient Chemical IndustriesCo,.Ltd.制造)、油红RR(Orient Chemical Industries Co,.Ltd.制造)、油绿#502(OrientChemical Industries Co,.Ltd.制造)、Spilon Red BEH Special(Hodogaya ChemicalCo.,Ltd.制造)、间甲酚紫、甲酚红、若丹明B、若丹明6G、磺基若丹明B、碱性槐黄、4-对二乙氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基苯胺-4-对二乙氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基十八烷基氨基-4-p-N,N-双(羟乙基)氨基-苯基亚氨基萘醌、1-苯基-3-甲基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮、1-β-萘基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮等染料或p,p’,p”-六甲基三氨基三苯甲烷(无色结晶紫)、Pergascript Blue SRB(Ciba-Geigy公司制造)等无色化合物。

除了上述以外，还可以优选举出下述所示的无色化合物。具体而言，结晶紫内酯、孔雀石绿内酯、苯甲酰基无色亚甲蓝、2-(N-苯基-N-甲基氨基)-6-(N-对甲苯基-N-乙基)氨基荧烷、2-苯胺基-3-甲基-6-(N-乙基-对甲苯胺基)荧烷、3,6-二甲氧荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-5-甲基-7-(N,N-二苄氨基)荧烷、3-(N-环己基-N-甲基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲基-7-二甲代苯氨基(Xylidino)荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲基-7-氯荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-6-甲氧基-7-氨基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-(4-氯苯胺基)荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-氯荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7-苄基氨基荧烷、3-(N,N-二乙基氨基)-7,8-苯并荧烷、3-(N,N-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N,N-二丁基氨基)-6-甲基-7-二甲代苯氨基(Xylidino)荧烷、3-氢吡啶基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-吡咯烷基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3,3-双(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3,3-双(1-正丁基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3,3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基苯酞、3-(4-二乙基氨基-2-乙氧基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-苯酞、3-(4-二乙基氨基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3’,6’-双(二苯基氨基)螺环异苯并呋喃-1(3H),9’-[9H]呫呸-3-酮等。

色素B可以单独使用1种、也可以使用2种以上。

从曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，色素B的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.2质量％以上，更优选为0.2质量％～6质量％，进一步优选为0.2质量％～5质量％，尤其优选为0.25质量％～3.0质量％。

在此，色素B的含量是指，使热塑性树脂层中所包含的所有色素B处于显色状态时的色素的含量。以下，对色素B为通过酸或碱而最大吸收波长发生变化的色素时的定量方法进行说明。

将色素0.001g及0.01g溶于丙酮及水的混合溶液(丙酮/水＝2/1[质量比])100mL中，添加0.1mol/L(0.1N)的盐酸水溶液，调节成pH＝1，或添加0.01mol/L(0.01N)的氢氧化钠水溶液，调节成pH＝14，使所有的色素处于显色状态。之后，在大气的气氛下，在25℃下，使用分光光度计(UV3100、Shimadzu Corporation制造)，测定吸光度，制作校准曲线。

接着，将色素0.1g变更为热塑性树脂层0.1g，除此之外，以与上述相同的方法，调节成pH＝1、或调节成pH＝14，从而测定吸光度。然后，根据由色素的吸光度制作的校准曲线和热塑性树脂层的吸光度，计算热塑性树脂层中所包含的色素的量。

〔化合物C〕

热塑性树脂层含有：化合物C，通过光产生酸、碱或自由基(也简称为“化合物C”。)。

化合物C优选为接受紫外线、可见光线等活化光线，从而产生酸、碱或自由基的化合物。

作为化合物C，能够使用公知的、光产酸剂、光产碱剂及光自由基产生剂(光自由基聚合引发剂)。

-光产酸剂-

从分辨率的观点而言，热塑性树脂层优选包含光产酸剂。

作为本发明中所使用的光产酸剂，是能够通过照射紫外线、远紫外线、X射线、电子束等的活化光线而产生酸的化合物。

作为本发明中所使用的光产酸剂，优选感应波长300nm以上，优选波长300nm～450nm的活化光线，并产生酸的化合物，但其化学结构没有限制。并且，对于不直接感应波长300nm以上的活化光线的光产酸剂，只要是通过并用增敏剂而感应波长300nm以上的活化光线，并产生酸的化合物，则能够与增敏剂组合而优选使用。

作为本发明中所使用的光产酸剂，优选产生pKa为4以下的酸的光产酸剂，更优选产生pKa为3以下的酸的光产酸剂，尤其优选产生pKa为2以下的酸的光产酸剂。pKa的下限值，并无特别限定，例如，优选为-10.0以上。

作为光产酸剂，能够举出离子性光产酸剂及非离子性光产酸剂。

作为离子性光产酸剂的例，能够举出二芳基碘鎓盐类及三芳基锍盐类等的鎓盐化合物、季铵盐类等。这些之中，优选鎓盐化合物，尤其优选三芳基锍盐类及二芳基碘鎓盐类。

作为离子性光产酸剂，也能够优选使用日本特开2014-85643号公报的0114段～0133段中记载的离子性光产酸剂。

作为非离子性光产酸剂的例，能够举出三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物等。这些之中，从灵敏度、分辨率及密合性的观点而言，优选光产酸剂为肟磺酸酯化合物。作为三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物及酰亚胺磺酸酯化合物的具体例，能够例示日本特开2011-221494号公报的0083段～0088段中记载的化合物。

作为肟磺酸酯化合物，能够优选使用国际公开第2018/179640号的0084段～0088段中所记载的化合物。

作为光产酸剂，从灵敏度及分辨率的观点而言，优选包含选自包括鎓盐化合物及肟磺酸酯化合物的组中的至少一种化合物，更优选包含肟磺酸酯化合物。

并且，作为优选的光产酸剂，例如，可以举出以下结构的光产酸剂。

[化学式3]

-光自由基产生剂-

热塑性树脂层优选包含光自由基产生剂(光自由基聚合引发剂)。

作为光自由基产生剂，例如，能够举出二甲基氨基苯甲酸乙酯(DBE、CASNo.10287-53-3)、安息香甲醚、酰基(p,p’-二甲氧基苄基)、TAZ-110(商品名：MidoriKagaku Co.,Ltd.制造)、二苯甲酮、TAZ-111(商品名：Midori Kagaku Co.,Ltd.制造)、Irgacure OXE01、OXE02、OXE03(BASF公司制造)、OXE04(BASF公司制造)、Omnirad651及369(商品名：IGM Resins B.V.公司制造)、2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)等。

作为光自由基产生剂，并无特别限制，能够使用公知的光自由基聚合引发剂。

作为光自由基产生剂，可以举出具有肟酯结构的光聚合引发剂、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂、具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂等，优选包含选自包括具有肟酯结构的光聚合引发剂、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有α-羟烷基苯酮结构的聚合引发剂及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂的组中的至少1种。

作为光自由基产生剂，优选包含选自包括2,4,5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物的组中的至少1种。另外，2,4,5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物中的2个2,4,5-三芳基咪唑结构可以分别相同，也可以不同。

作为2,4,5-三芳基咪唑二聚体的衍生物，例如，可以优选举出2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚体、2-(邻氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、2-(对甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体。

作为光自由基产生剂，例如，可以使用日本特开2011-95716号公报的0031段～0042段、日本特开2015-14783号公报的0064段～0081段中所记载的聚合引发剂。

作为光自由基产生剂的市售品，可以优选举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮-2-(邻苯甲酰肟)(商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制造)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(邻乙酰肟)(商品名：IRGACURE OXE-02、BASF公司制造)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：Omnirad 379EG、IGM Resins B.V.制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(商品名：Omnirad 907、IGM Resins B.V.制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮(商品名：Omnirad 127、IGM Resins B.V.制造)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮-1(商品名：Omnirad 369、IGM Resins B.V.制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(商品名：Omnirad 1173、IGM Resins B.V.制造)、1-羟基环己基苯基酮(商品名：Omnirad 184、IGM Resins B.V.制造)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：Omnirad 651、IGM Resins B.V.制造)、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(商品名：Omnirad TPO H、IGM Resins B.V.制造)、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦(商品名：Omnirad 819、IGM Resins B.V.制造)、肟酯系的光聚合引发剂(商品名：Lunar6、DKSH Management Ltd.制造)、2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基双咪唑(2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体)(商品名：B-CIM、Hampford公司制造)、2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体(商品名：BCTB、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)等。

-光产碱剂-

热塑性树脂层能够包含光产碱剂。

作为光产碱剂的例子，能够举出2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯、三苯基甲醇、邻氨基甲酰羟基酰胺、邻氨基甲酰肟、[[(2,6-二硝基苄基)氧基]羰基环己胺、双[[(2-硝基苄基)氧基]羰基]己烷-1,6-二胺、4-(甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉代烷、(4-吗啉苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、N-(2-硝基苄基氧基羰基)吡咯烷、六氨基钴(III)三(三苯基甲基硼酸盐)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)-丁酮、2,6-二甲基-3,5-二乙酰基-4-(2-硝基苯基)-1,4-二氢吡啶、2,6-二甲基-3,5-二乙酰基-4-(2,4-二硝基苯基)-1,4-二氢吡啶等。

热塑性树脂层可以单独包含1种、也可以包含2种以上化合物C。

从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、及分辨率的观点而言，化合物C的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～5质量％。

〔增塑剂〕

从转印性、分辨率、对基材的密合性及显影性的观点而言，热塑性树脂层优选含有增塑剂。

上述增塑剂的分子量或重均分子量优选比碱溶性树脂A小。作为增塑剂的分子量，优选为200～2,000。

增塑剂只要是与碱溶性树脂A相溶而显现可塑性的化合物，则并无特别限制，从赋予可塑性的观点而言，增塑剂优选在分子中具有亚烷基氧基，更优选为聚亚烷基二醇化合物。增塑剂中所包含的亚烷基氧基更优选为聚乙烯氧基结构或聚丙烯氧基结构。

并且，从分辨率及保存稳定性的观点而言，上述增塑剂优选含有(甲基)丙烯酸酯化合物，从相溶性、分辨率及对基材的密合性的观点而言，更优选碱溶性树脂A为丙烯酸树脂，且上述增塑剂含有(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为用作上述增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，可以优选举出后述的负型感光性层中的聚合性化合物中所包含的(甲基)丙烯酸酯化合物。

并且，从保存稳定性的观点而言，优选在热塑性树脂层及负型感光性层这两层分别包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物。通过在热塑性树脂层及负型感光性层这两层分别包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物，层间的成分扩散得到抑制，保存稳定性提高。

当作为上述增塑剂含有(甲基)丙烯酸酯化合物的情况下，从转印性的观点而言，优选在曝光后的曝光部中，上述(甲基)丙烯酸酯化合物也不在热塑性树脂层中聚合。

并且，从分辨率、对基材的密合性及显影性的观点而言，用作上述增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物优选为多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。

进而，作为用作上述增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，能够优选使用具有酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等。

热塑性树脂层可以单独包含1种、也可以包含2种以上增塑剂。

从转印性、分辨率、对基材的密合性及显影性的观点而言，增塑剂的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选为1质量％～70质量％，更优选为10质量％～60质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。

〔表面活性剂〕

从厚度均匀性的观点而言，热塑性树脂层优选含有表面活性剂。

作为表面活性剂，可以举出阴离子性、阳离子性、Nonion性(非离子性)及两性表面活性剂。优选的表面活性剂为非离子性表面活性剂。

作为非离子性表面活性剂的例子，能够举出聚氧乙烯高级烷基醚类、聚氧乙烯高级烷基苯基醚类、聚氧乙二醇的高级脂肪酸二酯类、硅酮系表面活性剂、氟系表面活性剂。

作为表面活性剂，例如，能够使用国际公开第2018/179640号的0120段～0125段中记载的表面活性剂。

并且，作为表面活性剂的市售品，例如，能够使用MegafacF-552或F-554(以上，DICcorporation制造)。

另外，也能够使用日本专利第4502784号公报的0017段、日本特开2009-237362号公报的0060段～0071段中记载的表面活性剂。

热塑性树脂层可以单独包含1种、也可以包含2种以上表面活性剂。

表面活性剂的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～3质量％。

〔增敏剂〕

热塑性树脂层还能够包含增敏剂。

作为增敏剂，例如，可以举出公知的增敏剂等。

作为增敏剂，例如，可以举出二烷基氨基二苯甲酮化合物、吡唑啉化合物、蒽化合物、香豆素化合物、呫吨酮化合物、噻吨酮化合物、吖啶酮化合物、噁唑化合物、苯并噁唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、三唑化合物(例如，1,2,4-三唑)、芪化合物、三嗪化合物、噻吩化合物、萘二甲酰亚胺化合物、三芳基胺化合物及氨基吖啶化合物。

作为增敏剂，优选在显现增敏效果的波长具有光吸收。尤其通过选择在激光束的发光波长具有吸收的增敏剂，而能够基于激光束进行写入，由此更优选。在波长405nm具有吸收的增敏剂能够应对一般的半导体激光曝光，因此尤其优选。

作为在波长405nm具有吸收的增敏剂的种类，能够根据使增敏的自由基产生剂、光产碱剂、光产酸剂适当选择，但由于二乙基呫吨酮、二乙基氨基二苯甲酮、1,10-二丁氧基蒽等的增敏效果高，因此尤其优选。

热塑性树脂层可以单独包含1种、也可以包含2种以上增敏剂。

增敏剂的含量能够根据目的适当选择，但从相对于光源的灵敏度的提高、以及曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.01质量％～5质量％的范围，更优选为0.05质量％～1质量％的范围。

并且，在热塑性树脂层中可以含有除了上述以外的其他添加剂。作为其他添加剂，并无特别限制，能够使用公知的添加剂。

进而，关于热塑性树脂层的优选方式，能够参考日本特开2014-85643号公报的0189段～0193段。

关于热塑性树脂层的层厚，并无特别限制，从转印性、分辨率、以及曝光部及非曝光部的视觉辨认性的观点而言，优选为1μm～20μm，更优选为1μm～10μm，尤其优选为1μm～5μm。

关于本发明中的各层的层厚的测定方法，利用扫描型电子显微镜(SEM)观察并测定相对于转印材料的面方向垂直的方向的截面。并且，层厚测定10处以上的厚度，而设为其平均值。

＜＜热塑性树脂层的形成方法＞＞

本发明中的热塑性树脂层能够通过制备含有热塑性树脂层的形成中使用的成分和溶剂的热塑性树脂组合物，并进行涂布及干燥来形成。也能够将各成分分别制成预先溶解于溶剂的溶液之后，将所获得的溶液以规定的比例进行混合而制备组合物。关于如上所述制备的组合物，例如，也可以使用孔径0.2μm～30μm的过滤器等进行过滤。

通过将热塑性树脂组合物涂布于临时支承体上，并使其干燥，能够形成本发明中的热塑性树脂层。

涂布方法并无特别限定，能够以狭缝涂布、旋涂、幕涂、喷墨涂布等的公知的方法进行涂布。

并且，能够在后述的覆盖膜上形成负型感光性层及中间层等之后，形成热塑性树脂层。

-溶剂-

作为溶剂，能够使用公知的溶剂，例如，能够使用国际公开第2018/179640号的0092段～0094段中记载的溶剂。

并且，能够优选使用日本特开2018-177889公报的0014段中记载的20℃中的蒸气压为1kPa以上且16kPa以下的溶剂。

本发明中能够使用的溶剂可以单独使用一种、也可以并用两种。

涂布热塑性树脂组合物时的溶剂的含量相对于热塑性树脂组合物中的总固体成分100质量份，优选为50质量份～1,900质量份，更优选为100质量份～900质量份。

＜中间层＞

本发明所涉及的感光性转印材料在热塑性树脂层与负型感光性层之间具有中间层。通过具有中间层，能够抑制涂布多层时及涂布后的保存时的成分的混合。

并且，从显影性、以及抑制涂布多层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点而言，中间层优选为水溶性的层。

另外，在本发明中，“水溶性”是指，在22℃下，在pH7.0的水100g中的溶解度为0.1g以上。

进而，中间层优选为在日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”所记载的、具有阻氧功能的阻氧层，曝光时的灵敏度提高，降低曝光机的时间负荷，生产率提高。

作为阻氧层，优选为显示低的氧透过性，分散或溶解于水或碱水溶液(22℃的碳酸钠的1质量％水溶液)中的阻氧层，能够从公知的阻氧层中适当选择。

中间层优选含有树脂。作为上述树脂，例如，能够使用聚乙烯醇系树脂、聚乙烯吡咯烷酮系树脂、纤维素系树脂、丙烯酰胺系树脂、聚环氧乙烷系树脂、明胶、乙烯基醚系树脂、聚酰胺系树脂、及它们的共聚物等树脂而构成。

并且，上述树脂优选为水溶性树脂。

中间层可以单独含有1种、也可以含有2种以上上述树脂。

其中，从阻氧性、以及抑制涂布多层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点而言，中间层优选含有聚乙烯醇，尤其优选含有聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮。

关于中间层中的树脂的含量，并无特别限制，从阻氧性、以及抑制涂布多层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点而言，相对于中间层的总质量优选为50质量％～100质量％，更优选为70质量％～100质量％，进一步优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。

在中间层中，可以根据需要添加表面活性剂等添加剂。

中间层的层厚优选为0.1μm～5μm，更优选为0.5μm～3μm。若中间层的厚度在上述的范围内，则能够不降低阻氧性而抑制涂布多层时及涂布后的保存时的成分的混合，并且，能够防止显影时的中间层除去时间增加。

在中间层中能够添加酸性化合物作为添加剂。通过添加酸性化合物，树脂中含有的碱性化合物被中和，有时能够提高显色性。作为酸性化合物，选择公知的酸性化合物即可，其中，优选非挥发性的强酸。具体而言，能够举出硫酸、甲苯磺酸等。

酸性化合物的含量相对于中间层的总质量，优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～1质量％。

中间层能够通过涂布上述树脂及根据需要使用添加剂而制备的中间层组合物进行涂设。该组合物的制备中能够使用溶剂，作为上述溶剂，只要是上述树脂溶解的溶剂，则并无特别限制，尤其优选为水或在上述水中混合水混和性的有机溶剂的混合溶剂。

作为水混和性的有机溶剂，可以优选举出醇化合物，但更优选举出碳原子数1～6的醇化合物。

＜负型感光性层＞

本发明所涉及的感光性转印材料具有负型感光性层。

关于本发明中所使用的负型感光性层，并无特别限制，能够使用公知的负型感光性层。并且，从图案形成性的观点而言，本发明中所使用的负型感光性层优选含有具有酸基的聚合物、聚合性化合物及光聚合引发剂。

作为负型感光性层，例如，也可以使用日本特开2016-224162号公报中所记载的感光性树脂层。

〔聚合性化合物〕

负型感光性层优选含有聚合性化合物。

作为聚合性化合物，优选为烯属不饱和化合物。

烯属不饱和化合物是有助于负型感光性层的感光性(即，光固化性)及固化膜的强度的成分。

并且，烯属不饱和化合物是具有1个以上烯属不饱和基团的化合物。

负型感光性层作为烯属不饱和化合物，优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物。

在此，2官能以上的烯属不饱和化合物是指，在一分子中具有2个以上烯属不饱和基团的化合物。

作为烯属不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰基。

作为烯属不饱和化合物，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为2官能烯属不饱和化合物，并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择，具体而言，可以举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)等.

并且，作为2官能烯属不饱和化合物，可以优选使用具有双酚结构的2官能烯属不饱和化合物。

作为具有双酚结构的2官能烯属不饱和化合物，可以举出日本特开2016-224162号公报的0072段～0080段中所记载的化合物。

具体而言，可以举出亚环氧烷改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯等，可以优选举出在2,2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基丙氧基)苯基)丙烷、双酚A的两端分别加成平均各5摩尔的环氧乙烷而成的聚乙二醇的二甲基丙烯酸酯(BPE-500、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)等。

作为3官能以上的烯属不饱和化合物，并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择，例如，可以举出二新戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物等。

在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。

作为烯属不饱和化合物，可以举出己内酯改性(甲基)丙烯酸酯化合物(NipponKayaku Co.,Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-9300-1CL等)、亚环氧烷改性(甲基)丙烯酸酯化合物(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARADRP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制A-GLY-9E等)、ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、或ARONIX M-510(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)等。

作为烯属不饱和化合物，也能够使用氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物)，例如，可以举出8UX-015A(TAISEI FINECHEMICAL CO,.LTD.制造)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)等。

并且，作为烯属不饱和化合物，也可以使用日本特开2004-239942号公报的0025段～0030段中所记载的具有酸基的聚合性化合物。

作为本发明中所使用的聚合性化合物的重均分子量(Mw)，优选为200～3,000，更优选为280～2,200，进一步优选为300～2,200。

聚合性化合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

负型感光性层中的聚合性化合物的含量相对于负型感光性层的总质量，优选为10质量％～70质量％，更优选为20质量％～60质量％，进一步优选为20质量％～50质量％。

〔具有酸基的聚合物〕

负型感光性层优选含有具有酸基的聚合物。

负型感光性层中所包含的具有酸基的聚合物的优选方式与上述的碱溶性树脂A相同。

负型感光性层可以单独包含1种、也可以包含2种以上具有酸基的聚合物。

从感光性的观点而言，负型感光性层中的具有酸基的聚合物的含量相对于负型感光性层的总质量，优选为10质量％以上且90质量％以下，更优选为20质量％以上且80质量％以下，进一步优选为30质量％以上且70质量％以下。

〔光聚合引发剂〕

负型感光性层优选包含光聚合引发剂。

光聚合引发剂接受紫外线、可见光线等活化光线，开始聚合性化合物的聚合。

作为光聚合引发剂，并无特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，可以举出光自由基聚合引发剂及光阳离子聚合引发剂，优选为光自由基聚合引发剂。

并且，作为光自由基聚合引发剂，可以举出上述的光自由基产生剂，优选方式也相同。

进而，作为负型感光性层中的光聚合引发剂，从感光性、曝光部及非曝光部的视觉辨认性、以及分辨率的观点而言，优选包含选自包括2,4,5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物的组中的至少1种。

负型感光性层可以单独包含1种、也可以包含2种以上光聚合引发剂。

关于负型感光性层中的光聚合引发剂的含量，并无特别限制，相对于负型感光性层的总质量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。

并且，光聚合引发剂的含量相对于负型感光性层的总质量，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。

〔色素N〕

从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、显影后的图案视觉辨认性、以及分辨率的观点而言，负型感光性层优选含有显色时的波长范围400nm～780nm中的最大吸收波长为450nm以上，通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化的色素N(也简称为“色素N”。)。含有色素N时，详细的机理尚不明确，对基材的密合性提高，分辨率更优异。

关于色素N的优选方式，除了后述以外，与色素B的优选方式相同。

从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、显影后的图案视觉辨认性、以及分辨率的观点而言，色素N优选为通过自由基而最大吸收波长发生变化的色素，更优选为通过自由基而显色的色素。

作为色素N，例如，可以优选举出无色结晶紫、结晶紫内酯、维多利亚纯蓝-烷基萘磺酸盐等。

色素N可以单独使用1种，也可以使用2种以上。

从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、显影后的图案视觉辨认性、以及分辨率的观点而言，色素N的含量相对于负型感光性层的总质量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～5质量％，尤其优选为0.1质量％～1质量％。

并且，色素N的含量是指，使负型感光性层中所包含的所有色素N处于显色状态时的色素的含量。关于定量方法，与色素B相同。

〔其他添加剂〕

负型感光性层除了上述成分以外，还能够根据需要包含公知的添加剂。

作为其他添加剂，能够使用公知的添加剂，例如，可以举出聚合抑制剂、增塑剂、增敏剂、氢供体、杂环状化合物等。

作为增塑剂及杂环状化合物，可以举出国际公开第2018/179640号的0097段～0103段及0111段～0118段中所记载的增塑剂及杂环状化合物。

进而，本发明所涉及的感光性转印材料中的负型感光性层可以包含溶剂。在通过包含溶剂的感光性树脂组合物形成负型感光性层的情况下，也有时残留溶剂。

-聚合抑制剂-

负型感光性层可以包含聚合抑制剂。

作为聚合抑制剂，例如，能够使用日本专利第4502784号公报的0018段中所记载的热聚合抑制剂。

其中，能够优选使用吩噻嗪、吩噁嗪或4-甲氧基苯酚。

负型感光性层可以单独包含1种、也可以包含2种以上聚合抑制剂。

当负型感光性层含有聚合抑制剂的情况下，聚合抑制剂的含量相对于负型感光性层的总质量，优选为0.01质量％～3质量％，更优选为0.01质量％～1质量％，进一步优选为0.01质量％～0.8质量％。

-增敏剂-

负型感光性层还能够包含增敏剂。

作为负用增敏剂，例如，可以举出公知的增敏剂、染料或颜料等。

作为增敏剂，可以举出上述的增敏剂。

负型感光性层可以单独包含1种、也可以包含2种以上增敏剂。

增敏剂的含量能够根据目的适当选择，但从相对于光源的灵敏度的提高、基于聚合速度与链转移的平衡的固化速度的提高等的观点而言，相对于负型感光性层的总质量，优选为0.01质量％～5质量％，更优选为0.05质量％～1质量％。

并且，在本发明中的负型感光性层中，还能够添加金属氧化物粒子、抗氧化剂、分散剂、酸增殖剂、显影促进剂、导电性纤维、着色剂、热自由基聚合引发剂、热产酸剂、紫外线吸收剂、增稠剂、交联剂及有机或无机的抗沉淀剂等公知的添加剂。

针对其他成分的优选方式，在日本特开2014-85643号公报的0165段～0184段中分别有记载，该公报的内容并入本说明书中。

＜＜负型感光性层的层厚＞＞

作为负型感光性层的层厚，从曝光部及非曝光部的视觉辨认性、对基材的密合性、以及分辨率的观点而言，优选为小于8μm，更优选为小于6μm，进一步优选为0.8μm～5μm，尤其优选为2μm～4μm。

＜＜负型感光性层的形成方法＞＞

本发明中的负型感光性层能够通过制备含有负型感光性层的形成中使用的成分和溶剂的感光性组合物，并进行涂布及干燥来形成。也能够将各成分分别制成预先溶解于溶剂的溶液之后，将所获得的溶液以规定的比例进行混合而制备组合物。关于如上所述制备的组合物，例如，也可以使用孔径0.2μm～30μm的过滤器等进行过滤。

能够在临时支承体上形成热塑性树脂层及中间层等之后，形成负型感光性层。

涂布方法并无特别限定，能够以狭缝涂布、旋涂、幕涂、喷墨涂布等的公知的方法进行涂布。

并且，通过将感光性组合物涂布于覆盖膜上，并使其干燥，能够形成本发明中的负型感光性层。

＜临时支承体＞

本发明所涉及的感光性转印材料具有临时支承体。

临时支承体为至少支承热塑性树脂层，并能够剥离的支承体。

从当对负型感光性层进行图案曝光的情况下，能够经由临时支承体对负型感光性层进行曝光的观点而言，优选本发明中所使用的临时支承体具有透光性。

具有透光性是指，图案曝光中使用的光的主波长的透射率为50％以上，从提高曝光灵敏度的观点而言，图案曝光中使用的光的主波长的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。作为透射率的测定方法，可以举出使用OTSUKA ELECTRONICS CO.,LTD制MCPDSeries进行测定的方法。

作为临时支承体，可以举出玻璃基板、树脂膜及纸等，从强度及挠性等的观点而言，尤其优选树脂膜。作为树脂膜，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。其中，尤其优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。

临时支承体的厚度(层厚)并无特别限定，优选5μm～100μm的范围，从易操作性、通用性等的方面考虑，更优选10μm～50μm的范围。

从作为支承体的强度、与电路布线形成用基板的贴合中所需的挠性、最初的曝光工序中所要求的透光性等的观点而言，临时支承体的厚度可以根据材质进行选择。

关于临时支承体的优选方式，例如，在日本特开2014-85643号公报的0017段～0018段中有记载，该公报的内容并入本发明中。

＜覆盖膜＞

本发明所涉及的感光性转印材料优选在感光性转印材料中的与设置有临时支承体的一侧的面相反的一侧的面具有覆盖膜。

作为覆盖膜，可以举出树脂膜及纸等，从强度及挠性等的观点而言，尤其优选树脂膜。作为树脂膜，可以举出聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜及聚碳酸酯膜等。其中，优选聚乙烯膜、聚丙烯膜及聚对苯二甲酸乙二酯膜。

关于覆盖膜的厚度(层厚)，并无特别限定，例如，优选举出1μm～2mm的厚度。

＜其他层＞

本发明所涉及的感光性转印材料可以具有除上述以外的层(以下，也称为“其他层”。)。作为其他层，能够举出对比度增强层等。

关于对比度增强层的优选方式，在国际公开第2018/179640号的0134段中有记载，关于其他层的优选方式，在日本特开2014-85643号公报的0194段～0196段中有记载，该公报的内容被并入本说明书中。

在此，参考图1，示意性表示本发明所涉及的感光性转印材料的层结构的一例。

图1所示的感光性转印材料100依次层叠有临时支承体10、热塑性树脂层12、中间层14、负型感光性层16、覆盖膜18。

(感光性转印材料的制造方法)

本发明所涉及的感光性转印材料的制造方法，并无特别限制，能够使用公知的制造方法，例如，公知的各层的形成方法等。

其中，作为本发明所涉及的感光性转印材料的制造方法，优选举出如下的方法，该方法包括：将热塑性树脂组合物涂布于临时支承体上并使其干燥来形成热塑性树脂层的工序、将中间层组合物涂布于热塑性树脂层上及使其干燥以形成中间层的工序；以及将感光性组合物涂布于中间层上及使其干燥以形成负型感光性层的工序。

并且，本发明所涉及的感光性转印材料的制造方法优选在形成上述负型感光性层的工序之后，还包括在上述负型感光性层上设置覆盖膜的工序。

(树脂图案的制造方法及电路布线的制造方法)

关于本发明所涉及的树脂图案的制造方法，只要是使用本发明所涉及的感光性转印材料的树脂图案的制造方法，则并无特别限制，该方法优选依次包括：使本发明所涉及的感光性转印材料中相对于上述临时支承体具有负型感光性层的一侧的最外层与基板接触而贴合的工序(以下，有时称为“贴合工序”。)；对上述负型感光性层进行图案曝光的工序(以下，有时称为“曝光工序”。)；及对经曝光的上述负型感光性层进行显影而形成图案的工序(以下，有时称为“显影工序”。)。

并且，本发明所涉及的树脂图案的制造方法中的上述基板优选为具有导电层的基板，更优选为在表面具有导电层的基板。

本发明所涉及的电路布线的制造方法只要是使用本发明所涉及的感光性转印材料的方法即可，但优选依次包括：使本发明所涉及的感光性转印材料的相对于上述临时支承体具有负型感光性层的一侧的最外层与具有导电层的基板贴合的工序(以下，有时称为“贴合工序”。)；对所贴合的上述感光性转印材料中的上述负型感光性层进行图案曝光的工序；至少对经图案曝光的上述负型感光性层进行显影来形成树脂图案的工序；及对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理的工序(以下，有时称为“蚀刻工序”。)。

本发明所涉及的电路布线的制造方法中的上述基板优选为在表面具有上述导电层的基板。

＜贴合工序＞

本发明所涉及的树脂图案的制造方法或本发明所涉及的电路布线的制造方法优选包括使本发明所涉及的感光性转印材料中相对于上述临时支承体具有负型感光性层的一侧的最外层与基板、优选为与具有导电层的基板接触而贴合的工序(贴合工序)。

在上述贴合工序中，优选以使上述导电层与本发明所涉及的感光性转印材料中相对于上述临时支承体具有负型感光性层的一侧的最外层接触的方式进行压接。若为上述方式，则能够将曝光及显影后的形成有图案的负型感光性层优选用作蚀刻导电层时的蚀刻抗蚀剂。

作为压接上述基板和上述感光性转印材料的方法，并无特别限制，能够使用公知的转印方法及层合方法。

关于感光性转印材料向基板的贴合，优选将感光性转印材料的具有负型感光性层的一侧的最外层重叠在基板上，通过辊等进行加压及加热来进行。在贴合中，能够使用层压机、真空层压机及能够进一步提高生产率的自动切割层压机等的公知的层压机。本发明所涉及的电路布线的制造方法优选通过卷对卷方式进行。因此，构成基板的基材优选为树脂膜。

以下，对卷对卷方式进行说明。

卷对卷方式是指如下方式：作为基板使用能够卷取及卷出的基板，包括在电路布线的制造方法中所含的任一工序之前，将基板或包含基板的结构体卷出的工序(也称为“卷出工序”。)及在任一工序之后，将基材或包含基板的结构体卷取的工序(也称为“卷取工序”。)，一边运载基材或包含基板的结构体一边进行至少任一工序(优选为所有的工序、或加热工序以外的所有的工序)。

作为卷出工序中的卷出方法及卷取工序中的卷取方法，并无特别限制，在适用卷对卷方式的制造方法中，使用公知的方法即可。

本发明中所使用的基板优选为具有导电层的基板，更优选为在基材的表面具有导电层的基板。

基板可以在玻璃、硅、膜等基材上具有导电层，根据需要形成任意的层。

基材优选为透明。

基材的折射率优选为1.50～1.52。

基材可以由玻璃基材等透光性基材构成，能够使用以corning Incorporatedco.,Ltd.的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。并且，作为上述的透明基材，能够优选使用日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所使用的材料。

当作为基材使用树脂膜基材的情况下，更优选使用，光学应变小的基材及透明度高的基材。作为具体的素材，能够举出聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素、环烯烃聚合物。

在基材上具有导电层的基板中，从利用卷对卷方式制造的观点而言，优选为膜基材。关于本发明所涉及的电路布线的制造方法，当为触摸面板用的电路布线的情况下，基材尤其优选为薄片状树脂组合物。

作为形成于基材上的导电层，能够举出通常的电路布线或触摸面板布线中所使用的任意的导电层。

作为导电层，从导电性及细线形成性的观点而言，可以优选举出选自包括金属层、导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层及导电聚合物层的组中的至少1种层，更优选举出金属层，尤其优选举出铜层或银层。

并且，在基材上可以具有1层导电层、也可以具有2层以上导电层。当2层以上的情况下，优选具有不同的材质的导电层。

作为导电层的材料，能够举出金属及导电性金属氧化物等。

作为金属，能够举出Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo、Ag、Au等。

作为导电性金属氧化物，能够举出ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)、SiO₂等。另外，本发明中的“导电性”是指，体积电阻率为小于1×10⁶Ωcm，优选体积电阻率为小于1×10⁴Ωcm。

在本发明所涉及的电路布线的制造方法中，在基材上使用具有多个导电层的基板的情况下，多个导电层中至少一个导电层优选包含导电性金属氧化物。

作为导电层，优选为相当于静电电容型触摸面板中所使用的视觉辨认部的传感器的电极图案或外围引出部的布线。

＜曝光工序＞

本发明所涉及的树脂图案的制造方法或本发明所涉及的电路布线的制造方法优选在上述贴合工序之后，包括对上述负型感光性层进行图案曝光的工序(曝光工序)。

在本发明中，图案的详细配置及具体尺寸并无特别限制。为了提高具备具有通过本发明所涉及的电路布线的制造方法所制造的电路布线的输入装置的显示装置(例如触摸面板)的显示质量，并且，尽量减小引出布线所占的面积，图案的至少一部分(尤其触摸面板的电极图案及引出布线的部分)优选为20μm以下的细线，进一步优选为10μm以下的细线。

作为用于曝光的光源，只要是照射能够对负型感光性层进行曝光的波长区域的光(例如，365nm、405nm等)的光源，则能够适当选择使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯、LED(Light Emitting Diode)等。

作为曝光量，优选为5mJ/cm²～200mJ/cm²，更优选为10mJ/cm²～100mJ/cm²。

在曝光工序中，可以在从负型感光性层剥离临时支承体之后进行图案曝光，也可以在剥离临时支承体之前，经由临时支承体进行图案曝光，然后剥离临时支承体。当在曝光前剥离临时支承体的情况下，掩模可以与感光性层接触而进行曝光，也可以不接触使其近接而进行曝光。当不剥离临时支承体而进行曝光的情况下，掩模可以与临时支承体接触而进行曝光，也可以不接触使其近接而进行曝光。为了防止由负型感光性层与掩模的接触引起的掩模污染、及避免因附着在掩模的异物而对曝光产生影响，优选不剥离临时支承体进行图案曝光。另外，图案曝光可以为隔着掩模的曝光，也可以为使用激光等的直接曝光。

关于曝光方式，能够适当选择使用如下方式，当接触曝光的情况下，选择接触曝光方式，当非接触曝光方式的情况下，选择接近式曝光方式、透镜系统或反射镜系统的投影曝光方式、使用了曝光激光等的直接曝光方式。当透镜系统的反射镜的投影曝光的情况下，根据所需的分辨率、焦点深度，能够使用具有适当的透镜的开口数(NA)的曝光机。当直接曝光方式的情况下，可以直接对感光层进行描绘，也可以经由透镜对感光层进行缩小投影曝光。并且，曝光不仅可以在大气下进行，也可以在减压、真空下进行，并且，也可以在光源与感光性层之间隔着水等液体进行曝光。

＜显影工序＞

本发明所涉及的树脂图案的制造方法或本发明所涉及的电路布线的制造方法优选在上述曝光工序之后，包括对经曝光的上述负型感光性层进行显影而形成树脂图案的工序(显影工序)。

并且，当上述感光性转印材料具有中间层的情况下，在显影工序中，非曝光部的热塑性树脂层及中间层也随非曝光部的负型感光性层一同被去除。进而，在显影工序中，曝光部的热塑性树脂层及中间层也可以以溶解或分散于显影液的形式去除。

上述显影工序中的经曝光的上述负型感光性层的显影能够使用显影液进行。

作为显影液，只要能够去除负型感光性层的非图像部，则无特别的限制，例如，能够使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等、公知的显影液。例如，优选将pKa＝7～13的化合物以0.05mol/L(升)～5mol/L的浓度包含的碱水溶液系的显影液。显影液还可以含有水溶性的有机溶剂、表面活性剂等。作为本发明中优选使用的显影液，例如，可以举出国际公开第2015/093271号的0194段中记载的显影液。

作为显影方式，并无特别限制，可以为旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等中的任一个。在此，对喷淋显影进行说明，通过喷淋对曝光后的负型感光性层喷射显影液，由此能够去除非曝光部。并且，优选在显影之后，通过喷淋喷射清洗剂等，一边利用刷子等擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液温度优选为20℃～40℃。

＜蚀刻工序＞

本发明所涉及的电路布线的制造方法优选包括对未配置有上述树脂图案的区域中的基板进行蚀刻处理的工序(蚀刻工序)。

在上述蚀刻工序中，将通过上述显影工序由上述负型感光性层形成的图案用作蚀刻抗蚀剂，进行上述导电层的蚀刻处理。

作为蚀刻处理的方法，能够适用基于日本特开2017-120435号公报的0209段～0210段中所记载的方法、日本特开2010-152155号公报的0048段～0054段等中记载的方法、公知的等离子体蚀刻等干式蚀刻的方法等公知的方法。

＜去除工序＞

本发明所涉及的电路布线的制造方法优选进行去除树脂图案的工序(去除工序)。

去除工序并无特别限制，能够根据需要进行，但优选在蚀刻工序之后进行。

作为去除残留的负型感光性层的方法，并无特别的限制，能够举出通过药品处理进行去除的方法，尤其能够优选举出使用去除液的方法。

作为负型感光性层的去除方法，可以举出将具有负型感光性层等的基板，在优选以30℃～80℃、更优选以50℃～80℃搅拌中的去除液中浸渍1分钟～30分钟的方法。

作为去除液，例如，可以举出将氢氧化钠、氢氧化钾等的无机碱成分或伯胺化合物、仲胺化合物、叔胺化合物、季铵盐化合物等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液中的去除液。

并且，也可以使用去除液，通过喷涂法、喷淋法、旋覆浸没法等去除。

＜其他工序＞

本发明所涉及的电路布线的制造方法可以包括除上述以外的任意的工序(其他工序)。例如，可以举出如下的工序，但并不限制于这些工序。

并且，作为本发明中的曝光工序、显影工序及其他工序的例，能够将日本特开2006-23696号公报的0035段～0051段中记载的方法，优选用于本发明中。

＜＜覆盖膜剥离工序＞＞

关于本发明所涉及的树脂图案的制造方法或本发明所涉及的电路布线的制造方法，在本发明所涉及的感光性转印材料具有覆盖膜的情况下，优选包括剥离上述感光性转印材料的覆盖膜的工序(有时称为“覆盖膜剥离工序”。)。剥离覆盖膜的方法并无限制，能够适用公知的方法。

＜＜降低可见光线反射率的工序＞＞

本发明所涉及的电路布线的制造方法能够包括进行使基材上的多个导电层的一部分或所有可见光线反射率降低的处理的工序。

作为降低可见光线反射率的处理，能够举出氧化处理等。例如，通过对铜进行氧化处理而制成氧化铜，使其黑化，由此能够降低可见光线反射率。

关于降低可见光线反射率的处理的优选方式，在日本特开2014-150118号公报的0017段～0025段、以及日本特开2013-206315号公报的0041段、0042段、0048段及0058段中有记载，该公报的内容并入本说明书中。

＜＜形成绝缘膜的工序、在绝缘膜上形成新的导电层的工序＞＞

本发明所涉及的电路布线的制造方法优选包括在所形成的电路布线上形成绝缘膜的工序和在绝缘膜上形成新的导电层的工序。

通过这种结构，能够在与第一电极图案保持绝缘的同时形成上述的第二电极图案。

关于形成绝缘膜的工序，并无特别限制，能够举出形成公知的永久膜的方法。并且，可以使用具有绝缘性的感光性材料，通过光刻法来形成所期望的图案的绝缘膜。

关于在绝缘膜上形成新的导电层的工序，并无特别限制。可以使用具有导电性的感光性材料，通过光刻法来形成所期望的图案的新的导电层。

关于本发明所涉及的电路布线的制造方法，也优选使用在基材的两个表面分别具有多个导电层的基板，对形成于基材的两个表面的导电层逐次或同时形成电路。通过这种结构，能够在基材的一个表面形成第一导电图案，在另一个表面形成形成有第二导电图案的触摸面板用电路布线。并且，也优选以卷对卷方式从基材的两面形成这种结构的触摸面板用电路布线。

通过本发明所涉及的电路布线的制造方法制造的电路布线能够适用于各种装置中。作为具备通过本发明所涉及的电路布线的制造方法制造的电路布线的装置，例如，可以举出输入装置等，优选为触摸面板，更优选为静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机EL显示装置、液晶显示装置等显示装置中。

(触摸面板的制造方法)

本发明所涉及的触摸面板的制造方法只要是使用本发明所涉及的感光性转印材料的方法即可，优选依次包括：使本发明所涉及的感光性转印材料中相对于上述临时支承体具有负型感光性层的一侧的最外层与具有导电层的基板接触而贴合的工序(贴合工序)；对上述负型感光性层进行图案曝光的工序(曝光工序)；对经曝光的上述负型感光性层进行显影而形成树脂图案的工序(显影工序)；及对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理的工序(蚀刻工序)。

关于本发明所涉及的触摸面板的制造方法中的、各工序的具体的方式、及进行各工序的顺序等的实施方式，如在上述的“电路布线的制造方法”的项中所说明，优选方式也相同。

本发明所涉及的触摸面板的制造方法除了上述以外，还能够参考公知的触摸面板的制造方法。

并且，本发明所涉及的触摸面板的制造方法也可以包括除了上述以外的任意的工序(其他工序)。

在图2及图3中示出本发明所涉及的触摸面板的制造方法中所使用的掩模的图案的一例。

在图2所示的图案A及图3所示的图案B中，SL及G为非图像部(遮光部)，DL虚拟表示对齐框。在本发明所涉及的触摸面板的制造方法中，例如，通过隔着具有图2中所示的图案A的掩模，对负型感光性层进行曝光，能够制造形成有具有与SL及G对应的图案A的电路布线的触摸面板。具体而言，能够通过国际公开第2016/0190405号的图1中记载的方法进行制作。在所制造的触摸面板的一例中，G为形成透明电极(触摸面板用电极)的部分，SL为形成外围引出部的布线的部分。

本发明所涉及的触摸面板为至少具有通过本发明所涉及的电路布线的制造方法制造的电路布线的触摸面板。并且，本发明所涉及的触摸面板优选至少具有透明基板，电极、绝缘层或保护层。

作为本发明所涉及的触摸面板中的检测方法，可以为电阻膜方式、静电电容方式、超音波方式、电磁感应方式及光学方式等公知的方式中的任一种。其中，优选静电电容方式。

作为触摸面板型，能够举出所谓的内嵌型(例如，日本特表2012-517051号公报的图5、图6、图7、图8中记载的)、所谓的外嵌型(例如，日本特开2013-168125号公报的图19中记载的、日本特开2012-89102号公报的图1或图5中记载的)、OGS(One Glass Solution：单片玻璃触控技术)型、TOL(Touch-on-Lens)型(例如，日本特开2013-54727号公报的图2中记载的)、其他结构(例如，日本特开2013-164871号公报的图6中记载的)、各种外挂型(所谓的GG、G1·G2、GFF、GF2、GF1、G1F等)等。

作为本发明所涉及的触摸面板，例如，可以举出日本特开2017-120345号公报的0229段中所记载的触摸面板。

实施例

以下举出实施例对本发明的实施方式进行更具体的说明。以下的实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等只要不脱离本发明的实施方式的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的实施方式的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要无特别说明，则“份”、“％”为质量标准。

＜聚合物＞

在以下的合成例中，以下的缩写词分别表示以下的化合物。

St：苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

BzMA：甲基丙烯酸苄酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

MAA：甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

MMA：甲基丙烯酸甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

HEMA：甲基丙烯酸羟基乙酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制造)

V-601：二甲基-2,2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造)

＜聚合物A-1的合成＞

向三口烧瓶中加入PGMEA(116.5份)，在氮气气氛下，升温至90℃。将添加了St(52.0份)、MMA(19.0份)、MAA(29.0份)、V-601(4.0份)、PGMEA(116.5份)的溶液历经2小时滴加于维持在90℃±2℃的三口烧瓶溶液中。滴加结束之后，在90℃±2℃下搅拌2小时，由此得到了聚合物A-1(固体成分浓度30.0％)。

＜聚合物A-2及A-3的合成＞

将单体的种类等如下述表1所示进行变更，针对其他条件，以与聚合物A-1相同的方法进行了合成。聚合物A-2及A-3的固体成分浓度分别设为30质量％。

另外，表1的单体的量的单位为质量％。

[表1]

＜色素B及色素N＞

B-1：下述所示的结构的化合物(通过酸而显色的色素)

B-2：LCV(无色结晶紫、YAMADA CHEMICAL CO.,LTD.制造、通过自由基而显色的色素)

B-3：VPB-NAPS(维多利亚纯蓝-烷基萘磺酸盐、Hodogaya Chemical Co.,Ltd.制造、通过酸而显色的色素)

B-4：结晶紫内酯(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造、通过酸而显色的色素)

[化学式4]

＜光产酸剂及光自由基产生剂＞

C-1：下述所示的结构的化合物(光产酸剂、日本特开2013-47765号公报的0227段中所记载的化合物、按照0227段中所记载的方法进行合成。)

[化学式5]

C-2：B-CIM(光自由基产生剂、2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、Hampford公司制造)

C-3：NBCA(增敏剂、10-丁基-2-氯吖啶酮、KUROGANE KASEI Co.,Ltd.制造)

C-4：Irgacure PAG103(光产酸剂、BASF公司制造、下述化合物)

[化学式6]

＜增塑剂＞

D-1：NK酯BPE-500(乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、Shin-Nakamura ChemicalCo.,Ltd.制造)

D-2：ARONIX M-270(聚丙二醇二丙烯酸酯、TOAGOSEI CO.,LTD.制造)

D-3：NK酯A-DCP(三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)

D-4：8UX-015A(多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物、TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.制造)

D-5：ARONIX TO-2349(具有羧基的多官能丙烯酸酯化合物、TOAGOSEI CO.,LTD.制造)

D-6：聚乙二醇400(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)

＜感光性树脂组合物1的制备＞

对以下的成分进行混合，制备了感光性树脂组合物1。另外，各成分的量的单元为质量份。

聚合物A-1(固体成分浓度30.0％)：21.87份

ARONIX M270(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)：0.51份

NK酯BPE-500(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：4.85份

C-2(B-CIM、Hampford公司制造)：0.89份

C-3(NBCA、10-丁基-2-氯吖啶酮、KUROGANE KASEI Co.,Ltd.制造)：0.05份

N-苯基氨基甲酰甲基-N-羧基甲基苯胺(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造)：0.02份

吩噁嗪(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)：0.025份

1-苯基-3-吡唑烷酮(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)：0.001份

B-2(LCV、无色结晶紫、YAMADA CHEMICAL CO.,LTD.制造)：0.053份

B-3(VPB-NAPS、维多利亚纯蓝-烷基萘磺酸盐、Hodogaya Chemical Co.,Ltd.制造)：0.009份

甲基乙基酮(MEK、SANKYO CHEMICAL Co.,Ltd.制造)：30.87份

丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA、SHOWA DENKO K.K.制造)：33.92份

四氢呋喃(THF、Mitsubishi Chemical Corporation.制造)：6.93份

＜感光性树脂组合物2～4的制备＞

将各色素的添加量变更为如下述表2所示，除此之外，以与感光性树脂组合物1的制备相同的方式，分别制备了感光性树脂组合物2～4。另外，表2中的各数值的单元为质量份。

[表2]

＜中间层组合物的制备＞

将以下的成分进行混合制备了中间层组合物。

离子交换水：38.12份

甲醇(Mitsubishi Gas Chemical Company,Inc.制造)：57.17份

Kuraray Poval PVA-205(聚乙烯醇、KURARAY CO.,LTD.制造)：3.22份

聚乙烯吡咯烷酮K-30(NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.制造)：1.49份

Megafac F-444(氟系表面活性剂、DIC Corporation制造)：0.0015份

＜热塑性树脂组合物1的制备＞

将以下的成分进行混合制备了热塑性树脂组合物1。

聚合物A-2(固体成分浓度30.0％)：42.85份

B-1：0.08份

C-1：0.32份

D-3(NK酯A-DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)：4.63份

D-4(8UX-015A、TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.制造)：2.31份

D-5(ARONIX TO-2349、TOAGOSEI CO.,LTD.制造)：0.77份

Megafac F-551(氟系表面活性剂、DIC Corporation制造)：0.03份

MEK(SANKYO CHEMICAL Co.,Ltd.制造)：39.50份

PGMEA(SHOWA DENKO K.K.制造)：9.51份

＜热塑性树脂组合物2～7的制备＞

将色素、光产酸剂或光自由基产生剂、聚合物及增塑剂变更为如下述表3所示，除此之外，以与热塑性树脂组合物1的制备相同的方式，分别制备了热塑性树脂组合物2～7。另外，表3中的各成分的添加量以热塑性树脂组合物相对于固体成分的质量比(质量％)表示。

[表3]

(实施例1)

＜感光性转印材料的制作＞

以使成为下述表4所示的结构，使用狭缝状喷嘴以涂布宽度成为1.0m、层厚成为4μm的方式，将热塑性树脂组合物1涂布于作为临时支承体的厚度30μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜上，历经40秒钟，使其通过80℃的干燥区域，从而形成了热塑性树脂层。之后，使用狭缝状喷嘴以涂布宽度成为1.0m、层厚成为1.2μm的方式，将中间层组合物涂布于热塑性树脂层上，历经40秒钟使其通过80℃的干燥区域，从而形成了中间层。进而，使用狭缝状喷嘴以涂布宽度成为1.0m、层厚成为3.0μm的方式，将感光性树脂组合物1涂布于中间层上，历经40秒钟使其通过80℃的干燥区域，从而形成了负型感光性层。在其上压接聚乙烯膜(TredegarCorporation制造、OSM-N)作为覆盖膜，制作感光性转印材料，卷取成了辊形态。

＜性能评价＞

使用了在厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜上以厚度200nm利用溅射法制作了铜层的带铜层的PET基板。

-曝光部及非曝光部的视觉辨认性(印出性)-

将所制作的感光性转印材料，在辊温度90℃、线压0.8MPa、线速度3.0m/min的层压条件下，层压在带铜层的PET基板。不剥离临时支承体，使用反射型光谱色度仪(CM-700d、Konica Minolta,Inc.制造、测定直径3mmΦ、SCI模式)，测定了波长590nm中的反射率。之后使用高压汞灯，以50mJ/cm²的曝光量进行曝光，再次使用反射型光谱色度仪(CM-700d、Konica Minolta,Inc.制造、测定直径3mmΦ)，测定了波长590nm中的反射率。分别使用下式将曝光前后的反射率换算成反射浓度，将曝光前后的反射浓度差的绝对值作为曝光部及非曝光部的视觉辨认性(印出性)进行了评价。曝光前后的反射浓度的差越大，印出性越良好。

反射浓度＝-log(反射率)

5：反射浓度的差为0.5以上

4：反射浓度的差为0.35以上且小于0.5

3：反射浓度的差为0.20以上且小于0.35

2：反射浓度的差为0.05以上且小于0.20

1：反射浓度的差为小于0.05

优选为3以上。

-分辨度(分辨率)-

将所制作的感光性转印材料卷出后，在辊温度120℃、线压1.0MPa、线速度0.5m/min的层压条件下，层压在上述带铜层的PET基板上。不剥离临时支承体，经由线与空间图案掩模(Duty比1:1、线宽度1μm～20μm为止每隔1μm阶段性变化)，利用超高压汞灯进行曝光后，剥离临时支承体而进行了显影。关于显影，使用25℃的1.0％碳酸钠水溶液，通过喷淋显影进行了30秒。

通过上述方法形成20μm的线与空间图案时，利用扫描型电子显微镜(SEM)观察空间部的残渣，以抗蚀剂线宽度正好成为20μm的曝光量进行曝光时，将抗蚀剂图案能够无剥离及无残渣地分辨的最小的线宽度作为分辨度进行了评价。值越小分辨率越良好。

5：分辨度为4μm以下

4：分辨度为5μm以上且6μm以下

3：分辨度为7μm以上且8μm以下

2：分辨度为9μm以上且10μm以下

1：分辨度为11μm以上

优选为3以上。

(实施例2～实施例10及比较例1～比较例3)

将热塑性树脂组合物、感光性树脂组合物、以及热塑性树脂层及负型感光性层的层厚变更为如下述表4所示，除此之外，以与实施例1相同的方式，分别制作实施例2～实施例10及比较例1～比较例3的感光性转印材料，分别卷取成辊形态。

并且，以与实施例1相同的方式，进行了性能评价。将评价结果总结并示于表4。

[表4]

如上述表4所示，实施例1～实施例10的感光性转印材料与比较例1～比较例3的感光性转印材料相比，曝光部及非曝光部的视觉辨认性、以及所得到的图案的分辨率优异。

(实施例101)

在100μm厚PET基材上，通过溅射以150nm厚形成ITO作为第二层的导电层，在其上，通过真空蒸镀法以200nm厚形成铜作为第一层的导电层，从而作为电路形成用基板。

在铜层上，将在实施例1中得到的感光性转印材料剥离覆盖膜贴合在基板(层合辊温度100℃、线压0.8MPa、线速度3.0m/min.)，制成了层叠体。使用设有如图2所示的图案A的光掩模对所获得的层叠体进行了接触图案曝光，所述图案A具有不剥离临时支承体，在一个方向上连结有导电层焊盘的结构。曝光中，使用了以i射线(365nm)为曝光主波长的高压汞灯。

之后剥离临时支承体，进行显影、水洗而获得了图案A。接着，使用铜蚀刻液(KANTOCHEMICAL CO.,INC.制Cu-02)蚀刻铜层之后，使用ITO蚀刻液(KANTO CHEMICAL CO.,INC.制ITO-02)蚀刻ITO层，由此获得了铜与ITO均利用图案A描绘的基板。

利用显微镜观察所获得的电路布线基板的结果，没有剥离、缺损等，为完美的图案。

本发明所涉及的感光性转印材料能够优选用于需要基于光刻法的精密微细加工的各种用途中。将感光性层进行图案化后，可以将感光性层作为被膜进行蚀刻，也可以进行以电镀为主体的电铸。能够优选使用于半导体封装、印刷基板、传感器基板的各种布线形成用途、触摸面板、电磁屏蔽件材料、膜加热器等导电性膜、液晶密封材料、微机械或微电子领域中的结构物的形成等用途。

关于2019年4月5日申请的日本专利申请第2019-072459号的公开，其全部内容通过参考编入本说明书中。

本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准与具体地且分别地记载通过参考而被并入的各个文献、专利申请及技术标准的情况相同程度地,通过参考而被并入本说明书中。

符号说明

10-临时支承体，12-热塑性树脂层，14-中间层，16-负型感光性层，18-覆盖膜，100-感光性转印材料，SL-非图像部(曝光部)，G-非图像部(曝光部)，DL-对齐框。