阅读说明：本技术 一种多晶硅电池片链式背抛光设备 (Chain type back polishing equipment for polycrystalline silicon battery piece ) 是由 赵华飞 于 2021-08-11 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种多晶硅电池片链式背抛光设备,包括机架、集水槽、辅助输送辊、水喷淋板、除湿输送辊、吸湿护套、第一反应液槽、带液输送辊、带液凹槽、第二反应液槽、抛光输送辊、抛光凹槽、水洗槽、水洗输送网、下水洗辊、上水洗辊、喷水孔和烘干机构。本发明能够保证电池的效率和稳定性,保证正面无酸腐蚀,不易形成刻蚀印而影响外观,还能降低酸使用量、漏电比例低、背抛光效果好。(The invention discloses a chain type back polishing device for a polycrystalline silicon cell, which comprises a rack, a water collecting tank, an auxiliary conveying roller, a water spray plate, a dehumidifying conveying roller, a moisture absorbing sheath, a first reaction liquid tank, a liquid carrying conveying roller, a liquid carrying groove, a second reaction liquid tank, a polishing conveying roller, a polishing groove, a water washing tank, a water washing conveying net, a lower water washing roller, an upper water washing roller, a water spray hole and a drying mechanism. The invention can ensure the efficiency and stability of the battery, ensure that the front surface has no acid corrosion, is not easy to form etching print to influence the appearance, can also reduce the use amount of acid, has low electric leakage ratio and good back polishing effect.)

一种多晶硅电池片链式背抛光设备

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技术领域

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本发明涉及电池片生产的技术领域，特别是一种多晶硅电池片链式背抛光设备的技术领域。

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背景技术

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太阳能是一种绿色环保的能源，电池片可以将太阳光直接转换成电能，其发电原理是PN结的光生伏特效应。目前常规电池工艺受到技术限制，转换效率已经没有太大提升空间，电池转换效率必须依靠升级现有的技术和新的电池结构类型。目前行业内PERC电池技术无疑是最有效提升效率手段，而PERC电池核心技术之一是背抛工艺，PERC电池背抛要求是电池片背面整面绒面光滑、一致性、反射率高等要求。现有的背抛技术一般采用Schmid刻蚀工艺，存在的硅片背部绒面不均匀及耗酸量大的问题。

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发明内容

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本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种多晶硅电池片链式背抛光设备，能够保证电池的效率和稳定性，保证正面无酸腐蚀，不易形成刻蚀印而影响外观，还能降低酸使用量、漏电比例低、背抛光效果好。

为实现上述目的，本发明提出了一种多晶硅电池片链式背抛光设备，包括机架、集水槽、辅助输送辊、水喷淋板、除湿输送辊、吸湿护套、第一反应液槽、带液输送辊、带液凹槽、第二反应液槽、抛光输送辊、抛光凹槽、水洗槽、水洗输送网、下水洗辊、上水洗辊、喷水孔和烘干机构，所述机架左侧设置有集水槽，所述集水槽上方设置有若干辅助输送辊，所述辅助输送辊的正上方平行设置有水喷淋板，所述辅助输送辊的右侧设置有除湿输送辊，所述除湿输送辊上可拆卸设置有吸湿护套，所述集水槽的右侧设置有第一反应液槽，所述第一反应液槽内设置有若干顶部与液面平齐的带液输送辊，所述带液输送辊上分布有若干带液凹槽，所述第一反应液槽的右侧设置有第二反应液槽，所述第二反应液槽内设置有若干顶部与液面平齐的抛光输送辊，所述抛光输送辊上分布有若干抛光凹槽，所述第二反应槽的右侧设置有水洗槽，所述水洗槽内设置有水洗输送网，所述水洗输送网上下对称设置有下水洗辊和上水洗辊，所述上水洗辊和下水洗辊的圆周面上均匀设置有若干与水泵相连的喷水孔，所述水洗输送网的后段设置有烘干机构。

作为优选，所述第一反应液槽为氢氟酸硝酸混合液反应液槽，所述第二反应液槽为碱液蚀刻反应液槽。

作为优选，所述辅助输送辊、除湿输送辊、带液输送辊和抛光输送辊互相平行均位于同一水平面上。

作为优选，所述集水槽、第一反应液槽、第二反应液槽和水洗槽之间均设置有除湿输送辊进行输送。

作为优选，所述抛光输送辊的上方对称挤压设置有挤压限位辊，所述挤压限位辊的外表面套设有弹性挤压套。

作为优选，所述带液凹槽的深度为0.2mm，带液凹槽的宽度25mm，所述带液凹槽均匀轴向分布在带液输送辊上。

作为优选，所述抛光凹槽的深度为1mm，抛光凹槽的宽度0.3mm，所述抛光凹槽均匀轴向分布在抛光输送辊上。

作为优选，所述水洗输送网斜右上方设置，所述烘干机构包括热风机和抽风机，所述水洗输送网上方均匀分布有多个热风机，所述水洗网的下方均匀分布有多个抽风机。

本发明的有益效果：本发明通过将机架、集水槽、辅助输送辊、水喷淋板、除湿输送辊、吸湿护套、第一反应液槽、带液输送辊、带液凹槽、第二反应液槽、抛光输送辊、抛光凹槽、水洗槽、水洗输送网、下水洗辊、上水洗辊、喷水孔和烘干机构结合在一起，经过试验优化，能够保证电池的效率和稳定性，保证正面无酸腐蚀，不易形成刻蚀印而影响外观，还能降低酸使用量、漏电比例低、背抛光效果好。

本发明的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。

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附图说明

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图1是本发明一种多晶硅电池片链式背抛光设备的结构示意图。

图中：1-机架、2-集水槽、3-辅助输送辊、4-水喷淋板、5-除湿输送辊、6-吸湿护套、7-第一反应液槽、8-带液输送辊、9-带液凹槽、10-第二反应液槽、11-抛光输送辊、12-抛光凹槽、13-水洗槽、14-水洗输送网、15-下水洗辊、16-上水洗辊、17-喷水孔、18-烘干机构、19-挤压限位辊、20-热风机、21-抽风机。

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具体实施方式

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参阅图1，本发明一种多晶硅电池片链式背抛光设备，包括机架1、集水槽2、辅助输送辊3、水喷淋板4、除湿输送辊5、吸湿护套6、第一反应液槽7、带液输送辊8、带液凹槽9、第二反应液槽10、抛光输送辊11、抛光凹槽12、水洗槽13、水洗输送网14、下水洗辊15、上水洗辊16、喷水孔17和烘干机构18，所述机架1左侧设置有集水槽2，所述集水槽2上方设置有若干辅助输送辊3，所述辅助输送辊3的正上方平行设置有水喷淋板4，所述辅助输送辊3的右侧设置有除湿输送辊5，所述除湿输送辊5上可拆卸设置有吸湿护套6，所述集水槽2的右侧设置有第一反应液槽7，所述第一反应液槽7内设置有若干顶部与液面平齐的带液输送辊8，所述带液输送辊8上分布有若干带液凹槽9，所述第一反应液槽7的右侧设置有第二反应液槽10，所述第二反应液槽10内设置有若干顶部与液面平齐的抛光输送辊11，所述抛光输送辊11上分布有若干抛光凹槽12，所述第二反应槽的右侧设置有水洗槽13，所述水洗槽13内设置有水洗输送网14，所述水洗输送网14上下对称设置有下水洗辊15和上水洗辊16，所述上水洗辊16和下水洗辊15的圆周面上均匀设置有若干与水泵相连的喷水孔17，所述水洗输送网14的后段设置有烘干机构18，所述第一反应液槽7为氢氟酸硝酸混合液反应液槽，所述第二反应液槽10为碱液蚀刻反应液槽，所述辅助输送辊3、除湿输送辊5、带液输送辊8和抛光输送辊11互相平行均位于同一水平面上，所述集水槽2、第一反应液槽7、第二反应液槽10和水洗槽13之间均设置有除湿输送辊5进行输送，所述抛光输送辊11的上方对称挤压设置有挤压限位辊19，所述挤压限位辊19的外表面套设有弹性挤压套，所述带液凹槽9的深度为0.2mm，带液凹槽9的宽度25mm，所述带液凹槽9均匀轴向分布在带液输送辊8上，所述抛光凹槽12的深度为1mm，抛光凹槽12的宽度0.3mm，所述抛光凹槽12均匀轴向分布在抛光输送辊11上，所述水洗输送网14斜右上方设置，所述烘干机构18包括热风机20和抽风机21，所述水洗输送网14上方均匀分布有多个热风机20，所述水洗网的下方均匀分布有多个抽风机21。

本发明通过将机架1、集水槽2、辅助输送辊3、水喷淋板4、除湿输送辊5、吸湿护套6、第一反应液槽7、带液输送辊8、带液凹槽9、第二反应液槽10、抛光输送辊11、抛光凹槽12、水洗槽13、水洗输送网14、下水洗辊15、上水洗辊16、喷水孔17和烘干机构18结合在一起，经过试验优化，能够保证电池的效率和稳定性，保证正面无酸腐蚀，不易形成刻蚀印而影响外观，还能降低酸使用量、漏电比例低、背抛光效果好。

上述实施例是对本发明的说明，不是对本发明的限定，任何对本发明简单变换后的方案均属于本发明的保护范围。