一种高稳定铜铝排打孔结构

文档序号:917321 发布日期:2021-03-02 浏览:9次 >En<

阅读说明:本技术 一种高稳定铜铝排打孔结构 (High stable copper aluminium row structure of punching ) 是由 陈存宏 陈春恺 郑瑞宏 于 2020-11-25 设计创作,主要内容包括:本申请公开了一种高稳定铜铝排打孔结构,包括一支撑平台,所述支撑平台表面形成有通孔,还包括压块,所述压块内部形成有空腔,所述空腔内设置有竖直压杆,所述竖直压杆底部凸伸于所述压块,所述竖直压杆外侧于所述空腔内套设有第一压缩弹簧,所述竖直压杆两侧分别设置有第一压杆以及第二压杆,所述第一压杆以及第二压杆底部分别形成有第一稳定块以及第二稳定块,所述第一稳定块、第二稳定块以及所述竖直压杆底面持平,所述第一压杆顶部贴合于一水平滑块,所述水平滑块底面抵持于所述竖直压杆顶部形成的曲面,所述水平滑块向下凸伸形成有弧形块。本发明实现了打孔操作,并且可以保护铜铝排打孔周围。(The application discloses high stable copper aluminium row structure of punching, including a supporting platform, the supporting platform surface is formed with the through-hole, still includes the briquetting, the inside cavity that is formed with of briquetting, be provided with vertical depression bar in the cavity, vertical depression bar bottom is protruding to be located the briquetting, the vertical depression bar outside in the cavity endotheca is equipped with first compression spring, vertical depression bar both sides are provided with first depression bar and second depression bar respectively, first depression bar and second depression bar bottom are formed with first stabilizing block and second stabilizing block respectively, first stabilizing block, second stabilizing block and vertical depression bar bottom surface is level, first depression bar top is laminated in a horizontal slider, horizontal slider bottom surface support hold in the curved surface that vertical depression bar top formed, horizontal slider is protruding to be formed with the arc piece downwards. The invention realizes the punching operation and can protect the periphery of the copper-aluminum bar punching.)

一种高稳定铜铝排打孔结构

技术领域

本申请涉及铜铝排加工,特别涉及一种高稳定铜铝排打孔结构。

背景技术

铜铝排使用时,经常需要进行打孔操作,而且最好能不损伤外侧。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高稳定铜铝排打孔结构。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案。

本申请实施例公开了一种高稳定铜铝排打孔结构,包括一支撑平台,所述支撑平台表面形成有通孔,还包括压块,所述压块内部形成有空腔,所述空腔内设置有竖直压杆,所述竖直压杆底部凸伸于所述压块,所述竖直压杆外侧于所述空腔内套设有第一压缩弹簧,所述竖直压杆两侧分别设置有第一压杆以及第二压杆,所述第一压杆以及第二压杆底部分别形成有第一稳定块以及第二稳定块,所述第一稳定块、第二稳定块以及所述竖直压杆底面持平,所述第一压杆顶部贴合于一水平滑块,所述水平滑块底面抵持于所述竖直压杆顶部形成的曲面,所述水平滑块向下凸伸形成有弧形块,所述第一压杆上移时推动所述水平滑块水平移动,并带动所述弧形块向下挤压所述竖直压杆。

优选的,在上述的高稳定铜铝排打孔结构中,所述水平滑块设置于所述空腔内,所述水平滑块顶面抵持于所述空腔顶面,所述水平滑块背离所述第一压杆的一侧设置有第二压缩弹簧。

优选的,在上述的高稳定铜铝排打孔结构中,所述第一压杆与所述水平滑块之间形成有互相贴合的斜面。

优选的,在上述的高稳定铜铝排打孔结构中,所述第一压杆外侧于所述第一稳定块与所述压块之间套设有第三压缩弹簧。

优选的,在上述的高稳定铜铝排打孔结构中,所述第二压杆外侧于所述第二稳定块与所述压块之间套设有第四压缩弹簧。

与现有技术相比,本发明的优点在于实现了打孔操作,并且可以保护铜铝排打孔周围。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本发明具体实施例中高稳定铜铝排打孔结构的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行详细的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

结合图1所示,高稳定铜铝排打孔结构100,包括一支撑平台101,支撑平台101表面形成有通孔102,还包括压块103,压块103内部形成有空腔104,空腔104内设置有竖直压杆105,竖直压杆105底部凸伸于压块103,竖直压杆105外侧于空腔104内套设有第一压缩弹簧106,竖直压杆105两侧分别设置有第一压杆107以及第二压杆108,第一压杆107以及第二压杆108底部分别形成有第一稳定块109以及第二稳定块110,第一稳定块109、第二稳定块110以及竖直压杆105底面持平,第一压杆107顶部贴合于一水平滑块111,水平滑块111底面抵持于竖直压杆105顶部形成的曲面112,水平滑块111向下凸伸形成有弧形块113,第一压杆107上移时推动水平滑块111水平移动,并带动弧形块113向下挤压竖直压杆105。

该技术方案中,实现了打孔操作,并且可以保护铜铝排打孔周围。具体操作时,通过将压块下压,带动竖直压杆下移,同时两个稳定块同时压住铜铝排打孔的两侧,继续推动压块时会将第一压杆上移,同时推动水平滑块侧移同时带动竖直压杆下移,实现打孔,打孔稳定。

进一步地,水平滑块111设置于空腔104内,水平滑块111顶面抵持于空腔104顶面,水平滑块111背离第一压杆107的一侧设置有第二压缩弹簧114。

该技术方案中,实现水平滑块的稳定性。

进一步地,第一压杆107与水平滑块111之间形成有互相贴合的斜面。

该技术方案中,实现互相垂直两个方向的传动。

进一步地,第一压杆107外侧于第一稳定块109与压块103之间套设有第三压缩弹簧115。第二压杆108外侧于第二稳定块110与压块103之间套设有第四压缩弹簧116。

该技术方案中,实现两压杆的稳定性。

需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本申请的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

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