具体实施方式

下面，参照附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。此外，在各图中对相同部分或相当的部分标注相同标号，并省略重复的说明。另外，为了使说明容易被理解，图示的各部件(或部位)的尺寸或尺寸的比例有时与实际的尺寸或尺寸的比例不同。

[试样支承体的结构]

图1中示出了一个实施方式的试样支承体1的俯视图。如图1及图2所示，试样支承体1具备基板2、导电层3、及加强材料4。试样支承体1是用于将试样离子化的试样支承体。试样支承体1用于在进行例如质谱分析时，将测定对象的试样的成分离子化。

基板2具有第一表面2a及与第一表面2a相反侧的第二表面2b。在基板2上以同样的方式(以均匀地分布的方式)形成有多个贯通孔2c。各贯通孔2c沿试样支承体1(即基板2)的厚度方向(下面，简称为“厚度方向”。)延伸，且在第一表面2a及第二表面2b开口。厚度方向是垂直于第一表面2a及第二表面2b的方向。基板2由例如绝缘性材料形成为长方形板状。从厚度方向观察时，基板2的一边的长度例如为几cm左右。基板2的厚度例如为1μm～50μm左右。在本实施方式中，基板2的厚度为5μm左右。

导电层3设置于基板2的第一表面2a。导电层3设置于第一表面2a上的贯通孔2c的周缘部。即，导电层3覆盖基板2的第一表面2a中未形成贯通孔2c的部分。即，导电层3以不堵塞贯通孔2c的方式设置。

导电层3由导电性材料形成。其中，作为导电层3的材料，因以下叙述的理由，优选使用与试样的亲和性(反应性)低且导电性高的金属。

例如，如果由与蛋白质等试样的亲和性高的Cu(铜)等金属形成导电层3的话，在后述的试样的离子化过程中，则会在试样分子上附着有Cu原子的状态下将试样离子化，在后述的质谱分析法中，检测结果上可能会出现与Cu原子的附着量相对应的偏差。因此，作为导电层3的材料，优选使用与试样的亲和性低的金属。

另一方面，越是导电性高的金属，越容易且稳定地施加规定的电压。因此，由导电性高的金属形成导电层3的话，能够对基板2的第一表面2a均匀地施加电压。另外，越是导电性高的金属，存在导热性越高的趋势。因此，由导电性高的金属形成导电层3的话，能够将照射到基板2的激光等能量线的能量经由导电层3高效地向试样传递。因此，作为导电层3的材料，优选使用导电性高的金属。

从以上观点来看，作为导电层3的材料，优选使用例如Au(金)、Pt(铂)等。关于导电层3，通过例如镀敷法、原子层沉积法(ALD：Atomic Layer Deposition)、蒸镀法、溅射法等而形成1nm～350nm左右的厚度。在本实施方式中，导电层3的厚度为10nm左右。此外，作为导电层3的材料，也可以使用例如Cr(铬)、Ni(镍)、Ti(钛)等。

图3是表示从厚度方向观察到的基板2的放大图像的图。在图3中，黑色部分为贯通孔2c，白色部分为贯通孔2c之间的隔壁部。如图3所示，在基板2上以同样的方式形成有具有大致规定的宽度的多个贯通孔2c。从厚度方向观察到的贯通孔2c的形状例如为大致圆形。贯通孔2c的宽度例如为1nm～700nm左右。在本实施方式中，贯通孔2c的宽度为200nm左右。在从厚度方向观察到的贯通孔2c的形状为大致圆形的情况下，贯通孔2c的宽度是指贯通孔2c的直径；在该形状为除大致圆形外的形状的情况下，贯通孔2c的宽度是指容纳于贯通孔2c的假想的最大圆柱的直径(有效直径)。各贯通孔2c之间的节距例如为1nm～1000nm左右。在从厚度方向观察到的贯通孔2c的形状为大致圆形的情况下，各贯通孔2c之间的节距是指该各圆的中心间距离；在该形状为除大致圆形外的形状的情况下，各贯通孔2c之间的节距是指容纳于贯通孔2c的假想的最大圆柱的中心轴间距离。基板2的贯通孔2c之间的隔壁部的宽度例如为300nm左右。

贯通孔2c的开口率(从厚度方向观察时，全部贯通孔2c占第一表面2a的比例)从实用角度考虑为10～80％，特别优选为50～60％。多个贯通孔2c的大小也可以是彼此不一致，也可以是局部部分的多个贯通孔2c彼此相互连接的形态。

基板2是通过将例如Al(铝)阳极氧化而形成的氧化铝多孔膜。具体而言，对Al基板实施阳极氧化处理，将氧化的表面部分从Al基板剥离，由此可得到基板2。此外，基板2也可以通过将Ta(钽)、Nb(铌)、Ti(钛)、Hf(铪)、Zr(锆)、Zn(锌)、W(钨)、Bi(铋)、Sb(锑)等除Al外的阀金属阳极氧化而形成，也可以通过将Si(硅)阳极氧化而形成。

图4是从厚度方向观察到的试样支承体1的放大图。如图1和图4所示，基板2具有加强区域2d和测量区域2e。在基板2上以同样的方式形成有网眼状(在本实施方式中，作为一例，形成为蜂窝状)的加强区域2d、及具有大致规定的宽度的多个测量区域2e。加强区域2d和测量区域2e分别包含多个贯通孔2c(参照图2)。从厚度方向观察时，多个测量区域2e分别被加强区域2d包围。即，多个测量区域2e的各个被加强区域2d互相分离。从厚度方向观察到的测量区域2e的形状例如为大致六边形。

测量区域2e的宽度w1例如为1μm～1000μm左右。在本实施方式中，测量区域2e的宽度w1为440μm～470μm左右。测量区域2e的宽度w1是指容纳于测量区域2e的假想的最大圆柱的直径(有效直径)。即，如图4的例子所示，在从厚度方向观察到的测量区域2e的形状为大致六边形的情况下，测量区域2e的宽度w1是指该六边形的彼此相对的两个边部之间的距离。各测量区域2e之间的节距p例如为1μm～1100μm左右。在本实施方式中，测量区域2e之间的节距p为455μm～530μm左右。各测量区域2e之间的节距p是指容纳于测量区域2e的假想的最大圆柱的中心轴间距离。加强区域2d的宽度w2例如为30μm～60μm左右。

测量区域2e的开口率(从厚度方向观察时，全部测量区域2e占第一表面2a的比例)为80％以上。多个测量区域2e的大小也可以是彼此不一致，也可以是局部部分的多个测量区域2e彼此相互连接的形态。

加强材料4配置于多个贯通孔2c中的一部分贯通孔2c的内部。具体地，加强材料4配置于加强区域2d中的多个贯通孔2c的内部。即，加强材料4以从厚度方向观察时包围互相分离的多个测量区域2e的各个的方式，配置于贯通孔2c的内部。在多个测量区域2e中的多个贯通孔2c的内部，未配置加强材料4。在加强区域2d中，遍及基板2的第一表面2a及第二表面2b，加强材料4配置于多个贯通孔2c的内部。即，加强材料4填充于加强区域2d中的多个贯通孔2c的内部。加强材料4的材料例如是树脂等。加强材料4的材料例如是光致抗蚀剂。在本实施方式中，作为一个例子，加强材料4的材料是UV固化树脂。

[试样支承体的制造方法]

接下来，对试样支承体1的制造方法进行说明。首先，如图5的(a)所示，将基板2设置在打印机20上。在打印机20中，在与加强区域2d呈相同形状的区域41a设置有加强材料41(UV固化树脂)。例如，以第一表面2a与加强材料41相对的方式配置基板2。此时，基板2的加强区域2d和设置于区域41a的加强材料41互相相对。随后，如图5的(b)所示，通过打印机20，对加强区域2d中的第一表面2a照射加强材料41。在加强区域2d中，从第一表面2a到贯通孔2c的内部配置加强材料41。

随后，如图5的(c)所示，对基板2照射UV光L1。对第一表面2a的整体照射UV光L1。当对基板2照射UV光L1时，如图5的(d)所示，配置于贯通孔2c的内部的加强材料41发生固化而成为加强材料4。随后，在第一表面2a设置导电层3。通过上述操作，得到试样支承体1。

[试样的离子化方法]

接下来，参照图6和图7对使用试样支承体1的试样的离子化方法进行说明。在此，作为一例，对使用激光(能量线)的激光解吸离子化方法(通过质谱分析装置10实现的质谱分析方法的一部分)进行说明。在图7中，省略试样支承体1中的贯通孔2c、导电层3及加强材料4的图示。

首先，如图6的(a)所示，准备试样S及上述的试样支承体1(第一工序)。将试样S切断，使其截面Sa露出。在此，试样S例如为生物体试样(含水试样)。试样S为例如草莓等水果。为了顺利地进行试样S的成分S1(参照图6的(b))的移动，可以将用于降低成分S1的粘性的溶液(例如，乙腈混合液、丙酮等)添加到试样S中。就试样支承体1而言，可以由实施离子化法及质谱分析方法的人员进行制造而准备，也可以从试样支承体1的制造商或卖家等获取而准备。

接着，如图6的(b)所示，以第二表面2b与试样S的截面Sa相对的方式，将试样支承体1配置于试样S上(第二工序)。试样支承体1以第二表面2b与截面Sa接触的方式配置于试样S上。试样S的成分S1通过毛细管现象，从基板2的第二表面2b侧经由贯通孔2c朝向基板2的第一表面2a侧移动。具体地，试样S的成分S1在测量区域2e中，从第二表面2b侧经由贯通孔2c朝向第一表面2a侧移动。更具体地，试样S的成分S1经由多个贯通孔2c中的未配置加强材料4的贯通孔2c朝向第一表面2a侧移动。向基板2的第一表面2a侧移动的成分S1通过表面张力停留在第一表面2a侧。接着，将试样支承体1从试样S剥离(第三工序)。在附着于基板2的成分S1干燥之前，将试样支承体1从试样S剥离。

接着，如图7所示，将试样支承体1载置于载波片(载置部)6的载置面6a。载波片6是形成有ITO(氧化铟锡，Indium Tin Oxide)膜等透明导电膜的玻璃基板，透明导电膜的表面为载置面6a。此外，作为载置部，不限于使用载波片6，也可以使用可确保导电性的部件(例如，由不锈钢等金属材料等构成的基板等)。

接着，将试样支承体1固定于载波片6。通过具有导电性的胶带7(例如碳胶带等)将试样支承体1固定于载波片6。胶带7可以是试样支承体1的一部分，也可以与试样支承体1分开准备。在胶带7是试样支承体1的一部分的情况下(即，在试样支承体1具备胶带7的情况下)，例如，胶带7可以预先在基板2的周缘部固定于第一表面2a侧。更具体而言，胶带7也可以在基板2的周缘部固定于导电层3上。

接着，在载波片6和试样支承体1彼此被固定的状态下，载波片6及试样支承体1载置于质谱分析装置10的支承部12(例如，工作台)上。接着，在附着于试样支承体1的试样S的成分S1干燥的状态下，通过质谱分析装置10的电压施加部14，经由载波片6的载置面6a及胶带7对试样支承体1的导电层3(参照图2)施加电压(第四工序)。接着，通过质谱分析装置10的激光照射部13，对基板2的第一表面2a照射激光L(第四工序)。在此，激光照射部13对第一表面2a扫描激光L。对于第一表面2a的激光L的扫描可以通过使支承部12及激光照射部13中的至少一个的动作而实施。另外，测量区域2e的宽度大于激光L的点径。

这样，对导电层3施加电压，并对基板2的第一表面2a照射激光L，由此，将向基板2的第一表面2a侧移动的成分S1离子化，释放试样离子S2(离子化的成分S1)。具体而言，能量从吸收激光L的能量的导电层3向移动到基板2的第一表面2a侧的成分S1传递，获得了能量的成分S1汽化，并且获得电荷，成为试样离子S2。以上的各个工序相当于使用试样支承体1的试样S的离子化方法(在此，作为一例，作为质谱分析方法的一部分的激光解吸离子化法)。

被释放的试样离子S2朝向设置于试样支承体1与离子检测部15之间的接地电极(未图示)加速移动。即，通过在施加了电压的导电层3与接地电极之间产生的电位差，试样离子S2朝向接地电极加速移动。而且，通过质谱分析装置10的离子检测部15检测试样离子S2(第五工序)。在此，离子检测部15以与激光L的扫描位置对应的方式检测试样离子S2。由此，能够将构成试样S的分子的二维分布图像化。此外，此处的质谱分析装置10是利用了飞行时间型质谱分析法(TOF－MS：Time-of-Flight Mass Spectrometry)的质谱分析装置。以上的各个工序相当于使用试样支承体1的质谱分析方法。

如上所述，在试样支承体1中，在基板2上形成有在第一表面2a、及与第一表面2a相反侧的第二表面2b开口的多个贯通孔2c。因此，例如，在生物体试样等的试样S上，以基板2的第二表面2b与试样S相对的方式配置试样支承体1的情况下，能够利用毛细管现象使试样S的成分S1从第二表面2b侧经由贯通孔2c朝向第一表面2a侧移动。此外，在对第一表面2a照射激光L的情况下，由于能量经由导电层3传递到移动至第一表面2a侧的试样的成分，因此能够将试样S的成分S1离子化。而且，在多个贯通孔2c中的一部分贯通孔2c的内部配置有加强材料4。因此，基板2被加强材料4加强。由此，基板2不容易发生挠曲。因此，根据试样支承体1，能够适当地确保基板2的强度，并且能够抑制基板2的破损。

例如，当搬运试样支承体1时、或将试样支承体1配置于试样S上时，减少基板2的挠曲。由此，抑制基板2的破损。另外，例如，当将试样支承体1配置于具有粘着力的试样(例如，切割的草莓的截面)S上之后剥离时，能够抑制由该粘着力引起的基板2的破损。

作为将试样离子化的方法，例如，已知有表面辅助激光解吸离子化法(SALDI：Surface-Assisted Laser Desorption/Ionization)(例如，参照日本专利第5129628号公报)。SALDI是通过对在表面具有微细的凹凸构造的基板滴加试样，并对其照射激光，从而将试样离子化的方法。在这样的SALDI中使用的基板上形成的多个凹部不贯通基板。因此，在基板的强度不足的情况下，通过使基板的与凹部相反侧的部分(未形成凹部的部分)变厚，从而能够容易地提高基板的强度。

另一方面，试样支承体1利用毛细管现象使试样的成分从第二表面2b侧经由贯通孔2c朝向第一表面2a侧移动。因此，为了适当地实现毛细管现象，有时存在难以增加基板2的厚度的情况。在这种情况下，通过加强材料4来加强基板2是特别有效的。

贯通孔2c的宽度为1nm～700nm，基板2的厚度为1μm～50μm。由此，能够适当地实现上述的由毛细管现象引起的试样S的成分S1的移动。

加强材料4的材料是树脂。由此，能够容易地形成加强材料4。

基板2具有：包括多个贯通孔2c的加强区域2d、和包括多个贯通孔2c的测量区域2e。在加强区域2d中的多个贯通孔2c的内部配置有加强材料4，在测量区域2e中的多个贯通孔2c的内部未配置加强材料4。由于在加强区域2d中的多个贯通孔2c的内部配置有加强材料4，因此，基板2更不容易发生挠曲。由此，能够进一步确保基板2的强度，并且能够进一步抑制基板2的破损。

另外，在上述的试样S的离子化方法中，在基板2上形成有在第一面2a及与第一面2a相反侧的第二面2b开口的多个贯通孔2c。当在试样S上，以基板2的第二表面2b与试样S相对的方式配置试样支承体1时，能够通过毛细管现象使试样S的成分S1从第二表面2b侧经由贯通孔2c朝向第一表面2a侧移动。此外，在从试样S剥离试样支承体1后，当对导电层3施加电压并且对第一表面2a照射激光时，能量传递到移动至第一表面2a侧的试样S的成分S1。由此，将试样S的成分S1离子化。另外，在该试样的离子化方法中，在多个贯通孔2c中的一部分的贯通孔2c的内部配置有加强材料4。因此，基板2被加强材料4加强。由此，基板2不容易发生挠曲，所以，在第三工序中，能够抑制从试样S剥离试样支承体1时的基板2的破损。由此，根据该试样的离子化方法，通过使用适当地确保了强度的基板2，能够抑制基板2的破损并将试样S的成分S1离子化。

在第三工序中，在附着于基板2的成分S1干燥之前，将试样支承体1从试样S剥离。由此，在试样支承体1与试样S粘着之前，能够更顺利地将试样支承体1从试样S剥离。

如以上说明的那样，根据上述质谱分析方法，通过使用适当地确保了强度的基板2，能够抑制基板2的破损，并能够进行试样S的质谱分析。

[变形例]

如上所述，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明不限于上述实施方式，在不脱离其主旨的范围内，本发明可以进行各种变形。

尽管示出了加强材料4填充于贯通孔2c的内部的示例，但是，也可以不填充于贯通孔2c的内部。加强材料4例如可以从基板2的第一表面2a延伸至贯通孔2c的途中。即，加强材料4可以是仅配置于贯通孔2c的内部的一部分。

导电层3可以如上述实施方式所示那样不设置于贯通孔2c的内表面，也可以设置于贯通孔2c的内表面。

基板2可以具有导电性，在质谱分析方法中，可以对基板2施加电压，并对第一表面2a照射激光L。在基板2具有导电性的情况下，在试样支承体1中可以省略导电层3，并且能够得到与上述的使用具备导电层3的试样支承体1的情况同样的效果。此外，所谓“对基板2的第一表面2a照射激光L”，在试样支承体1具备导电层3的情况下，是指对导电层3照射激光L；在基板2具有导电性的情况下，是指对基板2的第一表面2a照射激光L。

尽管示出了加强材料4的材料是UV固化树脂的示例，但是，加强材料4的材料也可以是热固化树脂。另外，加强材料4的材料可以是金属。金属例如是Ni(镍)等。在加强材料4的材料是金属的情况下，当试样S的成分S1被离子化时，抑制了有机气体的产生，从而降低了离子化的试样离子S2的检测结果中的噪声。此外，如上所述，由于可以将加强材料4设为各种材料，因此，通过根据各种材料而采用合适的加工方法，能够将加强材料4仅适当地设置于一部分贯通孔2c的内部。此外，在加强材料4的材料是热固性树脂的情况下，在上述的试样支承体1的制造方法中，对基板2施加热量来替代照射UV光L1。

尽管示出了从厚度方向观察时测量区域2e的形状为大致六边形的例子，但是测量区域2e也可以呈各种形状。例如，如图8的(a)所示，从厚度方向观察时的测量区域2e的形状可以是大致四方形。即，加强区域2d可以以格子状设置。此外，如图8的(b)所示，从厚度方向观察时的测量区域2e的形状也可以是沿一个方向延伸的大致长方形形状。即，加强区域2d也可以由以大致相等的间隔配置的互相平行地延伸的多个区域形成。此外，从厚度方向观察时的测量区域2e的形状也可以是除上述以外的形状，例如为大致圆形、或大致三角形等。

此外，尽管示出了加强区域2d呈网状的示例，但是，加强区域2d可以具有各种形状，只要包括配置有加强材料4的多个贯通孔2c即可。当从厚度方向观察时，加强区域2d可以包括从基板2的一端到与一端相对的另一端的连续的区域。具体地，加强区域2d可以是如图9所示那样，例如沿着基板2的对角线延伸的细长的区域。在此，基板2的一端和另一端分别是在基板2的对角线上互相相对的角部。在这种情况下，基板2变得更加不易挠曲。因此，能够更可靠地确保基板2的强度，能够更可靠地抑制基板2的破损。此外，基板2的一端和另一端也可以分别是基板2的互相相对的边部。即，加强区域2d也可以不是基板2的对角线，而是沿垂直于基板2的上述边部的方向延伸的细长的区域。

此外，示出了测量区域2e的宽度为大约1μm～1000μm、且各测量区域2e之间的节距为大约1μm～1100μm的例子，但是，测量区域2e的宽度、及各测量区域2e之间的节距也可以为约几mm～几cm程度。具体地，加强区域2d也可以由一个或多个细长的区域构成。即，如图10的(a)所示，加强区域2d例如也可以由沿着基板2的外缘延伸的环状的区域、以及沿着基板2的对角线延伸的一个区域构成。在这种情况下，在基板2上形成有两个测量区域2e。此外，如图10的(b)所示，加强区域2d例如也可以由沿着基板2的外缘延伸的环状的区域、以及沿着基板2的两条对角线延伸的两个区域构成。在这种情况下，在基板2上形成有四个测量区域2e。此外，如图10的(c)所示，加强区域2d例如也可以由沿着基板2的外缘延伸的环状的区域、沿着基板2的一条对角线延伸的一个区域、以及沿着基板2的一个边部延伸的多个(在此为三个)区域构成。在这种情况下，在基板2上形成有8个测量区域2e。此外，如图10的(d)所示，加强区域2d例如也可以由沿着基板2的外缘延伸的环状的区域、沿着基板2的一个边部延伸的多个(在此为三个)区域、以及沿着基板2的与上述一个边部交叉的另一个边部延伸的一个区域构成。在这种情况下，在基板2上形成有8个测量区域2e。

在这种情况下，可以对应于多个测量区域2e而配置多个试样S。然后，可以在多个测量区域2e的各个中分别进行多个试样S的成分S1的离子化和质谱分析。另外，可以一起进行多个试样S的离子化和质谱分析。

试样支承体1可以具备框架。在这种情况下，框架设置于基板2的第一表面2a。具体地，框架固定于基板2的周缘部。框架通过粘接层固定于基板2的第一表面2a。从厚度方向看，框架具有与基板2大致相同的外形。在框架上形成有开口。基板2中的与开口对应的部分作为用于使试样S的成分S1向第一面2a侧移动的有效区域而发挥其作用。在这种情况下，可以在基板2的第一表面2a中的与框架的开口对应的区域(即，与有效区域对应的区域)、开口的内表面、及框架中的与基板2相反侧的表面，连续地(一体地)形成导电层3。通过设置这样的框架，能够提高试样支持体1(基板2)的强度，并且能够提高试样支承体1的操作性。另外，能够有效地抑制由温度变化等引起的基板2的变形。

在质谱分析装置10中，也可以是：激光照射部13对基板2的第一表面2a一并照射激光L，离子检测部15一边维持该区域的二维信息，一边检测试样离子S2。即，质谱分析装置10也可以是投影型质谱分析装置。

以上，示出了试样支承体1载置于载波片6上的例子，但是，试样支承体1也可以直接载置于质谱分析装置10的支承部12。

试样支承体1的用途不限于通过照射激光L而实现的试样S的离子化。试样支承体1也可以用于照射除了激光L之外的能量线(例如离子束、电子束等)而实现的试样S的离子化。

关于试样支承体1，也可以通过除了胶带7之外的其他方法(例如，使用粘接剂、夹具等的器具)将其固定于载波片6。另外，也可以不经由载波片6的载置面6a及胶带7而对导电层3施加电压。在该情况下，载波片6及胶带7也可以不具有导电性。

上述的试样的离子化方法不仅可以用于构成试样S的分子的质谱分析，也可以用于离子迁移率测定等其它的测定及实验。

试样S也可以是干燥试样。在该情况下，为了通过毛细管现象使试样S的成分S1向基板2的第一表面2a侧移动，可以将例如溶剂(例如，乙腈混合液、丙酮等)添加到试样S中。

接下来，作为试样支承体的制造方法的第一变形例，对加强材料4的材料是负型光刻胶的情况进行说明。首先，如图11的(a)所示，将基板2设置在打印机20上。在打印机20中，设置有加强材料41(负型光刻胶)。以例如第一表面2a与加强材料41相对的方式配置基板2。随后，如图11的(b)所示，通过打印机20对第一表面2a涂布加强材料41。加强材料41从第一表面2a配置于贯通孔2c的内部。随后，通过加热配置有加强材料41的基板2，从而固化加强材料41。

随后，如图11的(c)所示，在基板2的第一表面2a设置有掩模21。掩模21设置于测量区域2e中的第一表面2a。随后，通过对基板2照射UV光L2，从而曝光配置于加强区域2d中的贯通孔2c的内部的加强材料41。UV光L2对基板2的与第二表面2b相反侧的整体进行照射。由于在测量区域2e中的第一表面2a设置有掩模21，因此，配置于测量区域2e中的贯通孔2c的内部的加强材料41不会被曝光。随后，如图11的(d)所示，从第一表面2a去除掩模21。随后，通过将配置有加强材料41的基板2浸渍于显影液中，从而去除配置于测量区域2e中的贯通孔2c的内部的加强材料41。另一方面，由于配置于加强区域2d的加强材料41通过被曝光而对显影液的溶解性降低，因此不会被去除而残留。这样残留的加强材料41成为加强材料4。随后，在第一表面2a设置导电层3。如上所述，得到试样支承体1。

接下来，作为试样支承体的制造方法的第二变形例，对加强材料4的材料(加强材料41)是金属(例如，Ni)的情况进行说明。首先，如图12的(a)所示，准备基板2。随后，如图12的(b)所示，在基板2的第一表面2a设置掩模22。掩模22设置于测量区域2e中的第一表面2a。随后，通过加强材料41(Ni)的蒸镀而形成金属膜。由加强材料41构成的金属膜形成于加强区域2d中的第一表面2a。

随后，如图12的(c)所示，从第一表面2a去除掩模22。随后，如图12的(d)所示，通过电镀，加强材料41配置于贯通孔2c。具体地，首先，将形成有由加强材料41构成的金属膜的基板2浸渍于电解液中。随后，对加强材料41提供电流。当在加强材料41浸渍于电解液中的状态下提供电流时，加强材料41的金属原子溶解于电解液中。然后，溶解的加强材料41的金属原子在加强区域2d中的贯通孔2c的内部，镀覆于贯通孔2c的内表面。配置于贯通孔2c的内部的加强材料41的金属原子作为加强材料4而发挥其功能。随后，在第一表面2a设置导电层3。如上所述，得到了试样支承体1。

[符号说明]

1 试样支承体

2 基板

2a 第一表面

2b 第二表面

2c 贯通孔

2d 加强区域

2e 测量区域

3 导电层

4 加强材料

L 激光(能量线)

S 试样

S1 成分

S2 试样离子。