一种防复制镭射防伪膜制作方法及其结构
阅读说明：本技术 一种防复制镭射防伪膜制作方法及其结构 (Method for manufacturing anti-copy laser anti-counterfeiting film and structure thereof ) 是由 黄斗兴 李盛林 曹慧芬 于 2021-09-06 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种防复制镭射防伪膜制作方法及其结构,包括以下步骤：于基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层；于图像层设置特定图案以形成印刷层；于印刷层上增设高反射介质以形成纳米涂层；于纳米涂层表面增涂UV油墨以形成UV保护层。采用该防复制镭射防伪膜的制作方法,提高了翻版复制难度,防伪膜片图像层与UV保护层之间增设与图像层化学组成相匹配的油墨印刷特定图案的印刷层,即使纳米涂层等无机镀层被洗去,图像层的光栅结构也无法被完整复制,保证包装膜片的防伪效果。(The invention discloses a method for manufacturing an anti-copy laser anti-counterfeiting film and a structure thereof, comprising the following steps: setting a cured coating and a micro-nano grating structure pattern on the surface of the substrate layer to form an image layer; arranging a specific pattern on the image layer to form a printing layer; adding a high-reflection medium on the printing layer to form a nano coating; and additionally coating UV ink on the surface of the nano coating to form a UV protective layer. By adopting the manufacturing method of the anti-copying laser anti-counterfeiting film, the copying difficulty is improved, the printing layer of the specific pattern printed by the ink matched with the chemical composition of the image layer is additionally arranged between the anti-counterfeiting film image layer and the UV protective layer, even if inorganic coatings such as a nano coating and the like are washed away, the grating structure of the image layer cannot be completely copied, and the anti-counterfeiting effect of the packaging film is ensured.)
技术领域
本发明涉及防伪包装膜片技术领域，具体为一种防复制镭射防伪膜制作方法及其结构。
背景技术
微纳米光栅结构应用在塑料膜上，能制作出具有全息效果的镭射膜，常被用于包装或者卡证领域。现有包装膜片被剥离后再经酸洗/碱洗等操作洗去无机镀层后，光栅结构直接暴露，可通过一定技术手段对光栅结构进行翻版复制，从而对防伪技术实现破解。因此亟待设计出一种防复制镭射防伪膜制作方法解决防伪膜容易被复制的问题。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种防复制镭射防伪膜制作方法，解决了现有证卡及包装的易复制、防伪技术易破解问题。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种防复制镭射防伪膜制作方法，包括以下步骤：
于基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层；
于图像层设置特定图案以形成印刷层；
于印刷层上增设高反射介质以形成纳米涂层；
于纳米涂层表面增涂UV油墨以形成UV保护层。
较佳地，还包括：在UV保护层增设背胶层以形成防复制镭射防伪膜。
较佳地，于基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层，之前还包括：于基材层表面设置底涂层，在底涂层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层。
较佳地，所述底涂层为丙烯酸体系或聚氨酯体系底涂，厚度0.5～5微米。
较佳地，于基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层，具体包括：
于基材层涂布双组份或者多组份反应型树脂；
具有防伪功能的微纳米光栅结构色图案与树脂模压固化以形成厚度0.5～10微米的图像层；
其中，基材层是PVC、PVC、PP、PETG、PC、ABS材料中的任意一种或者两种以上的复合材料，厚度12～400微米。
较佳地，于图像层设置特定图案以形成印刷层，具体包括：使用与图像层固化涂料性质相匹配聚氨酯体系油墨联机印刷特定图案覆盖于图像层以形成厚度0.5～10微米的印刷层，印刷层适合凹印、胶印、丝印、激光打印及喷墨打印中的一种或者多种印刷方式。
较佳地，于印刷层上增设高反射介质以形成纳米涂层，具体包括：采用PVD、CVD、纳米涂覆方法于印刷层增涂功能性涂层以形成厚度为200～500埃的纳米涂层，所述纳米涂层一般为高反射金属或金属化合物及其纳米复合材料。
较佳地，于纳米涂层表面增涂UV油墨以形成UV保护层，具体包括：使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂的UV油墨涂布于纳米涂层并进行UV灯照射固化油墨以形成厚度0.5～10微米的UV保护层。
本发明还提供一种防复制镭射防伪膜，包括自下而上依次设置基材层、图像层、印刷层、纳米涂层、UV保护层及背胶层。
较佳地，于基材层与图像层之间还设置底涂层，所述底涂层厚度为厚度0.5～5微米。
本发明具备以下有益效果：
1、通过在基材层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案以形成图像层，且固化涂料选用双组份或者多组份反应型树脂，交联固化后温度高，和镀层结合牢度高，保证在纳米涂层剥落的情况下微纳米光栅结构不能被完整复制；
2、于图像层设置特定图案以形成印刷层，且印刷层使用与图像层化学组成近似的油墨进行印刷特定图案，可实现图像层与印刷层对图案进行无误差套印，起到一定的防止复制的作用；
3、通过对纳米涂层表面增涂UV油墨以形成UV保护层，使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂的UV油墨在图案之上涂布并进行UV灯照射以固化油墨，此UV保护层是为提高膜片的耐酸、碱、有机溶剂的性能，防止纳米涂层因酸碱腐蚀而剥落；
4、采用本发明提供的防复制镭射防伪膜的制作方法制作的包装膜片具有耐酸洗/碱洗的性能，提高了翻版复制难度，此外防伪膜片图像层与纳米涂层之间增设与图像层化学组成近似的油墨印刷特定图案的印刷层，即使纳米涂层等无机镀层被洗去，图像层的光栅结构也无法被完整复制，保证包装膜片的防伪效果。
附图说明
图1为本发明提供的一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
图2为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
图3为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
图4为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
图5为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜结构示意图；
图6为本发明实施例一种防复制镭射防伪膜仿制效果结构示意图。
图中：1、基材层；2、底涂层；3、图像层；4、印刷层；5、纳米涂层；6、UV保护层；7、背胶层；8、防伪膜；9、特定图案；10、微纳米光栅结构图案。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种技术方案：防复制镭射防伪膜制作方法，包括如下具体步骤：
S110、于基材层1表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案10以形成图像层3，其中，固化涂料一般为双组份或者多组份反应型树脂，交联固化后Tg温度高，和镀层牢度高；图像层3为将具有防伪功能的微纳米光栅结构图案10与树脂模压固化形成，在保证图像层3树脂交联固化条件下增加耐温性能；基材层1材质是PVC、PVC、PP、PETG、PC、ABS任意一种或者两种以上的复合材料，厚度12～400微米。
S120、于图像层3设置特定图案以形成印刷层4，在图像层3上设置与图像层3化学组成近似的油墨印刷包装所需特定图案9以形成印刷层4，从而防止图像被完整复制。
S130、于印刷层4上增设高反射介质以形成纳米涂层5，其中，纳米涂层5一般采用高反射金属或金属化合物及其纳米复合材料进行涂覆，以增加图像的亮度，具体材料如：硫化锌、铝、铜、锌、锡，氟化镁、二氧化硅、硫化硒等材料，纳米涂层4厚度200～500埃。
S140、于纳米涂层5表面增涂UV油墨以形成UV保护层6，使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂的UV油墨涂布于纳米涂层5并进行UV灯照射固化油墨以形成厚度0.5～10微米的UV保护层6，UV保护层6使用常见UV胶水中的一种或几种。
本实施例中，还可以包括S150、在UV保护层6增设背胶层7以形成防复制镭射防伪膜，背胶层7使用热熔胶，厚度0.5～10微米。
同时，于基材层1表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案10以形成图像层3，之前还可以包括：于基材层1表面设置底涂层2，底涂层2一般选用丙烯酸体系底涂，也可选择聚氨酯体系底涂，厚度0.5～5微米，底涂层2设置与否可根据基材材质和牢度要求的不同而确定，所述底涂层2选用丙烯酸体系底涂，厚度0.5～5微米，在设置底涂层之后，于底涂层表面设置固化涂料及微纳米光栅结构图案10以形成图像层3。
在一种较佳的实施方式中，选用一款合适的PET膜作为基材层1，厚度12-25μm，在PET膜上涂布有成份为反应型的聚氨酯树脂的固化涂料以形成图像层3，厚度一般为0.8～1.5μm，然后对PET膜的涂层面进行电晕(目的是增加与介质的结合力，也可以省略该操作)。随后在图像层3上模压微纳米光栅结构图案10如图2所示，与此同时使用与图像层3性质相似的聚氨酯体系油墨联机凹印另一特定图案9以形成印刷层4如图3所示，将印刷后特定图案9覆盖在图像层的微纳米光栅结构图案10上如图4所示。
在印刷层4的表面真镀介质层形成纳米涂层5，纳米涂层5采用高反射金属或金属化合物及其纳米复合材料进行涂覆，以增加印刷层4的图案亮度(真空镀铝比较常用)，形成防复制功能的防伪膜8。如果微纳米光栅结构图案10被拿去复制，拷贝，首先要洗掉纳米涂层5，即使纳米涂层5被酸碱腐蚀后，印刷层4、印有防伪图案的图像层3等被暴露，印刷层4与图像层3由于互相粘结，微纳米光栅结构图案10不能被完整复制，且得到的微纳米光栅结构10图案只能为图5所示，仿制者如果要伪造产品需要0误差对微纳米光栅结构图案10进行套印，这在实际操作中二次套印难以完成，实际仿制效果会如图6出现偏差，所以这一工序也能可以起到一定的防止复制的作用。
模压工序完成后，使用聚氨酯丙烯酸酯与羟基丙烯酸树脂体系的UV油墨在纳米涂层5图案之上涂布并进行UV灯照射以固化油墨，此UV保护层6主要是为了提高膜片的耐酸、碱、有机溶剂的性能，使用酸洗、碱洗等工序无法有效除去这一涂层，而使用酮类等强有机溶剂虽然可以部分溶解这一涂层，但这也会导致印刷层4、图像层3损坏，无法实现完整复制。在UV保护层6上继续涂布厚度为2～5μm的热熔胶即可完成(该工艺也可以在终端使用客户端完成，用于完成在纸张，卡片上面的贴合)。
本发明还提供一种防复制镭射防伪膜，自下而上依次设置基材层1、图像层3、印刷层4、纳米涂层5、UV保护层6及背胶层7。
在一种较佳的实施方式中，如图1所示，于基材层1与图像层3之间还设置底涂层2，所述底涂层2厚度为厚度0.5～5微米。
采用本发明提供的防复制镭射防伪膜的制作方法制作的包装膜片具有耐酸洗/碱洗的性能，提高了翻版复制难度，此外防伪膜图像层与UV保护层之间增设与图像层化学组成近似的油墨印刷特定图案的印刷层，即使纳米涂层等无机镀层被洗去，图像层的光栅结构也无法被完整复制，保证包装膜片的防伪效果。
需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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