一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置

文档序号:1873408 发布日期:2021-11-23 浏览:23次 >En<

阅读说明:本技术 一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置 (Waste gas treatment device suitable for semiconductor manufacturing process ) 是由 郑洪� 于 2021-08-11 设计创作,主要内容包括:本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置,包括第一管道,其特征在于:所述第一管道的左端固定连通有废气进管,所述第一管道的内腔固定连接有第一过滤网。本发明废气通过废气进管进入到第一管道内,然后对正极套筒和负极柱分别接入高压正极电流和负极电流,从而正极套筒内废气中的尘粒与负离子结合带上负电后趋向正极套筒的内壁表面放电而除去气体的灰尘,从而减小燃烧室内壁的结垢,并且向下按压连接柱推动清洁盘在燃烧室内向下移动,同时配合限位块插接在螺旋限位槽内,从而在清洁盘向下移动的同时并旋转,从而能够对燃烧室内壁进行方便快速全面清洁,进一步的提高结垢清洁的效果。(The invention relates to the technical field of semiconductor manufacturing, and discloses a waste gas treatment device suitable for a semiconductor manufacturing process, which comprises a first pipeline and is characterized in that: the left end of the first pipeline is fixedly communicated with a waste gas inlet pipe, and an inner cavity of the first pipeline is fixedly connected with a first filter screen. The waste gas enters the first pipeline through the waste gas inlet pipe, and then high-voltage positive current and negative current are respectively connected to the positive electrode sleeve and the negative electrode column, so that dust particles in the waste gas in the positive electrode sleeve are combined with negative ions and are charged with negative electricity, and then discharge towards the surface of the inner wall of the positive electrode sleeve to remove dust in the gas, so that scaling of the inner wall of the combustion chamber is reduced, the connecting column is pressed downwards to push the cleaning disc to move downwards in the combustion chamber, and meanwhile, the cleaning disc is matched with the limiting block to be inserted in the spiral limiting groove, so that the cleaning disc rotates while moving downwards, the inner wall of the combustion chamber can be conveniently, quickly and comprehensively cleaned, and the scaling cleaning effect is further improved.)

一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域,具体为一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置。

背景技术

在半导体制作工艺中需要使用多种特殊气体以及大量的酸或碱,在半导体制造的不同工艺中使用并产生大量的废气,这些废气通过排风系统收集并处理,以防止直接排放对环境以及人们的身体健康造成的严重后果。

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决:现有的燃烧室内气体燃尽的灰烬以及高温对燃烧室内壁容易造成结垢,降低燃烧室的使用寿命,一般对燃烧室进行定期清理,现有的对燃烧室清理较为麻烦,清理的效果较差,仍旧会降低其使用寿命,另外,废气的处理除了燃烧之外,一般多采用水洗除尘,从而会浪费大量水资源,因此,我们提出一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置,解决了背景技术中所提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置,包括第一管道,其特征在于:所述第一管道的左端固定连通有废气进管,所述第一管道的内腔固定连接有第一过滤网,所述第一过滤网的顶部固定连接有负极柱,所述第一过滤网上侧的第一管道内壁固定连接有正极套筒,所述第一管道的顶部固定连通有转流室,所述转流室的左端固定安装有电机,所述电机的电机轴贯穿于转流室置于转流室的内腔,所述电机的电机轴固定连接有扇叶,所述转流室的右端固定连通有气管,所述气管的右端固定连通有燃烧室,所述燃烧室的右端固定连通有连接管,所述连接管的右端固定连通有第一送风机,所述第一送风机的右端固定连通有第二管道,所述燃烧室的右端固定连接有支撑台,所述支撑台的顶部固定连接有吸附箱,所述第二管道与吸附箱固定连通,所述吸附箱的内腔固定连接有吸附板,所述吸附箱的右端固定连通有出气管;

所述燃烧室的顶部开设有通孔,所述通孔的内腔左右两端均固定连接有限位块,所述通孔内插接有连接柱,所述连接柱的外壁开设有螺旋限位槽,两个所述限位块均插接在所述螺旋限位槽内,所述连接柱的底部固定连接有清洁盘,所述清洁盘的底部固定安装有点火器。

作为本发明的一种优选实施方式,所述气管的内腔固定安装有第一电磁阀门,所述燃烧室的右端下侧固定连通有空气进管,所述空气进管的内腔固定安装有第二电磁阀门和空气流量传感器,所述燃烧室上固定安装有控制器,所述空气流量传感器的输出端通过导线与控制器的输入端电性串联,所述控制器的输出端通过导线分别与第一电磁阀门和第二电磁阀门的输入端电性连接。

作为本发明的一种优选实施方式,所述第一管道的左端固定安装有第二送风机,所述第二送风机上固定连通有送风管,所述第一管道的内壁上侧固定连接有圆形导管,所述圆形导管上开设有送风口,所述送风管与圆形导管固定连通。

作为本发明的一种优选实施方式,所述连接柱的顶部活动连接有钢球。

作为本发明的一种优选实施方式,所述第一管道的内腔底端固定连接有导料板,所述第一管道的右端下侧开设有排污口,所述排污口内插接有密封塞。

作为本发明的一种优选实施方式,所述送风口内固定安装有第二过滤网。

作为本发明的一种优选实施方式,所述连接柱的左右两端均固定连接有阻尼转轴,两个所述阻尼转轴的上均铰接有支撑板。

与现有技术相比,本发明的有益效果如下:

1.本发明通过正极套筒、负极柱、废气进管、第一过滤网、电机、扇叶、燃烧室、连接柱、通孔、螺旋限位槽、限位块和清洁盘的设置,废气通过废气进管进入到第一管道内,然后对正极套筒和负极柱分别接入高压正极电流和负极电流,从而正极套筒内废气中的尘粒与负离子结合带上负电后趋向正极套筒的内壁表面放电而除去气体的灰尘,从而减小燃烧室内壁的结垢,并且向下按压连接柱推动清洁盘在燃烧室内向下移动,同时配合限位块插接在螺旋限位槽内,从而在清洁盘向下移动的同时并旋转,从而能够对燃烧室内壁进行方便快速全面清洁,进一步的提高结垢清洁的效果。

2.本发明通过空气流量传感器、控制器、第一电磁阀门和第二电磁阀门的设置,当燃烧室内燃烧快结束时,从而空气通过空气进管进入到燃烧室内的空气量小于空气流量传感器设定的阈值时,从而将第一电磁阀门和第二电磁阀门关闭,进一步的避免燃烧室内的燃气压力降低时,燃烧点的火会通过气管和空气进管向气源方向蔓延产生回火,进一步的避免产生回火发生爆炸,提高安全性。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:

图1为本发明一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置的整体结构示意图;

图2为本发明一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置的燃烧室俯视图;

图3为本发明一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置的连接柱与支撑板连接主视图;

图4为本发明一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置的圆形导管底部主视图。

图中:1、第一管道;2、废气进管;3、第一过滤网;4、正极套筒;5、第二送风机;6、负极柱;7、送风管;8、圆形导管;9、电机;10、转流室;11、扇叶;12、气管;13、第一电磁阀门;14、点火器;15、连接柱;16、螺旋限位槽;17、钢球;18、清洁盘;19、燃烧室;20、连接管; 21、第一送风机;22、第二管道;23、吸附箱;24、吸附板;25、出气管; 26、支撑台;27、第二电磁阀门;28、空气进管;29、空气流量传感器; 30、控制器;31、送风口;32、第二过滤网;33、密封塞;34、排污口; 35、导料板;36、通孔;37、限位块;38、阻尼转轴;39、支撑板。

具体实施方式

为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制;在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“设置”应做广义理解,例如,可以是固定相连、设置,也可以是可拆卸连接、设置,或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参阅图1-4,本发明提供一种技术方案:一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置,包括第一管道1,所述第一管道1的左端固定连通有废气进管2,所述第一管道1的内腔固定连接有第一过滤网3,所述第一过滤网3 的顶部固定连接有负极柱6,所述第一过滤网3上侧的第一管道1内壁固定连接有正极套筒4,所述第一管道1的顶部固定连通有转流室10,所述转流室10的左端固定安装有电机9,所述电机9的电机轴贯穿于转流室10置于转流室10的内腔,所述电机9的电机轴固定连接有扇叶11,所述转流室10 的右端固定连通有气管12,所述气管12的右端固定连通有燃烧室19,所述燃烧室19的右端固定连通有连接管20,所述连接管20的右端固定连通有第一送风机21,所述第一送风机21的右端固定连通有第二管道22,所述燃烧室19的右端固定连接有支撑台26,所述支撑台26的顶部固定连接有吸附箱23,所述第二管道22与吸附箱23固定连通,所述吸附箱23的内腔固定连接有吸附板24,所述吸附箱23的右端固定连通有出气管25;

所述燃烧室19的顶部开设有通孔36,所述通孔36的内腔左右两端均固定连接有限位块37,所述通孔36内插接有连接柱15,所述连接柱15的外壁开设有螺旋限位槽16,两个所述限位块37均插接在所述螺旋限位槽16 内,所述连接柱15的底部固定连接有清洁盘18,所述清洁盘18的底部固定安装有点火器14,通过正极套筒4、负极柱6、废气进管2、第一过滤网3、电机9、扇叶11、燃烧室19、连接柱15、通孔36、螺旋限位槽16、限位块 37和清洁盘18的设置,废气通过废气进管2进入到第一管道1内,然后对正极套筒4和负极柱6分别接入高压正极电流和负极电流,从而正极套筒4 内废气中的尘粒与负离子结合带上负电后趋向正极套筒4的内壁表面放电而除去气体的灰尘,从而减小燃烧室19内壁的结垢,并且向下按压连接柱15 推动清洁盘18在燃烧室19内向下移动,同时配合限位块37插接在螺旋限位槽16内,从而在清洁盘18向下移动的同时并旋转,从而能够对燃烧室19 内壁进行方便快速全面清洁,进一步的提高结垢清洁的效果。

本实施例中(请参阅图1),所述气管12的内腔固定安装有第一电磁阀门13,所述燃烧室19的右端下侧固定连通有空气进管28,所述空气进管 28的内腔固定安装有第二电磁阀门27和空气流量传感器29,所述燃烧室19 上固定安装有控制器30,所述空气流量传感器29的输出端通过导线与控制器30的输入端电性串联,所述控制器30的输出端通过导线分别与第一电磁阀门13和第二电磁阀门27的输入端电性连接,通过空气流量传感器29、控制器30、第一电磁阀门13和第二电磁阀门27的设置,当燃烧室19内燃烧快结束时,从而空气通过空气进管28进入到燃烧室19内的空气量小于空气流量传感器29设定的阈值时,从而将第一电磁阀门13和第二电磁阀门27 关闭,进一步的避免燃烧室19内的燃气压力降低时,燃烧点的火会通过气管12和空气进管28向气源方向蔓延产生回火,进一步的避免产生回火发生爆炸,提高安全性。

本实施例中(请参阅图1和图4),所述第一管道1的左端固定安装有第二送风机5,所述第二送风机5上固定连通有送风管7,所述第一管道1 的内壁上侧固定连接有圆形导管8,所述圆形导管8上开设有送风口31,所述送风管7与圆形导管8固定连通,通过第二送风机5、送风管7、圆形导管8和送风口31的设置,启动第二送风机5能够从送风口31内吹出气体,从而气体能够对正极套筒4内壁吸附的灰尘脱离正极套筒4,进一步的方便对正极套筒4内吸附的灰尘进行清理。

本实施例中(请参阅图3),所述连接柱15的顶部活动连接有钢球 17,通过钢球17减小操作人员手部与连接柱15的摩擦力,从而有利于连接柱15进行转动。

本实施例中(请参阅图1),所述第一管道1的内腔底端固定连接有导料板35,所述第一管道1的右端下侧开设有排污口34,所述排污口34内插接有密封塞33,将密封塞33从排污口34拔出,从而配合导料板35能够快速的将第一管道1内的灰尘排出第一管道1。

本实施例中(请参阅图4),所述送风口31内固定安装有第二过滤网 32,通过第二过滤网32的设置,从而能够避免灰尘将送风口31堵塞。

本实施例中(请参阅图3),所述连接柱15的左右两端均固定连接有阻尼转轴38,两个所述阻尼转轴38的上均铰接有支撑板39,通过阻尼转轴 38转动支撑板39将支撑板39支撑在燃烧室19的顶部,从而对连接柱15进行支撑,避免连接柱15自动下降。

在一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置使用的时候,需要说明的是,本发明为一种适用于半导体制造工艺的废气处理装置,包括第一管道 1、废气进管2、第一过滤网3、正极套筒4、第二送风机5、负极柱6、送风管7、圆形导管8、电机9、转流室10、扇叶11、气管12、第一电磁阀门 13、点火器14、连接柱15、螺旋限位槽16、钢球17、清洁盘18、燃烧室19、连接管20、第一送风机21、第二管道22、吸附箱23、吸附板24、出气管25、支撑台26、第二电磁阀门27、空气进管28、空气流量传感器29、控制器30、送风口31、第二过滤网32、密封塞33、排污口34、导料板35、通孔36、限位块37、阻尼转轴38、支撑板39,部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件,其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。

使用时,首先,将废气通过废气进管2进入到第一管道1内,然后对正极套筒4和负极柱6分别接入高压正极电流和负极电流,从而正极套筒4内废气中的尘粒与负离子结合带上负电后趋向正极套筒4的内壁表面放电而除去气体的灰尘,然后启动电机9带动扇叶11高速转动将除去灰尘的废气通过管道12进入到燃烧室19内,然后通过点火器14对废气进行烧然,从而减小燃烧室19内壁的结垢,当燃烧室19的内壁产生结垢时,手掌按压在钢球17的顶部,然后向下按压连接柱15推动清洁盘18在燃烧室19内向下移动,同时配合限位块37插接在螺旋限位槽16内,从而在清洁盘18向下移动的同时并旋转,配合钢球17减小操作人员手部与连接柱15的摩擦力,从而有利于连接柱15进行转动,从而能够对燃烧室19内壁进行方便快速全面清洁,进一步的提高结垢清洁的效果,当燃烧室19内燃烧快结束时,从而空气通过空气进管28进入到燃烧室19内的空气量小于空气流量传感器29 设定的阈值时,从而将第一电磁阀门13和第二电磁阀门27关闭,进一步的避免燃烧室19内的燃气压力降低时,燃烧点的火会通过气管12和空气进管 28向气源方向蔓延产生回火,进一步的避免产生回火发生爆炸,提高安全性。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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