具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合实施例及附图，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

现有的采用屏下摄像技术的显示面板中，显示面板中预留透明显示区，通常包括透光区域和像素设置区域，像素设置区域中设有用于显示的像素单元，其中，透光区域用于透过外界光线，以使摄像头成像；像素设置区域中的发光元件用于实现正常显示。可以理解的，当摄像头用于采集图像时，关闭透明显示区的显示功能，透明显示区为透明状态。由于像素单元位于透明显示区中，因此，外界光进入透光区域用于摄像头成像时，外界光线透射过程中容易和像素单元的驱动电路、信号走线等发生衍射，干扰透光区域的光线透过率，进而降低了成像品质。

如图1至图5所示，本发明一实施例中提供一种显示面板100，其包括第一显示区10和与第一显示区10相邻的第二显示区20，第一显示区10的光透光率大于第二显示区20的光透过率，第一显示区10包括多个透光区101和多个第一像素单元设置区102，多个第一像素单元设置区包括多个第一像素单元；显示面板100包括：衬底基板30和遮光层40，遮光层40包括第一遮光部41，第一遮光部41位于多个第一像素单元和衬底基板30之间，第一遮光部41包括多个第一遮光图案412，多个第一遮光图案412在衬底基板30上正投影和多个第一像素单元在衬底基板30上的正投影重合。

本实施例中提供的显示面板100适用于需要在屏下设置传感器的显示装置，其中，传感器可以为摄像头。由于摄像头对光线要求较高，与摄像头相对的第一显示区10需要满足较高的光线透过率。另外，摄像头接收光线的孔径一般设置为圆形，因此，图1中示例性的绘示第一显示区10为圆形区域，但不以此为限。

如图2所示，第一显示区10包括多个透光区101和多个像素单元设置区102,每个像素单元设置区102中可以设置至少一个像素单元，用于实现第一显示区10的正常显示；透光区101用于透过外界光线，以使屏下摄像头成像。可以理解的是，当摄像头用于采集图像时，关闭第一显示区10的正常显示功能，此时，第一显示区10显示为透明状态。

本实施例中，由于每个像素单元中需要设置相应的发光元件、驱动电路以及信号走线，因此，任意两两相邻的四个像素单元设置区102之间的区域被界定为透光区101。

如图2至图5所示，遮光层40的第一遮光部41包括多个第一遮光图案412，多个第一遮光图案412在衬底基板30上正投影和多个第一像素单元在衬底基板30上的正投影重合。由于第一遮光图案412的遮挡作用，可以有效避免第一显示区10内光线透射过程中的衍射，降低透光区101内的光衍射程度，进而克服第一显示区10的光线透过率低，摄像头成像图像不佳的问题。

其中，显示面板100的第一显示区10中的多个第一像素单元的驱动电路和信号走线例如是直接形成在多个第一像素单元设置区102中，第一遮光图案412用于遮挡对应的驱动电路和信号走线。另外，第一遮光图案412在衬底基板10上的正投影和第一像素单元的驱动电路和信号走线在衬底基板10上的正投影完全重合或者至少部分重合。

本实施例中，第一遮光部41包括多个第一遮光图案412和多个第一镂空区411，每一第一镂空区411和每一第一遮光图案412相邻，且每一第一镂空区411和每一透光区101相对，用于供外界光线透射至第一显示区10内，被摄像头识别成像。

显示面板100中，第二显示区20包括多个第二像素单元设置区（未图示），多个第二像素单元设置区包括多个第二像素单元（未图示），多个第二像素单元设置于衬底基板30的一侧，多个第二像素单元在第二显示区20内的排布密度大于多个第一像素单元在第一显示区10内的排布密度，即，第二显示区20为正常显示区域，第一显示区10为屏下摄像显示区域。

如图4所示，遮光层40还包括与第一遮光部41相邻的第二遮光部42，第二遮光部42在衬底基板30上的正投影与第二显示区20重合，其用于遮挡外界环境中的光线自衬底基板30进入第二显示区20内引起第二显示区20内的多个第二像素单元的发光特性改变，进而改善第二显示区20内的显示品质。

其中，上述第二遮光部42可以是整面的膜层结构，例如覆盖于衬底基板30的第一表面上，但不以此为限。

在一较佳的实施方式中，第二遮光部42还包括多个第二遮光图案（未图示），多个第二遮光图案在衬底基板30上的正投影和多个第二像素单元在衬底基板30上的正投影重合。

在本发明的其他实施方式中，显示面板还可以包括与第二显示区相邻的第三显示区，第三显示区复用为屏下指纹识别区；在衬底基板的厚度方向上，遮光层的第三遮光部与第三显示区相对，第三遮光部不设置遮光图案，形成开孔，开孔用于增加第三显示区中光线的透过率，提高屏下指纹识别区的光学传感器的成像品质。较佳的，第三显示区还包括未设置走线的多个透光区域，第三遮光部中包括多个开孔，多个开孔在衬底基板上正投影和多个透光区域的正投影重合。

如图4所示，本实施例中提供的显示面板100中，衬底基板30例如是柔性透明基板；其中，遮光层40覆盖衬底基板30的第一表面上，第一表面为衬底基板30靠近多个第一像素单元和多个第二像素单元的一侧表面。

如图6所示，在本发明另一实施例中提供的显示面板200中，衬底基板30例如是柔性透明基板；遮光层240设置于衬底基板30的第二表面上，第二表面为衬底基板30远离多个第一像素单元和多个第二像素单元的一侧表面。

另外，遮光层240包括相邻的第一遮光部241和第二遮光部242，其中，第一遮光部241和第二遮光部242具有与上述显示面板100中的第一遮光部41和第二遮光部42相同的结构，可参照上述第一遮光部41和第二遮光部42的说明，不另赘述。

如图7所示，在本发明又一实施例中提供的显示面板300中，衬底基板310例如是多层结构的柔性透明基板，多层柔性透明基板包括层叠设置的上层基板312和下层基板311，遮光层340夹设于上层基板312和下层基板311之间。

另外，遮光层340包括相邻的第一遮光部341和第二遮光部42，其中，第一遮光部341和第二遮光部342具有与上述显示面板100中的第一遮光部41和第二遮光部42相同的结构，可参照上述第一遮光部41和第二遮光部42的说明，不另赘述。

此外，上述图4、图6和图7中相同的标号代表相同的元件，具有相似的功能。

在一优选的实施方式中，衬底基板30例如是聚酰亚胺柔性透明基板。

在一优选的实施方式中，上述遮光层40、240、340可以是金属遮光层、非晶硅（a-Si）遮光层、有机树脂遮光层中一种或者多种的其组合。即，遮光层为多层结构，多层结构包括金属遮光层、非晶硅遮光层、有机树脂遮光层中一种或者多种的层叠形成的多层结构的遮光层。

其中，有机树脂遮光层例如黄色吸光型遮光层。

另外，遮光层40、240、340还可以为预先单独制得的有机遮光膜或者金属遮光膜，遮光膜通过贴附的方式贴附于衬底基板30的第一表面或者第二表面上。

当遮光层40、240、340为非晶硅遮光层时，非晶硅遮光层例如是通过气相沉积的方式形成在柔性透明基板的表面或者多层柔性透明基板的内部，再藉由图案化工艺，在非晶硅遮光层的第一遮光部和第二遮光部分别形成对应的多个第一遮光图案和多个第二遮光图案。其中，多个第一遮光图案用于克服光线透射过程中的衍射，降低透光区内的光衍射程度；多个第二遮光图案用于克服从衬底基板一侧进入第二显示区内的光线对多个第二像素单元的发光特性的影响。

如图8所示，本发明还提供显示面板的制作方法1000，其包括：

提供衬底基板；

形成遮光层于所述衬底基板的至少一侧表面或者所述衬底基板的内部；

图案化所述遮光层的第一遮光部形成多个第一遮光图案；以及

于所述多个第一遮光图案上方形成多个第一像素单元；

其中，所述多个第一遮光图案在所述衬底基板上的正投影和所述多个第一像素单元在所述衬底基板上的正投影重合。

在一较佳的实施方式中，显示面板的制作方法1000还包括：

图案化所述遮光层中与所述第一遮光部相邻的第二遮光部，形成多个第二遮光图案；

于所述第二遮光图案的上方形成多个第二像素单元；

其中，所述多个第二像素单元在所述衬底基板上的正投影和所述多个第二遮光图案在所述衬底基板上的正投影重合。

以下将结合图9至图14，详细说明上述显示面板的制作方法1000的过程。

图9至图14中所示的衬底基板例如是柔性聚酰亚胺透明基板，其为双层结构，包括下层聚酰亚胺薄膜1200和上层聚酰亚胺薄膜1600。

首先，提供支撑基板1100，在支撑基板1100一侧的表面上采用涂布、固化的方式形成下层聚酰亚胺薄膜1200；

其次，在下层聚酰亚胺膜层1200的上方形成第一阻隔层1300，其中，第一阻隔层1300为透明膜层，其具有高的水氧阻隔能力，用于防止空气中的水与氧气渗透到显示面板中分解OLED层中的OLED材料，降低显示面板的寿命；

接着，在第一阻隔层1300上方形成非晶硅遮光层1400，非晶硅遮光层1400例如是采用物理气相沉积法（PVD）、化学气相沉积法（CVD）、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)等方式沉积在第一阻隔层1300上；

然后，在非晶硅遮光层1400上方涂布光刻胶，例如负性光刻胶（PR胶）1500，并图案化负性光刻胶1500和显示面板的第一显示区对应的第一区域1501，使得负性光刻胶的第一区域1501上形成多个第一光刻图案1502；

继续，以多个第一光刻图案1502为掩膜版（mask），将第一光刻图案1502投射到非晶硅遮光层1400的第一遮光部1401上，利用干法蚀刻工艺，在第一遮光部1401中获得多个第一遮光图案1402；

再然后，在图案化的非晶硅遮光层1400上方，采用涂布、固化的方式形成上层聚酰亚胺薄膜1600；

再然后，于上层聚酰亚胺薄膜1600上方形成第二阻隔层1700；

最后，在第二阻隔层1700的上方依序形成缓冲层、多个第一像素单元和多个第二像素单元的TFT-array层、OLED层和封装层。

本实施例中，柔性聚酰亚胺透明基板采用双层结构，双层结构包括上层聚酰亚胺薄膜1600和下层聚酰亚胺薄膜1200，且上层聚酰亚胺薄膜1600和下层聚酰亚胺薄膜1200的中间层叠非晶硅遮光层1400，非晶硅遮光层1400能够提高柔性聚酰亚胺透明基板的多次弯折的稳定性，从而避免了柔性基板与薄膜晶体管器件层之间应力失配的问题。

另外，由于对非晶硅遮光层1400的第一遮光部1401进行图案化形成多个第一遮光图案1402，且多个第一遮光图案1402在柔性聚酰亚胺透明基板上的正投影和显示面板的第一显示区内的多个第一像素单元在柔性聚酰亚胺透明基板上的正投影重合。一方面，图案化的第一遮光部1401可有效提高第一显示区内的多个透光区的光线透光率，便于其内的摄像头成像；另一方面，多个第一遮光图案1402可以有效避免光线透射过程中的衍射，降低透光区内的光衍射程度，有助于提高第一显示区内的摄像头成像品质。

本实施例中，图案化负性光刻胶1500的第一区域1501，使得第一区域1501上形成多个第一光刻图案1502过程，例如是采用黄光工艺的激光打码机，照射第一区域1501直接形成多个第一光刻图案1502；或者，在负性光刻胶1500上方设置掩膜版（未图示），通过曝光、显影的方式在第一区域1501中形成多个第一光刻图案1502。

需要说明的是，非晶硅遮光层1400还包括与第一遮光部1401相邻的第二遮光部1403；负性光刻胶1500还包括与第一区域1501相邻的第二区域1503；其中，先对第二区域1503进行图案化，获得多个第二光刻图案（未图示）；接着，以多个第二光刻图案为掩膜版，并将多个第二光刻图案投射到第二遮光部1403上，利用干法蚀刻工艺，在第二遮光部1403中获得多个第二遮光图案。

另外，图案化负性光刻胶1500的第二区域1503的方式和上述图案化负性光刻胶1500的第一区域1501的方式相同；图案化第二遮光部1403的方式与和图案化第一遮光部1401的方式相同。

本实施例中，显示面板的第一显示区中的多个第一像素单元形成在多个第一遮光图案的上方，可有效克服第一显示区的光衍射，提高摄像头的成像品质；而显示面板的第二显示区中的多个第二像素单元形成在多个第二遮光图案上方，可有效克服外界光线自柔性聚酰亚胺透明基板进入第二显示区内，提升第二显示区的显示品质。

在本发明的其他实施方式中，非晶硅遮光层还包括与第二遮光部相邻的第三遮光部，第三遮光部中包括多个开孔；负性光刻胶还包括与第二区域相邻的第三区域；其中，图案化第三区域形成多个另外的开孔，并藉由第三区域上的开孔，蚀刻第三遮光部形成多个开孔。较佳的，非晶硅遮光层的上述多个开孔处复用屏下指纹传感器设置区，多个开孔增加此处的光线透过率，提高屏下指纹识别的光学传感器的成像质量。

此外，上述以非晶硅遮光层1400设置于双层结构的柔性聚酰亚胺透明基板的中间为例进行说明，非晶硅遮光层1400形成多个第一遮光图案1402、多个第二遮光图案的过程，但不以此限。在本发明其他实施例中，非晶硅遮光层也可以是设置在柔性透明基板相对的上表面或下表面上，其中，采用与上述相似的图案化制程，同样可以制得相似的多个第一遮光图案、多个第二遮光图案。

非晶硅遮光层设置在柔性透明基板相对的第一表面或第二表面上，非晶硅遮光层可以是直接接触或者不直接接触柔性透明基板的第一表面或第二表面。当非晶硅遮光层不直接接触柔性透明基板的第一表面或第二表面，非晶硅遮光层和柔性透明基板的第一表面或第二表面之间设置阻隔层、缓冲层等膜层。

综上，本发明提供了一种显示面板及其制作方法，显示面板包括用于透明显示的第一显示区、衬底基板和遮光层，将遮光层的第一遮光部中的多个第一遮光图案在衬底基板上的正投影与第一显示区的多个第一像素单元在衬底基板上的正投影重合，可有效避免光线透射过程中的衍射，降低透光区内的光衍射程度，提高第一显示区内的传感器的成像品质。

另外，显示面板还包括与第一显示区相邻的第二显示区；遮光层还包括与第一遮光部相邻的第二遮光部；第二遮光部遮挡于第二显示区的一侧，用于避免外界光线自衬底基板进入第二显示区的多个第二像素单元中，提升第二显示区的显示品质。

用新型的范例。此外，上面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。必需指出的是，本发明还可有其他多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。