基站、清洁设备及控制方法

文档序号:1958671 发布日期:2021-12-14 浏览:17次 >En<

阅读说明:本技术 基站、清洁设备及控制方法 (Base station, cleaning device and control method ) 是由 孙建 于 2021-09-07 设计创作,主要内容包括:本申请实施例提供一种基站。包括基站本体,设置于所述基站本体中的第一控制模块、与所述第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;所述第一检测模块,用于检测清洁设备是否放置于所述基站本体上;所述第一控制模块,用于若所述第一检测模块检测清洁设备放置于所述基站本体上,控制所述除菌模块运行;所述除菌模块,用于对所述清洁设备的滚刷进行除菌。本申请实施例提供的技术方案实现了对清洁设备的滚刷自动除菌。(The embodiment of the application provides a base station. The base station comprises a base station body, a first control module arranged in the base station body, a first detection module connected with the first control module and a sterilization module; the first detection module is used for detecting whether cleaning equipment is placed on the base station body; the first control module is used for controlling the sterilization module to operate if the first detection module detects that the cleaning equipment is placed on the base station body; and the sterilizing module is used for sterilizing the rolling brush of the cleaning equipment. The technical scheme provided by the embodiment of the application realizes automatic degerming of the rolling brush of the cleaning equipment.)

基站、清洁设备及控制方法

技术领域

本申请实施例涉及清洁领域,尤其涉及一种基站、清洁设备及控制方法。

背景技术

清洁设备是一种可以提供清洁功能的设备,在日常生活中有广泛的应用,如清洁地面的清洗机、吸尘器等。以清洗机为例,清洗机的设备本体上设置有滚刷,进行清洁作业时,设备会不停地把清水喷到滚刷上,打湿滚刷来清洁地面。由于在上述清洁过程中,滚刷通常是打湿的状态,容易发霉,滋生细菌。

发明内容

本申请实施例提供一种基站、清洁设备及控制方法,用以解决清洁设备的滚刷容易发霉的问题。

第一方面,本申请实施例中提供了一种基站,包括基站本体,设置于所述基站本体中的第一控制模块、与所述第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;

所述第一检测模块,用于检测清洁设备是否放置于所述基站本体上;

所述第一控制模块,用于若所述第一检测模块检测清洁设备放置于所述基站本体上,控制所述除菌模块运行;

所述除菌模块,用于对所述清洁设备的滚刷进行除菌。

第二方面,本申请实施例中提供了一种清洁设备,包括设备本体,设置于所述设备本体中的滚刷,以及设置于所述设备本体中的与基站中第一检测模块对应的接触位置处的触发部件;其中,所述基站包括基站本体,设置于所述基站本体中的第一控制模块、与所述第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;

所述触发部件,用于在所述设备本体放置于所述基站本体上时,与所述第一检测模块接触或感应以产生触发信息,使得所述第一检测模块基于所述触发信息,检测所述清洁设备放置于所述基站本体上,由所述第一控制模块控制所述除菌模块运行,以对所述滚刷进行除菌。

第三方面,本申请实施例中提供了一种控制方法,应用于基站,所述基站包括基站本体,设置于基站本体中的第一控制模块、与所述第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;清洁设备置于所述基站本体上通过负责对外喷洒第一液体的流体供应装置以及负责回收由所述第一液体产生的第二液体的回收装置,对滚刷进行清洁;

所述方法包括:

利用所述第一检测模块检测清洁设备是否放置于所述基站本体上;

若是,控制所述除菌模块运行;

利用所述除菌模块,对所述清洁设备的滚刷进行除菌。

本申请实施例提供的基站,基站本体中设置有与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块,第一检测模块可以检测清洁设备是否放置于基站本体上,若检测放置于基站本体上,第一控制模块可以控制除菌模块运行,以对清洁设备的滚刷进行除菌,实现了清洁设备放置在基站本体上进行充电时对滚刷自动除菌,无需拆除滚刷,也无需用户手动操作,避免出现用户忘记手动拆除滚刷进行除菌时,导致滚刷发霉的情况,提高了除菌效率,提升了用户的使用体验。

本申请的这些方面或其他方面在以下实施例的描述中会更加简明易懂。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本申请提供的一种基站一个实施例的结构示意图;

图2示出了本申请提供的一种紫外光发射装置一个实施例的正视图;

图3示出了本申请提供的一种紫外光发射装置一个实施例的侧视图;

图4示出了本申请提供的一种紫外光发射装置另一个实施例的侧视图;

图5示出了本申请提供的一种紫外光发射装置又一个实施例的侧视图;

图6示出了本申请提供的一种基站另一个实施例的结构示意图;

图7示出了本申请提供的一种发热装置一个实施例的侧视图;

图8示出了本申请提供的一种清洁设备一个实施例的结构示意图;

图9示出了本申请提供的一种控制方法一个实施例的流程图;

图10示出了本申请提供的一种控制方法另一个实施例的流程图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

在本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的描述的一些流程中,包含了按照特定顺序出现的多个操作,但是应该清楚了解,这些操作可以不按照其在本文中出现的顺序来执行或并行执行,操作的序号如101、102等,仅仅是用于区分开各个不同的操作,序号本身不代表任何的执行顺序。另外,这些流程可以包括更多或更少的操作,并且这些操作可以按顺序执行或并行执行。需要说明的是,本文中的“第一”、“第二”等描述,是用于区分不同的消息、设备、模块等,不代表先后顺序,也不限定“第一”和“第二”是不同的类型。

本申请适用于对滚刷进行除菌的应用领域。滚刷是清洁设备中重要的组成部分,以清洁设备是清洗机为例,清洗机的设备本体上设置有滚刷,进行清洁作业时,设备会不停地把清水喷到滚刷上,打湿滚刷来清洁地面。在上述清洁过程中,滚刷通常是打湿的状态,容易发霉,滋生细菌。

传统的方案中,通常需要用户手动拆除滚刷后,对滚刷进行除菌。由于滚刷的拆除及安装过程较繁琐,上述除菌方法效率较低。并且,若用户忘记对滚刷进行除菌,导致滚刷发霉,将影响清洁设备的使用。

因此,为了解决上述问题,发明人提出了本申请的技术方案,即提供一种基站,包括基站本体,设置于所述基站本体中的第一控制模块、与所述第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;所述第一检测模块,用于检测清洁设备是否放置于所述基站本体上;所述第一控制模块,用于若所述第一检测模块检测清洁设备放置于所述基站本体上,控制所述除菌模块运行;所述除菌模块,用于对所述清洁设备的滚刷进行除菌。

本申请提供的基站,基站本体中设置有与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块,第一检测模块可以检测清洁设备是否放置于基站本体上,若检测放置于基站本体上,第一控制模块可以控制除菌模块运行,以对清洁设备的滚刷进行除菌,实现了清洁设备放置在基站本体上进行充电时对滚刷自动除菌,无需拆除滚刷,也无需用户手动操作,避免出现用户忘记手动拆除滚刷进行除菌时,导致滚刷发霉的情况,提高了除菌效率,提升了用户的使用体验。

下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。

如图1所示,为本申请提供的一种基站一个实施例的结构示意图,包括基站本体。基站本体中设置有第一控制模块101,与第一控制模块101连接的第一检测模块102及除菌模块103。

其中,第一检测模块102,可以用于检测清洁设备是否放置于基站本体上;

第一控制模块101,可以用于若第一检测模块102检测清洁设备放置于基站本体上,控制除菌模块103运行;

除菌模块103,可以用于对清洁设备的滚刷进行除菌。

基站可以是提供充电功能的设备,向其它设备供电。本实施例中,基站可以向清洁设备供电。其中,清洁设备可以是设置有滚刷的清洁设备,如清洗机、吸尘器、扫地机器人等。基站可以包括基站本体,基站本体接通电源,当清洁设备放置在基站本体上时,向清洁设备供电。

基站本体中设置有第一检测模块和第一控制模块。其中,第一检测模块与第一控制模块连接,可以检测清洁设备是否放置于基站本体上,并将检测结果发送至第一控制模块。第一控制模块根据第一检测结果的检测结果,若确定清洁设备放置于基站本体上,可以控制基站本体向清洁设备供电。在实际应用中,第一控制模块可以实现为微控制单元(MicrocontrollerUnit,简称MCU)、微处理器、单片机等。

本实施例中,基站本体中还设置有除菌模块。除菌模块与第一控制模块连接,可以在第一控制模块的控制下运行,对清洁设备的滚刷进行除菌。具体的,第一控制模块可以根据第一检测结果的检测结果,确定清洁设备放置于基站本体上,控制除菌模块运行。其中,除菌模块可以有多种实现方式,将在后续实施例中进行说明,此处不进行赘述。

本申请提供的基站,基站本体中设置有与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块,第一检测模块可以检测清洁设备是否放置于基站本体上,若检测放置于基站本体上,第一控制模块可以控制除菌模块运行,以对清洁设备的滚刷进行除菌,实现了清洁设备放置在基站本体上进行充电时对滚刷自动除菌,无需拆除滚刷,也无需用户手动操作,避免出现用户忘记手动拆除滚刷进行除菌时,导致滚刷发霉的情况,提高了除菌效率,提升了用户的使用体验。

由于紫外光具有杀菌消毒的作用,在某些实施例中,除菌模块可以包括至少一个紫外光发射装置,可以用于发射紫外光照射滚刷;

第一控制模块具体可以用于若第一检测模块检测清洁设备放置于基站本体上,控制至少一个紫外光发射装置运行。

其中,至少一个紫外光发射装置可以在第一控制模块的控制下运行,发射紫外光。发射的紫外光照射到滚刷,进行除菌。在实际应用中,紫外光发射装置可以包括紫外线灯管,紫外LED灯等。

可选的,除菌模块还可以包括中空的聚光装置,用于将至少一个紫外光发射装置发射的紫外光导向滚刷。该聚光装置可以实现为聚光罩。

其中,紫外光发射装置和聚光装置的设置可以有多种实现方式。作为一种可选的实现方式,至少一个紫外光发射装置可以设置于聚光装置的第一端,清洁设备放置于基站本体上时,滚刷位于聚光装置的第二端;聚光装置的第二端设置有与滚刷接触位置形状匹配的透明盖,聚光装置的侧面不透光。

具体的,至少一个紫外光发射装置可以线性设置形成至少一列紫外光发射装置,每列紫外光发射装置与滚刷轴线平行。

图2示出了一种紫外光发射装置一个实施例的正视图。其中,至少一个紫外光发射装置1031线性设置形成一列紫外光发射装置,且与滚刷a的轴线X平行,相邻两个紫外光发射装置1031照射滚刷a的区域存在重叠。可选的,至少一个紫外光发射装置间隔线性设置,其中,相邻两个紫外光发射装置的间隔可以根据实际情况进行设定,确保相邻两个紫外光发射装置照射滚刷的区域存在重叠。

如图2所示,聚光装置1032中空,至少一个紫外光发射装置1031设置于聚光装置1032的第一端,清洁设备放置于基站本体上时,滚刷a位于聚光装置1032的第二端。图3示出了一种紫外光发射装置一个实施例的侧视图,结合图3,聚光装置1032的第二端设置有与滚刷a接触位置形状匹配的透明盖10321,可以起到导光且防水的作用。聚光装置1032的侧面不透光,避免紫外光外泄,照射到人体造成伤害。

可选的,结合图2及图3的示意图,聚光装置1032第二端的长度可以等于滚刷的轴向长度,并大于第一端的长度,第二端的宽度可以等于滚刷的径向直径,并大于第一端的宽度。

为了增大紫外光照射滚刷的面积,提高照射效率,紫外光发射装置可以倾斜预设角度设置,优选与滚刷轴线的夹角为30度——60度,使得相邻两个紫外光发射装置发射紫外光的光路交叉,增大相邻两个紫外光发射装置照射滚刷的重叠区域。

可选的,紫外光发射装置可以包括透明的导光部件以及紫外光发射器。导光部件与紫外光发射器一一对应设置,紫外光发射器位于导光部件的第一端,清洁设备放置于基站本体上时,导光部件的第二端朝向滚刷,各紫外光发射器发射的紫外光由导光部件导向滚刷,使得相邻两个紫外光发射器照射滚刷的区域存在重叠。可选的,导光部件可以倾斜预设角度设置,优选与滚刷轴线的夹角为30度——60度,使得相邻两个紫外光发射器发射紫外光的光路交叉,增大相邻两个紫外光发射器照射滚刷的重叠区域,增大照射面积,提高照射效率。

图4示出了一种紫外光发射装置另一个实施例的侧视图。其中,至少一个紫外光发射装置1031部署在两个电路板上,形成两列紫外光发射装置,两个电路板具有夹角。每列紫外光发射装置中,相邻两个紫外光发射装置1031照射滚刷的区域存在重叠。两个电路板设置于聚光装置1032的第一端,清洁设备放置于基站本体上时,滚刷a位于聚光装置1032的第二端。聚光装置1032的第二端设置有与滚刷a接触位置形状匹配的透明盖10321,起到导光且防水的作用。聚光装置1032的侧面不透光,避免紫外光外泄,照射到人体造成伤害。由于两个电路板具有夹角,两列紫外光发射装置照射的角度不平行,可以实现两列光路交叉,增大照射面积。具体的,该夹角可以根据实际情况进行设定,优选与滚刷轴线的夹角为30度——60度。可选的,两个电路板也可以平行设置。

可选的,每列紫外光发射装置中,各紫外光发射装置间隔线性设置,相邻两个紫外光发射装置的间隔可以根据实际情况进行设定,使得相邻两个紫外光发射装置照射滚刷的区域存在重叠。

作为紫外光发射装置和聚光装置的设置中另一种可选的实现方式,图5示出了一种紫外光发射装置又一个实施例的侧视图。其中,至少一个紫外光发射装置1031线性设置形成两列紫外光发射装置,每列紫外光发射装置中,相邻两个紫外光发射装置1031照射滚刷的区域存在重叠。聚光装置1032的第一端设置有凹槽,两列紫外光发射装置分别位于凹槽两侧,清洁设备放置于基站本体上时,滚刷a处于凹槽中,且位于两列紫外光发射装置的中间。此时,两列紫外光发射装置发射的紫外光由聚光装置照射滚刷,照射区域可以达到滚刷侧面积的一半,照射效率较高。凹槽设置有与滚刷a接触位置形状匹配的透明盖10321,起到导光且防水的作用。聚光装置1032的侧面不透光,避免紫外光外泄,照射到人体造成伤害。

在实际应用中,除可以利用紫外光照射滚刷进行除菌外,还可以对滚刷进行高温除菌。因此,在某些实施例中,该除菌模块可以包括发热部件,用于产生热量以加热滚刷。可选的,该发热部件可以实现为PTC发热体。

利用除菌模块进行除菌之前,为了确保除菌对象是清洁设备的滚刷,而不是其它对象,在某些实施例中,该清洁设备中,与第一检测模块对应的接触位置处可以设置有触发部件。

此时,第一检测模块具体可以是检测到与触发部件接触而产生的触发信息,确定清洁设备放置于基站本体上。

其中,该第一检测模块和触发部件的设置可以有多种实现方式。作为一种可选的实现方式,第一检测模块可以包括磁场传感器,触发部件可以实现为磁铁。该磁场传感器可以检测到与磁铁接触产生的磁场强度信息,从而确定清洁设备放置于基站本体上。具体的,该磁场传感器可以实现为霍尔传感器。

作为另一种可选的实现方式,第一检测模块可以实现为微动开关,触发部件可以实现为金属接触片。微动开关可以基于金属接触片的作用力确定清洁设备放置于基站本体上。

为了实现对滚刷进行全方位除菌,以除菌模块是紫外光发射装置为例,在除菌过程中,清洁设备的滚刷可以转动,使紫外光发射装置发射的紫外光可以照射滚刷的各区域。可选的,第一检测模块还可以检测清洁设备的电量是否支持滚刷转动,若支持,第一控制模块控制除菌模块运行。其中,滚刷转动的具体实现将在后续实施例中进行说明,此处不进行赘述。

在实际应用中,若清洁设备脱离基站本体,则不再进行除菌。可选的,第一控制模块还可以根据若第一检测模块检测清洁设备脱离基站本体,控制除菌模块停止运行。

可选的,还可以对除菌时间进行设置。例如,除菌时间可以为10分钟、20分钟等。第一控制模块可以在除菌模块运行达到除菌时间后,控制除菌模块停止运行,除菌结束。

除菌结束后,若清洁设备短暂脱离基站本体后,又重新放回,此时不再进行除菌。因此,在某些实施例中,第一控制模块还用于若第一检测模块检测清洁设备脱离基站本体后,再次放置于基站本体上的时间间隔大于预设时间间隔,控制除菌模块运行。其中,该预设时间间隔可以根据实际应用场景进行设置,如设置为3分钟、5分钟等。

为了便于用户操作,基站还可以设置有开关模块,用于响应用户触发的除菌或停止操作,向第一控制模块发送除菌或停止指令,第一控制模块可以基于该除菌或停止指令,控制除菌模块运行或停止运行。

在实际应用中,为了便于用户观察除菌模块的运行状态,以除菌模块是紫外光发射装置为例,基站还可以设置有与第一控制模块连接的紫外光发射指示灯。

此时,第一控制模块还可以用于控制紫外光发射指示灯指示除菌模块的运行状态。例如,第一控制模块可以控制除菌模块运行时,指示灯显示绿色;除菌模块停止运行时,指示灯显示红色等,此处不进行具体限制。

在实际应用中,还可以对滚刷进行烘干。如图6所示,为本申请提供的一种基站另一个实施例的结构示意图,该设备本体还包括发热模块104,用于产生热量,以加热滚刷;

此时,第一控制模块101还可以用于若第一检测模块102检测清洁设备放置于基站本体上,控制发热模块104运行。

可选的,发热模块可以包括发热装置,如PTC发热体。图7示出了一种发热装置一个实施例的侧视图,发热装置1041位于聚光装置1032下方,聚光装置1032可以为耐温结构。

如图8所示,为本申请提供的一种清洁设备一个实施例的结构示意图,包括设备本体。设置于设备本体中的滚刷a,以及设置于设备本体中的与基站中第一检测模块对应的接触位置处的触发部件b;其中,基站包括基站本体,设置于基站本体中的第一控制模块、与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块。

该触发部件b,用于在设备本体放置于基站本体上时,与第一检测模块接触或者感应以产生触发信息,使得第一检测模块基于触发信息,检测清洁设备放置于基站本体上,由第一控制模块控制除菌模块运行,以对滚刷进行除菌。

实际应用中,清洁设备的设备本体可以包括滚刷,以及负责对外喷洒第一液体的流体供应装置和负责回收由第一液体产生的第二液体的回收装置。该设备可以利用流体供应装置对滚刷喷洒第一液体,以及利用回收装置回收由第一液体产生的第二液体,对滚刷进行清洁。其中,该第一液体可以为干净液体,如清水或掺杂有清洁剂的液体等,第二液体可以为清洁后产生的污浊液体等,本申请不进行具体限定。

清洁设备还可以包括触发部件,用于在设备本体放置于基站本体上时,与第一检测模块接触或者感应以产生触发信息,使得第一检测模块基于触发信息,检测清洁设备放置于基站本体上,由第一控制模块控制除菌模块运行,以对滚刷进行除菌。该触发部件的实现在前面实施例中进行进行了说明,此处不再进行赘述。

上述除菌过程可以在清洁设备对滚刷进行清洁的清洁过程中或清洁结束后进行。在一个可选的实施例中,基站本体可以检测清洁设备放置于基站本体上时,立即控制除菌模块运行,此时清洁设备也对滚刷进行清洁,除菌过程与清洁过程同时进行。在另一个可选的实施例中,基站本体可以检测清洁设备放置于基站本体上第一预设时间时,控制除菌模块运行,其中,该第一预设时间可以小于清洁设备的清洁时间,此时清洁设备仍在对滚刷进行清洁,除菌过程在清洁过程中进行。在又一个可选的实施例中,基站本体可以检测清洁设备放置于基站本体上第二预设时间时,控制除菌模块运行,其中,该第二预设时间可以大于清洁设备的清洁时间,此时清洁设备不再对滚刷进行清洁,除菌过程在清洁结束后进行,上述各预设时间可以根据实际情况进行设置。

以第一检测模块包括磁场传感器,第一控制模块包括电路板及导线,除菌模块包括紫外光灯管为例,图8中示出了磁场传感器c,电路板d,导线e及紫外光灯管f的示意图。

具体的,基站本体对清洁设备的滚刷进行除菌的过程在前面实施例中已进行了说明,此处不再进行赘述。下面将对除菌过程中,清洁设备的滚刷转动进行说明。

清洁设备的设备本体中还设置有第二控制模块,以及与第二控制模块连接的驱动模块和第二检测模块。

其中,第二检测模块,可以用于检测设备本体放置于基站本体上时,将充电检测结果发送至第二控制模块;

第二控制模块,可以用于基于充电检测结果,通过驱动模块控制滚刷转动。

设备本体放置于基站本体上时,基站本体对设备本体进行充电,此时可以开始除菌。具体的,第二检测模块具体可以是检测充电电压,将充电检测结果发送至第二控制模块,由第二控制模块控制驱动模块运行,驱动滚刷转动。其中,驱动模块可以实现为电机。

第二控制模块可以根据驱动模块的运行参数,按照运行参数控制驱动模块运行。其中,该运行参数可以包括滚刷转速、滚刷转动时间、滚刷转动圈数等。例如,滚刷转动时间为3分钟,3分钟内,滚刷可以保持低速匀速转动,转动达到10圈。滚刷转动期间,除菌模块对滚刷进行除菌。可选的,该运行参数可以由用户设置,第二控制模块可以用于基于充电检测结果,根据用户触发的参数设置指令,确定驱动模块的运行参数;按照运行参数,控制驱动模块运行。

为了提高除菌效果,上述运行参数可以包括运行次数、相邻两次运行之间的时间间隔及滚刷的预设转动角度。

此时,第二控制模块具体可以按照运行次数及时间间隔控制驱动模块运行,以及控制驱动模块每次运行时,滚刷的转动角度达到预设转动角度。

以除菌模块是紫外光发射装置为例,可以通过滚刷转动,实现对滚刷的均匀照射。滚刷是360度旋转的,紫外光照射的区域是有限的,为实现对滚刷的均匀照射除菌,第一种方法是在照射滚刷预定时间后再转动预定角度,例如,运行次数为6次,相邻两次运行之间的时间间隔为5分钟,滚刷的预设转动角度为60度,第二控制模块通过驱动模块控制滚刷每隔5分钟转动一次,每次转动60度,每次转动完成后,由紫外光发射装置照射对应区域,6次转动完成后,滚刷的各区域都实现了均匀照射,提高了除菌效果。可选的,在6次转动完成后,还可以在匀速转动一段时间,以防有未照射区域。第二种方法是滚刷旋转过程中一直被紫外光照射。因滚刷的旋转速度过快,因此在启动紫外光照射过程中,控制滚刷降低旋转速度,可以在预定的照射时间后结束,或者在滚刷旋转预定的圈数后结束照射。上述运行参数可以根据实际应用场景进行设定,不进行具体限制。

如图9所示,为本申请提供的一种控制方法一个实施例的流程图,应用于基站,该基站包括基站本体,设置于基站本体中的第一控制模块、与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;清洁设备置于基站本体上通过负责对外喷洒第一液体的流体供应装置以及负责回收由第一液体产生的第二液体的回收装置,对滚刷进行清洁;

该方法可以包括:

901:利用第一检测模块检测清洁设备是否放置于基站本体上;

902:若是,控制除菌模块运行;

903:利用除菌模块,对清洁设备的滚刷进行除菌。

本申请实施例中,基站本体中设置有与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块,第一检测模块可以检测清洁设备是否放置于基站本体上,若检测放置于基站本体上,第一控制模块可以控制除菌模块运行,以对清洁设备的滚刷进行除菌,实现了清洁设备放置在基站本体上进行充电时对滚刷自动除菌,无需拆除滚刷,也无需用户手动操作,避免出现用户忘记手动拆除滚刷进行除菌时,导致滚刷发霉的情况,提高了除菌效率,提升了用户的使用体验。

在某些实施例中,该除菌模块可以包括至少一个紫外光发射装置;

控制除菌模块运行的方法可以包括:

控制至少一个紫外光发射装置运行;

利用除菌模块,对清洁设备的滚刷进行除菌的方法可以包括:

利用至少一个紫外光发射装置发射紫外光照射滚刷。

在某些实施例中,该除菌模块还可以包括中空的聚光装置;

该方法还可以包括:

利用聚光装置将至少一个紫外光发射装置发射的紫外光导向滚刷。

在某些实施例中,清洁设备中,与第一检测模块对应的接触位置处设置有触发部件;

利用第一检测模块检测清洁设备是否放置于基站本体上的方法可以包括:

利用第一检测模块检测到与触发部件接触而产生的触发信息,确定清洁设备放置于基站本体上。

在某些实施例中,第一检测模块可以包括磁场传感器;触发部件可以为磁铁;

利用第一检测模块检测到与触发部件接触而产生的触发信息的方法可以包括:

利用磁场传感器检测到与磁铁接触产生的磁场强度信息。

在某些实施例中,除菌模块可以包括发热部件;

利用除菌模块,对清洁设备的滚刷进行除菌的方法可以包括:

利用发热部件产生热量以加热滚刷。

在某些实施例中,该基站还可以包括发热模块;

该方法还可以包括:

若利用第一检测模块检测清洁设备是否放置于基站本体上,控制发热模块运行;

利用发热模块产生热量,以加热滚刷。

在某些实施例中,该方法还可以包括:

若利用第一检测模块检测清洁设备脱离基站本体,控制除菌模块停止运行。

在某些实施例中,该方法还可以包括:

若利用第一检测模块检测清洁设备脱离基站本体后,再次放置于基站本体上的时间间隔大于预设时间间隔,控制除菌模块运行。

在某些实施例中,该基站还可以包括与第一控制模块连接的紫外光发射指示灯;

该方法还可以包括:

控制紫外光发射指示灯指示除菌模块的运行状态。

在某些实施例中,控制除菌模块运行的方法可以包括:

在清洁设备对滚刷进行清洁的清洁过程中或清洁结束后,控制除菌模块运行。

在某些实施例中,清洁设备控制滚刷在预设时间内按照预设速度持续转动,或者按照预设转动次数及相邻两次转动之间的时间间隔控制滚刷转动,且控制滚刷转动一次的转动角度达到预设转动角度;

利用除菌模块,对清洁设备的滚刷进行除菌的方法可以包括:

利用除菌模块,在滚刷按照预设速度持续转动过程中,对滚刷进行除菌,或者在滚刷相邻两次转动之间的时间间隔,对滚刷进行除菌。

图9所述的控制方法可以应用于上述实施例中的基站,其实现原理和技术效果不再赘述。

如图10所示,为本申请提供的一种控制方法另一个实施例的流程图,应用于清洁设备。该清洁设备包括设备本体,设置于设备本体中的滚刷,设置于设备本体中,与基站中第一检测模块对应的接触位置处的触发部件,负责对外喷洒第一液体的流体供应装置以及负责回收由第一液体产生的第二液体的回收装置;其中,基站包括基站本体,设置于基站本体中的第一控制模块、与第一控制模块连接的第一检测模块及除菌模块;

该方法可以包括:

1001:利用触发部件在设备本体放置于基站本体上时,与第一检测模块接触或感应以产生触发信息,使得第一检测模块基于触发信息,检测清洁设备放置于基站本体上,由第一控制模块控制除菌模块运行,以对滚刷进行除菌;

1002:利用流体供应装置对滚刷喷洒第一液体,以及利用回收装置回收由第一液体产生的第二液体,对滚刷进行清洁。

在某些实施例中,该方法还可以包括:

控制滚刷在预设时间内按照预设速度持续转动,或者按照预设转动次数及相邻两次转动之间的时间间隔控制滚刷转动,且控制滚刷转动一次的转动角度达到预设转动角度。

图10所述的控制方法可以应用于上述实施例中的清洁设备,其实现原理和技术效果不再赘述。

在一个可能的设计中,上述清洁设备可以实现为清洗机,基站为与清洗机对应的基站,其中,相应的原理和技术效果可以参考清洁设备及基站的相应说明,此处不再进行赘述。

应用场景一:

清洗机设置有滚刷及磁铁,清洁作业完成后,放置于基站上进行充电。基站上设置有第一控制模块、霍尔传感器、至少一个紫外光发射装置及聚光罩。霍尔传感器设置于基站上,与清洗机放置于基站上时磁铁对应的位置,至少一个紫外光发射装置间隔线性设置,且与滚刷轴线平行,相邻两个紫外光发射装置照射滚刷的区域存在重叠,至少一个紫外光发射装置设置于聚光罩的第一端,清洗机放置于基站上时,滚刷位于所述聚光罩的第二端;聚光罩将紫外光发射装置发射的紫外光照射滚刷,聚光罩的第二端设置有与滚刷接触位置形状匹配的透明盖,起到导光且防水的作用,聚光罩的侧面不透光,以防紫外光外泄,照射人体造成伤害。

霍尔传感器检测清洗机的磁铁贴近,确定清洗机放置于基站上,第一控制模块根据霍尔传感器的检测结果,控制至少一个紫外光发射装置运行,发射紫外光照射清洗机的滚刷,对滚刷进行除菌。

应用场景二:

清洗机设置有滚刷及磁铁,清洁作业完成后,放置于基站上进行充电。基站上设置有第一控制模块、霍尔传感器、至少一个紫外光发射装置及聚光罩。霍尔传感器设置于基站上,与清洗机放置于基站上时磁铁对应的位置,至少一个紫外光发射装置线性部署在两个电路板上,形成两列紫外光发射装置,每列紫外光发射装置与滚刷轴线平行,两个电路板具有夹角,设置于聚光罩的第一端,清洗机放置于基站上时,滚刷位于聚光罩的第二端;聚光罩将紫外光发射装置发射的紫外光照射滚刷,聚光罩的第二端设置有与滚刷接触位置形状匹配的透明盖,起到导光且防水的作用,聚光罩的侧面不透光,以防紫外光外泄,照射人体造成伤害。

霍尔传感器检测清洗机的磁铁贴近,确定清洗机放置于基站上,第一控制模块根据霍尔传感器的检测结果,控制至少一个紫外光发射装置运行,发射紫外光照射清洗机的滚刷,对滚刷进行除菌。

应用场景三:

清洗机设置有滚刷及磁铁,清洁作业完成后,放置于基站上进行充电。基站上设置有第一控制模块、霍尔传感器、至少一个紫外光发射装置及聚光罩。霍尔传感器设置于基站上,与清洗机放置于基站上时磁铁对应的位置,至少一个紫外光发射装置线性设置形成两列紫外光发射装置,每列紫外光发射装置与滚刷轴线平行,聚光罩的第一端设置有凹槽,两列紫外光发射装置分别位于凹槽两侧,清洗机放置于基站上时,滚刷处于凹槽中时位于两列紫外光发射装置的中间;聚光罩将紫外光发射装置发射的紫外光照射滚刷,凹槽设置有与滚刷接触位置形状匹配的透明盖,起到导光且防水的作用,聚光罩的侧面不透光,以防紫外光外泄,照射人体造成伤害。

霍尔传感器检测清洗机的磁铁贴近,确定清洗机放置于基站上,第一控制模块根据霍尔传感器的检测结果,控制至少一个紫外光发射装置运行,发射紫外光照射清洗机的滚刷,对滚刷进行除菌。

应用场景四:

清洗机设置有第二控制模块、电机、滚刷及磁铁,清洁作业完成后,放置于基站上进行充电。基站上设置有第一控制模块、霍尔传感器、至少一个紫外光发射装置及聚光罩。霍尔传感器设置于基站上,与清洗机放置于基站上时磁铁对应的位置,至少一个紫外光发射装置间隔线性设置,且与滚刷轴线平行,相邻两个紫外光发射装置照射滚刷的区域存在重叠,至少一个紫外光发射装置设置于聚光罩的第一端,清洗机放置于基站上时,滚刷位于所述聚光罩的第二端;聚光罩将紫外光发射装置发射的紫外光照射滚刷,聚光罩的第二端设置有与滚刷接触位置形状匹配的透明盖,起到导光且防水的作用,聚光罩的侧面不透光,以防紫外光外泄,照射人体造成伤害。

霍尔传感器检测清洗机的磁铁贴近,确定清洗机放置于基站上,基站中的第一控制模块根据霍尔传感器的检测结果,控制至少一个紫外光发射装置运行,发射紫外光照射清洗机的滚刷。清洁设备中的第二控制模块通过电机控制滚刷转动。例如,第二控制模块通过电机控制滚刷每隔5分钟转动1次,每次转动60度,每次转动完成后,由紫外光发射装置照射对应区域,转动6次后,滚刷的各区域都接收紫外光照射,实现了均匀照射,提高除菌效果。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,上述描述的系统,装置和单元的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。

以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性的劳动的情况下,即可以理解并实施。

通过以上的实施例的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到各实施例可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件。基于这样的理解,上述技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品可以存储在计算机可读存储介质中,如ROM/RAM、磁碟、光盘等,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机,服务器,或者网络设备等)执行各个实施例或者实施例的某些部分所述的方法。

最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本申请的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

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