电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜及其制备方法
阅读说明：本技术 电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜及其制备方法 (Electromagnetic shielding laser eavesdropping blocking two-in-one film and preparation method thereof ) 是由 颜徐州 吴善武 仲从磊 于 2021-08-23 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜及其制备方法,膜材包括顺序设置的防刮层、电磁屏蔽激光窃听阻断层、离型膜,所述电磁屏蔽激光窃听阻断层为激光窃听阻断基材层、电磁屏蔽层和压敏胶层的复合结构,或为基材层、电磁屏蔽层和激光窃听阻断压敏胶层的复合结构。本发明优选对激光有一定防护效果的材料作为电磁屏蔽材料,并以此为基础作为电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一膜的电磁屏蔽部分,可以大大提高产品的可见光透射比,并减少激光阻断材料的使用,并对电磁屏蔽膜中的基材层或压敏胶层进行改进设计,形成激光窃听阻断基材层或激光窃听阻断压敏胶层,实现电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一,结构简单,层数少,加工工艺简单。(The invention relates to an electromagnetic shielding laser eavesdropping blocking two-in-one film and a preparation method thereof. The invention preferably selects a material with a certain protective effect on laser as the electromagnetic shielding material, and on the basis, the material is used as the electromagnetic shielding part of the electromagnetic shielding and laser eavesdropping blocking two-in-one film, so that the visible light transmittance of the product can be greatly improved, the use of the laser blocking material is reduced, the substrate layer or the pressure sensitive adhesive layer in the electromagnetic shielding film is improved, the laser eavesdropping blocking substrate layer or the laser eavesdropping blocking pressure sensitive adhesive layer is formed, the two-in-one of the electromagnetic shielding and the laser eavesdropping blocking is realized, the structure is simple, the number of layers is small, and the processing technology is simple.)
技术领域
本发明涉及电磁屏蔽激光窃听阻断技术领域，具体涉及一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜及其制备方法。
背景技术
当前最新的泄密方式为“激光窃听”，即通过人眼不可见的激光，打在物体上，采集物体因为声音引发的振动，进而还原成声音。激光窃听阻断膜，专业针对激光窃听这一新技术手段，可实现窃听防护。
电子设备在工作时能经过地线、电源线、信号线、寄生电磁信号或谐波等辐射出去，产生电磁泄漏。这些电磁信号如果被接收下来，经过提取处理，就可恢复出原信息，造成信息失密。具有保密要求的计算机信息系统必须注意防止电磁泄漏。防范计算机系统电磁泄漏可采取的方法包括抑源法、屏蔽法和噪声干扰法。抑源法通过降低或消除计算机电磁泄漏源的发射从根本上解决问题，屏蔽法则通过阻断发射和传导途径来达到电磁信息泄漏防护的目的，而噪声法是则是通过添加与信息相关的噪声，增大窃收泄漏信息的难度，电磁屏蔽膜就是屏蔽法应用的代表功能。
保密单位进行布置时，电磁屏蔽和激光窃听往往是同时需要保护。激光窃听阻断膜和电磁屏蔽膜的粘贴胶均不能很好的粘附在另一个产品之上，容易遇到分层、脱落等问题，而且二者复合后产品的厚度尺寸较大，层数较多。传统的方法是两个产品一个贴在玻璃室内侧，另一个贴在玻璃外侧。但是遇到高层建筑施工时，对于外侧施工，不仅存在高空作业带来的安全风险，也容易造成玻璃清洗不彻底导致的施工美观度大受影响，同时，在玻璃上贴两层膜会影响采光，导致室内较暗，另外户外天气将大大缩短产品的使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜及其制备方法，用以解决现有技术中的激光窃听阻断膜和电磁屏蔽膜分别贴在玻璃内外两侧施工不便及寿命缩短的问题，同时解决贴两层膜比较暗，影响正常采光的问题。
本发明优选对激光有一定防护效果的材料作为电磁屏蔽材料，并以此为基础作为电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一膜的电磁屏蔽部分，可以大大提高产品的可见光透射比，并减少激光阻断材料的使用。
本发明一方面提供了一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜，包括顺序设置的防刮层、电磁屏蔽激光窃听阻断层、离型膜，所述电磁屏蔽激光窃听阻断层为激光窃听阻断基材层、电磁屏蔽层和压敏胶层的复合结构，或为基材层、电磁屏蔽层和激光窃听阻断压敏胶层的复合结构。
进一步的，所述激光窃听阻断基材层为涂布激光窃听阻断层的基材层或掺杂激光窃听阻断材料的基材层。
进一步的，所述激光窃听阻断压敏胶层为掺杂激光窃听阻断材料的压敏胶层，
进一步的，所述激光窃听阻断材料包括氧化铝、氧化铈、六硼化镧、二氧化钒、氧化锆、硫化锌、Ag、Au、Al、氧化铜、氧化亚铜、氧化亚铁、铯钨青铜、GZO、AZO、ATO、BTO、ITO中的一种或几种。
进一步的，所述基材层为PET、PVC、PVB、EVA、TPU、PP、PE、PC或PMMA。
进一步的，所述电磁屏蔽层为磁控溅射制备的AZO、Ag、AZO三层结构或AZO、Ag、AZO、Ag、AZO五层结构。
本发明另一方面提供一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)在基材层的一侧涂布防刮层；
(2)将激光窃听阻断材料分散在溶剂中，加入压敏胶形成激光窃听阻断层的涂料，并涂布在所述基材层的另一层；
(3)在另一基材层上磁控溅射电磁屏蔽层，并将电磁屏蔽层与激光阻断层结合，最后在该基材层的外侧涂布压敏胶后与离型膜复合。
本发明另一方面提供一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)将激光窃听阻断材料加入到基材层材料中生产制备激光窃听阻断基材层；
(2)在激光窃听阻断基材层的一侧磁控溅射电磁屏蔽层，另一侧涂布防刮层；
(3)在电磁屏蔽层的外侧涂布压敏胶后与离型膜复合。
本发明另一方面提供一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)在基材层的一侧磁控溅射电磁屏蔽层，另一侧涂布防刮层；
(2)将激光窃听阻断材料分散在压敏胶涂料中并涂布在电磁屏蔽层上，最后与离型膜复合。
采用上述本发明技术方案的有益效果是：
本发明优选对激光有一定防护效果的材料作为电磁屏蔽材料，并以此为基础作为电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一膜的电磁屏蔽部分，可以大大提高产品的可见光透射比，并减少激光阻断材料的使用；此外，对现有电磁屏蔽膜中的基材层或压敏胶层进行改进设计，形成激光窃听阻断基材层或激光窃听阻断压敏胶层，使得膜材同时具备电磁屏蔽和激光窃听阻断功能，实现电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一，而且结构简单，层数少，加工工艺简单。
附图说明
图1为本发明一种实施例电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜结构示意图；
图2为本发明另一种实施例电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
本实施例一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜，包括顺序设置的防刮层、电磁屏蔽激光窃听阻断层、离型膜，所述电磁屏蔽激光窃听阻断层为激光窃听阻断基材层、电磁屏蔽层和压敏胶层的复合结构如图1所示，或为基材层、电磁屏蔽层和激光窃听阻断压敏胶层的复合结构，如图2所示。
具体的，所述激光窃听阻断基材层为涂布激光窃听阻断层的基材层或掺杂激光窃听阻断材料的基材层，所述激光窃听阻断压敏胶层为掺杂激光窃听阻断材料的压敏胶层，
所述激光窃听阻断材料包括氧化铝、氧化铈、六硼化镧、二氧化钒、氧化锆、硫化锌、Ag、Au、Al、氧化铜、氧化亚铜、氧化亚铁、铯钨青铜、GZO、AZO、ATO、BTO、ITO中的一种或几种，所述激光窃听阻断材料经反射和吸收，使红外波段(900-1800nm)的透过率＜0.001。
所述基材层为PET、PVC、PVB、EVA、TPU、PP、PE、PC或PMMA，还可以选择其他透明膜材。
所述电磁屏蔽层为磁控溅射制备的厚度为45nm的AZO、16-20nm的Ag、45nm的AZO三层结构或92nm的AZO、16-20nm的Ag、92nm的AZO、16-20nm的Ag、92nm的AZO五层结构。
实施例1
一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)在基材层的一侧涂布防刮层，其中防刮层的厚度为3μm，基材层的厚度为23μm；
(2)将激光窃听阻断材料均匀分散在含有压敏胶的溶剂中，形成激光窃听阻断层的涂料，并涂布在所述基材层的另一层，激光窃听阻断材料的配方为比例1:1:1的铯钨青铜、ATO、ITO，铯钨青铜、ATO、ITO的添加总量为4g/㎡，激光窃听阻断层的厚度为6μm；
(3)在另一基材层上磁控溅射电磁屏蔽层，并将电磁屏蔽层与激光阻断层结合，最后在该基材层的外侧涂布压敏胶后与离型膜复合，电磁屏蔽层为磁控溅射制备的厚度为45nm的AZO、16-20nm的Ag、45nm的AZO三层结构，其中压敏胶层的厚度为8μm，离型膜的厚度为23μm。
实施例2
一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)将激光窃听阻断材料均匀加入到基材层材料中生产制备激光窃听阻断基材层，激光窃听阻断材料的配方为比例1:1的铯钨青铜、ATO，铯钨青铜、ATO的添加总量为3g/㎡，厚度为23μm或其他厚度；
(2)在激光窃听阻断基材层的一侧磁控溅射电磁屏蔽层，另一侧涂布防刮层，防刮层的厚度为3μm；
(3)在电磁屏蔽层的外侧涂布压敏胶后与离型膜复合，电磁屏蔽层为厚度为92nm的AZO、16-20nm的Ag、92nm的AZO、16-20nm的Ag、92nm的AZO五层结构，压敏胶层的厚度为8μm，离型膜的厚度为23μm。
实施例3
一种电磁屏蔽激光窃听阻断二合一膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)在基材层的一侧磁控溅射电磁屏蔽层，电磁屏蔽层为磁控溅射制备的厚度为45nm的AZO、16-20nm的Ag、45nm的AZO三层结构，另一侧涂布防刮层，防刮层的厚度为3μm，基材层的厚度为23μm；
(2)将激光窃听阻断材料分散在压敏胶涂料中并涂布在电磁屏蔽层上，最后与离型膜复合，激光窃听阻断材料的配方为比例1:1的铯钨青铜、ATO，铯钨青铜、ATO的添加总量为3g/㎡，激光窃听阻断压敏胶层的厚度为8μm，离型膜的厚度为23μm。
对实施例1-3所得防护膜的激光窃听阻断数据进行测试，激光窃听阻断数据检测依据：GB/T2680-2021建筑玻璃可见光透射比、太阳光直接透射比、太阳能总透射比、紫外线透射比及有关窗玻璃参数的测定(当前生效的标准为GB/T2680-1994,但是2021版本，将于2021年10月1日生效)),检测仪器：分光光度计(GM-032),其中，实施例3的结果与实施例1相似此处不做介绍，实施例1和实施例2的实验结果如下:
此外，对实施例1-3所得防护膜的电磁屏蔽效果进行测试，电磁屏蔽效果检测依据：GJB6190-2008电磁屏蔽材料屏蔽效能测量方法，采用信号发生器、任意波形发生器、频谱分析仪、喇叭天线、同轴传输线测量装置进行测试，实施例3的结果与实施例1相似，实施例1和实施例2的测试结果如下:
从测试数据可见，本实施例2所得防护膜具有优良的电磁屏蔽和激光窃听阻断功效，实现了电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一，而且实施例2防护膜层数少，制备方法简单，具有良好的应用前景。
综上，本发明对现有电磁屏蔽膜中的基材层或压敏胶层进行改进设计，形成激光窃听阻断基材层或激光窃听阻断压敏胶层，使得膜材同时具备电磁屏蔽和激光窃听阻断功能，实现电磁屏蔽和激光窃听阻断二合一，而且结构简单，层数少，加工工艺简单。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
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