具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详细的说明。

实施例一

图1示意性地展示了本发明的一实施方式的一种用于触摸屏的单层导电膜结构的制作方法流程图，如图1所示，其包括以下步骤：

步骤S1、分别制备具有连接桥导电网络结构2的转移胶3和涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构，其中，导电膜结构包括至少一条形成在第一方向411上的连续第一电极组41和至少一条形成在第二方向421上的第二电极组42，第二电极组42是由间隔排列的导电块形成的不连续电极，连接桥绝缘材料7涂布在同一条不连续电极上的相邻导电块422之间；

在该步骤中所提到的连接桥导电网络结构2，是指在单层导电膜结构的触摸屏中，设置在第一电极组41和第二电极组42的交叉处的跳线结构中的金属连接桥结构。在该步骤中提到的导电膜结构，是指在触摸屏中，在基板6上已设计好第一电极组41和第二电极组42的位置并已图形化，但未设置跳线结构的导电膜结构，第一电极组41和第二电极组42中两者中其中一者为不连续的电极，连接桥绝缘材料7涂布在其相邻的导电块422上，形成半成品状态。具体地，在本实施方式中，设置第一电极组41为连续的电极，第二电极组42为由间隔设置的导电块422形成的不连续的电极，连接桥绝缘材料涂布在同一条的第二电极组42上的相邻的导电块422之间。

步骤S2、将转移胶3上的连接桥导电网络结构2与导电膜结构上的连接桥绝缘材料7相对应设置，将转移胶3与导电膜结构复合，使得同一条第二电极组42上的导电块422导通，形成单层的、具有在两个方向上各自独立的导通的电极组的单层导电膜结构8。

在该步骤中，可以仅使用转移胶3上的全部的连接桥导电网络结构2，亦可以根据单层导电膜结构的设计结构样式，选择转移胶3上的一部分连接桥导电网络结构2进行使用，剩余的转移胶3可以进行封存处理，以供其他结构样式的单层导电膜结构需要进行跳线的时候进行使用。复合的方式可以包括滚压成型工艺，在进行滚压复合时，滚压速度可以为1m/s-10m/s，滚压温度可以为100℃-160℃，具体地，在本实施方式中，为1m/s，滚压温度可以为100℃。复合成型之后，形成在第二方向421上连续导通的第二电极组42，从而在单层导电膜结构上形成在两个方向上各自独立的导通的电极组。

通过采用该方法，先分别制备连接桥导电网络结构2和为半成品状态的导电膜结构，再利用滚压工艺将其复合形成单层导电膜结构8，与现有的单纯涂布工艺形成的导电膜相比，其工艺稳定性更高，从而能够使连接桥导电网络结构2与导电块422之间形成稳定有效的欧姆接触，显著提高连接桥联通距离，具有很高的商业化价值。

实施例二

图2示意性地展示了另一种实施方式的用于触摸屏的单层导电膜结构的制作方法的流程图。图3至图7示意性地展示了本申请的单层导电膜结构8在其制作方法中位于各步骤中的产品结构状态。

步骤S1、分别制备具有连接桥导电网络结构2的转移胶3和涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构，其中，导电膜结构包括至少一条形成在第一方向411上的第一电极组41和至少一条形成在第二方向421上的第二电极组42，第一电极组41或第二电极组42是由间隔排列的导电块形成的不连续电极，连接桥绝缘材料7涂布在同一条不连续电极上的相邻导电块422之间；

在一些实施方式中，如图2所示，步骤S1中的制备具有连接桥导电网络结构2的转移胶3的步骤可以包括：

步骤S111、预制备连接桥导电网络结构2；

如图3所示，该连接桥导电网络结构2可以根据实际需要制作的导电膜结构的需要进行制备，也可以根据可能需要使用的导电膜结构样式的需要进行制备。该连接桥导电网络结构2可一次性制备多个，亦可以制备单个。连接桥导电网络结构2还可以为网状结构，由此，可以通过网状的连接桥导电网络结构2将连接桥导电网络结构2的高度降低，同时亦能提高连接桥导电网络的稳定性。

可能需要使用的连接桥导电网络结构2样式可包括由不同的形状、面积、孔隙率、线宽以及线距等形成的结构，其面积选取在1μm*1μm至10μm*10μm之间，孔隙率选取在20％～90％之间，线宽选取在1μm～5μm之间，线距选取在5μm～50μm之间。具体地，以其中一种连接桥导电网络结构2样式为例，其形状为矩形，面积为10μm*5μm，孔隙率为80％，线宽为1μm，线距为20μm。也就是说，预制备的连接桥导电网络结构2可以全部都为上述样式，亦可以包括其他结构样式。通过预制备连接桥导电网络结构2，使得本申请的方法在能够提高连接桥联通距离的同时，还能够根据实际工艺需要，制作高精度以及质量的连接桥导电网络结构2。

在一些实施方式中，在步骤S111中预制备连接桥导电网络结构2的步骤可以包括：

设置临时载板1；

在临时载板1上制备连接桥导电网络结构2。

在该步骤中，临时载板1具体为用于设计并制备连接桥导电网络结构2的载体，在临时载板1上制备连接桥导电网络结构2的方式可以为在临时载板1上采用干法纺织、静电纺丝、狭缝涂布、喷墨打印中的一种或多种方式任意结合形成连接桥导电网络，所用的材料可以是银纳米线、金纳米线、碳纳米管、导电银浆料、ITO、石墨烯等，然后通过将临时载板1放入煅烧炉内进行烧结，形成连接桥导电网络结构2。具体地，可以在临时载板1上干法纺丝AgNO₃和PVP混合丝，设计需要设置的连接桥导电网络的形状、面积、孔隙率、线宽线距等，在烧结时，温度可以控制在250℃，烧结30分钟。由于临时载板1需要具有一定的耐热性，因此临时载板1的材质可以为，玻璃、硅、陶瓷等材料中的一种或多种任意结合。

由此，可以通过在临时载板1上预设计所需要使用的不同样式的连接桥导电网络，进而可根据需要制作的不同规格样式的导电膜和触摸屏，选择不同结构样式的连接桥导电网络结构2进行转移。

步骤S112、将预制备的连接桥导电网络结构2转移至胶层31，得到具有连接桥导电网络结构2的转移胶3。

如图4所示，该步骤中，胶层31可以为透明胶层31，这样设置，可以通过采用透明胶层31，从而有利于整体产品透明化。胶层31的具体材质可以为OC胶、丙烯酸树酯、环氧树脂等，其均为本领域中常用的透明胶层31材质。该胶层31可以将全部预制备的连接桥导电网络结构2都转移，亦可以根据实际需要制作的单层导电膜结构的需要转移部分预制备的连接桥导电网络结构2，或根据预制备的连接桥导电网络结构2的规格样式不同，分为多块不同的转移胶3。

通过上述的步骤，在制备具有连接桥导电网络结构2的转移胶3的时候，可以通过预制备连接桥导电网络结构2，以根据实际需要制备高精度高质量的连接桥导电网络结构2，同时，连接桥导电网络结构2可根据实际情况需要预制备各种不同的规格样式，并利用胶层31将连接桥导电网络结构2转移，形成转移胶3，从而可对其进行封存。

在一些实施方式中，如图2所示，步骤S1中的制备涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构的步骤包括：

步骤S121、在基板6上形成在至少一条在第一方向411上连续的第一电极组41和至少一条在第二方向421上不连续的第二电极组42，第一电极组41将第二电极组42间隔形成若干个导电块422；

该步骤中，其目的在于生成具有第一电极组41和第二电极组42的导电膜结构，该种导电膜结构，其包括在第一方向411上连续的第一电极组41和在第二方向421上不连续的第二电极组42。由于在制作出来的导电膜结构中，其第一电极组41均是连续的，而第二电极组42均是不连续的，同时，第二电极组42由若干条第一电极组41间隔开，形成若干个导电块422也就是说，在该导电膜结构制作出来后，第一电极组41是立刻可以正常工作的，而第二电极组42则是在制作出来之后仍是不能正常工作的，需要通过设置跳线结构，也就是设置连接桥将第二电极组42上的不连续的导电块422实现电性连接，使其能够正常工作。通过该种方式设计得出的导电膜结构，利用第一电极组41将第二电极组42间隔形成若干导电块422，从而能够快速、便捷地形成所需的导电膜结构，且该导电膜结构的导电块422位置紧密排布，形成的触摸屏感应效果好，之后只需再在单层导电膜结构8的对应位置上涂布连接桥绝缘材料7，就能使其形成仅差连接桥导电网络就可形成跳线结构的状态，降低最终滚压复合的难度。在该部分中，第一电极组41和第二电极组42两者亦可以反过来设计，也就是第一电极组41为不连续的，第二电极组42为连续的，第一电极组41由若干条第二电极组42间隔开，形成若干个导电块422，第一电极组41和第二电极组42只需满足其中一者为连续，另一者为不连续的即可。

具体地，如图5所示，第一方向411上连续的第一电极组41可以为在Y轴方向上由多个相连的Y轴导电块形成的Y轴导电带，第二方向421上不连续的第二电极组42，可以为在X轴方向上由多个独立的、被Y轴导电带间隔开的X轴导电块形成的X轴导电带。X轴导电块和Y轴导电块均可以设计为菱形，并交错排列，从而有利于形成具有第一电极组41和第二电极组42的单层导电膜结构。其中，虽然在图5所展示的具体的导电膜结构中，第一方向411和第二方向421为相互垂直的，但是实际上，第一方向411和第二方向421亦可以为形成其他夹角角度的两个方向，只需要满足第一方向411和第二方向421不相同即可。

综上所述，即第一电极组41和第二电极组42的设置可以包括如下几种情况：1)第一电极组41可以为在Y轴方向上连续的，第二电极组42可以为在X轴方向上不连续的，2)第一电极组41可以为在X轴方向上连续的，第二电极组42可以为在Y轴方向上不连续的，3)第一电极组41可以为在Y轴方向上不连续的，第二电极组42可以为在X轴方向上连续的，4)第一电极组41可以为在X轴方向上不连续的，第二电极组42可以为在Y轴方向连续的。

在一些实施方式中，在步骤S121中在基板6上形成在至少一条在第一方向411上连续的第一电极组41和至少一条在第二方向421上不连续的第二电极组42的步骤可以包括：

在基板6上涂布透明导电浆料，形成均匀的透明导电膜层5；

在透明导电膜层5上采用图案化加工工艺加工出第一电极组41和第二电极组42。

在该步骤中，透明导电浆料可以是银纳米线、金纳米线、碳纳米管、导电银浆料、ITO、石墨烯等中的一种或多种任意结合，所形成的透明导电膜厚度为0.1μm～2μm。基板6也可以选用透明材质，透明基板6的材质可以为PET、PMMA、PI、PDMS中的一种或多种任意结合形成。

在该步骤中，图案化加工工艺可以包括激光加工、干法刻蚀、湿法刻蚀中的一种或多种任意结合。

由此，可以通过在基板6上涂布透明导电膜层5并采用图案化加工工艺的方式直接加工出单层导电膜结构的第一电极组41和第二电极组42，从而能够快速形成单层导电膜结构所需的第一电极组41和第二电极组42的结构。

步骤S122、在同一第二电极组42上的相邻的两个导电块422之间涂布连接桥绝缘材料7，使连接桥绝缘材料7覆盖在第一电极组41与第二电极组42的交界。

如图6所示，该步骤中，涂布的连接桥绝缘材料7的作用在于，避免第二电极组42上的连接桥导电网络结构2与第一电极组41相接触，影响第一电极组41和第二电极组42之间的相互独立工作。连接桥绝缘材料7在涂布时不宜过多，只需要连接在同一第二电极组42上的两个相邻的导电块422之间，并覆盖在将该两个相邻的导电块422间隔开的第一电极组41上即可。连接桥绝缘材料7的材质可以为OC胶、PET、PDMS等。

通过上述的步骤，在制备涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构时，可使该部分的结构形成仅差连接桥导电网络就可形成跳线结构的半成品状态，降低最终滚压形成复合导电膜8的难度。

步骤S2、将转移胶3上的全部连接桥导电网络结构2或部分连接桥导电网络结构2与导电膜结构上的连接桥绝缘材料7相对应设置，采用滚压工艺将转移胶3与导电膜结构复合，形成单层导电膜结构8。

如图7所示，在该步骤中，经过滚压工艺后，形成的单层导电膜结构8具有三层，包括在最上层的胶层31、位于中间的透明导电膜层5以及在最下层的基板6。经过本申请的制作方法制作的单层导电膜结构8，其工艺稳定性更高，从而能够形成稳定有效的欧姆接触，显著提高连接桥联通距离，具有很高的商业化价值。

实施例三

图8示意性地展示了一实施方式的单层导电膜结构的触摸屏的制作方法的流程图。

如图8所示，根据本发明的另一个方面，提供了一种单层导电膜结构的触摸屏的制作方法，其具体包括以下步骤：

步骤S1、分别制备具有连接桥导电网络结构2的转移胶3和涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构，其中，导电膜结构包括至少一条形成在第一方向411上的连续第一电极组41和至少一条形成在第二方向421上的第二电极组42，第二电极组42是由间隔排列的导电块形成的不连续电极，连接桥绝缘材料7涂布在同一条不连续电极上的相邻导电块422之间；

步骤S2、将转移胶3上的连接桥导电网络结构2与导电膜结构上的连接桥绝缘材料7相对应设置，将转移胶3与导电膜结构复合，使得同一条第二电极组42上的导电块422导通，形成单层的、具有在两个方向上各自独立的导通的电极组的单层导电膜结构8；

步骤S3、将单层导电膜结构8中第一电极组41和第二电极组42的两端引线外接至处理器92；

步骤S4、将单层导电膜结构8与处理器92贴合至盖板91上。

上述步骤S1和步骤S2中可以采用上述实施例一或实施例二中所提到的用于触摸屏的单层导电膜结构的制作方法。

步骤S3和步骤S4的作用主要为，将已经制作好的单层导电膜结构8进一步加工制成触摸屏。在此步骤中，盖板91的材质可以为玻璃、蓝宝石、PET、CPI、PC等。

采用该种方法制作得的触摸屏，一方面只需要单层导电膜即可达到实现双层导电膜组合而实现的触摸功能，可降低导电材料用量，降低成本；另一方面，本发明采用先制备连接桥导电网络结构2，能够根据不同格式样式的触摸屏，在预制备的连接桥导电网络结构2中选择使用，再与图案化的导电透明膜复合的方式，可显著提高连接桥联通距离，具有很高的商业化价值。

实施例四

图7示意性地展示了一种用于触摸屏的单层导电膜结构的结构示意图。

参考图7，根据本发明的有一个方面，提供了一种用于触摸屏的单层导电膜结构，包括：涂布有连接桥绝缘材料7的导电膜结构，其中，导电膜结构包括至少一条形成在第一方向411上的连续第一电极组41和至少一条形成在第二方向421上的第二电极组42，第二电极组42是由间隔排列的导电块422形成的不连续电极，连接桥绝缘材料7涂布在同一条不连续电极上的相邻导电块422之间；和

复合在导电膜结构上的转移胶3，转移胶3上具有连接桥导电网络结构2，连接桥导电网络结构2设置在连接桥绝缘材料7上，并连接在同一条不连续电极上相邻的两个导电块422，使得第二方向上间隔排列的同一条第二电极组42导通。

该导电膜结构为已图形化形成第一电极组41和第二电极组42的半成品状态，其中可以设置第一电极组41为连续电极，第二电极组42为不连续电极，或可以设置第一电极组41为不连续电极，第二电极组42为连续电极；第一方向411和第二方向421可以为形成各种夹角角度的两个方向，只需要满足第一方向411和第二方向421不相同即可，如第一方向411可以为X轴方向，第二方向可以为Y轴方向，或，第一方向411可以为Y轴方向，第二方向可以为X轴方向。以第一电极组41为在Y轴方向上连续电极，第二电极组42为在X轴方向上不连续的电极为例，其中第二电极组42为由若干间隔排列设置的导电块422形成，第二电极组42的导电块422的间隔距离可以根据所需的单层导电膜结构的触摸灵敏度进行设计。优选地，第二电极组42由若干条第一电极组41分隔形成若干个间隔排列的导电块422，使连接桥绝缘材料7覆盖在第一电极组41与第二电极组42的交界，这样设计，其能够快速、便捷地形成所需的导电膜结构，且该导电膜结构的导电块位置紧密排布，形成的触摸屏的灵敏度更高。

该转移胶3为设置有若干针对上述导电膜结构需要设置的连接桥设计的连接桥导电网络结构2的胶层31。转移胶3上的连接桥导电网络结构2可根据实际不同的需要，预先设计若干种不同样式的结构，从而在需要使用的时候，可以快速套用。

采用上述的单层导电膜结构，能够仅用单层导电膜形成双层导电膜组合实现的效果，能够有效降低导电材料用量，降低成本。并且通过转移胶3的胶层31结构，使得在复合形成的单层导电膜结构中能够在连接桥导电网络结构和电极之间形成更稳定有效的欧姆接触，显著提高连接桥稳定性和联通距离，具有很高的商业化价值。

实施例五

图9示意性地展示了一种单层导电膜结构的触摸屏的结构示意图。

如图9所示，根据本发明的又一个方面，提供了一种单层导电膜结构的触摸屏，包括：单层导电膜结构8，其采用上述实施例一或实施例二中的用于触摸屏的单层导电膜结构的制作方法制得，或为上述实施例四的用于触摸屏的单层导电膜结构8；

处理器92，单层导电膜结构8中的第一电极组41和第二电极组42的两端引线外接至处理器92；以及

盖板91，单层导电膜结构8与所述处理器92贴合至盖板91上。

该种触摸屏，能够只需要单层导电层即可达到现有技术中双层导电膜组合而实现的触摸功能，可降低导电材料用量，降低成本。

实施例六

根据本发明的又一个方面，提供了一种单层导电膜结构的触摸屏，该触摸屏采用上述实施例三的单层导电膜结构的触摸屏的制作方法制得。

采用该种触摸屏，能够只需要单层导电层即可达到现有技术中双层导电膜组合而实现的触摸功能，可降低导电材料用量，降低成本。

以上的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。