一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法

文档序号:1141738 发布日期:2020-09-11 浏览:29次 >En<

阅读说明:本技术 一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法 (Interactive wiring method following wiring lattice points in integrated circuit layout ) 是由 黄晔 苏鸿昌 张亚东 李起宏 陆涛涛 *** 于 2020-05-22 设计创作,主要内容包括:一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,包括以下步骤:1)设置交互式布线参数;2)布线网格的水平和垂直间距一致时,将所有点链吸附到布线格点上;3)布线网格的水平和垂直间距不一致时,将所有点链吸附到布线格点或布线方向与网格线的交点上。本发明的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,能够在正交或者45°布线方向上,满足布线格点的要求,从而保证交互式布线的规则性,最终满足制造要求。(An interactive routing method following routing grid points in an integrated circuit layout, comprising the steps of: 1) setting interactive wiring parameters; 2) when the horizontal and vertical distances of the wiring grids are consistent, adsorbing all point chains to the wiring grid points; 3) and when the horizontal and vertical distances of the wiring grids are inconsistent, adsorbing all the point chains to the points of the wiring grids or the intersection points of the wiring direction and the grid lines. The interactive wiring method following the wiring grid points in the integrated circuit layout can meet the requirements of the wiring grid points in the orthogonal or 45-degree wiring direction, thereby ensuring the regularity of interactive wiring and finally meeting the manufacturing requirements.)

一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法

技术领域

本发明涉及EDA设计技术领域,特别是涉及集成电路版图中的交互式布线方法。

背景技术

随着芯片设计日益复杂,工艺的进步,物理设计面临着越来越大的挑战,超深亚微米工艺不断完善,芯片面积的减少下,芯片的密度不断提高,布线作为超大规模集成电路中物理设计的后端环节,布线的结果对芯片的性能起到至关重要的作用,这就使得应用EDA(电子设计自动化)工具成为不可或缺的辅助手段。

布线是指在物理设计阶段,在要连接的单元,引脚或者其他电子器件之间分配金属线,并且不同连接关系的金属线不能重叠,除此之外,还要满足物理设计中大量的几何约束。伴随着光刻工艺的成熟,芯片性能的提高,往往意味着芯片密度的增加,可布线空间进一步减少,几何约束的数量不断增加,最终导致布线的难度和复杂度大大增加。这给EDA工具带来新的挑战。

现有的布线方法都是基于格点(Grid)进行布线。布线过程中以及布线过程中布线层次的转换都在格点的基础上进行,没有遵循布线格点(off-grid)要求将通不过设计规则检查(Design Rule Check,以下简称DRC),往往DRC规则检查留给版图完成后再进行。在设计的每一个阶段考虑DRC规则,对最终芯片流片产生重大影响,也会提升芯片的性能。

在低端工艺中,特别是16nm以上的工艺中,版图设计要求没有太苛刻,布线可以是在格点上以任意间距(Spacing)进行。但是到了14nm以及以下的FinFET高端工艺中,走线的规格变得苛刻,布线密度增大,布线既要考虑空间最小,也要考虑走线的物理设计更优。

在EDA高端的设计工具中,特别是针对高端工艺的版图工具,必须验证每次走线是否遵循布线格点要求,这需要EDA厂商针对芯片制造开发针对高端工艺的交互式布线器。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,在正交或者45°布线方向上,满足布线格点的要求,从而保证交互式布线的规则性,最终满足制造要求。

为实现上述目的,本发明提供的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,包括以下步骤:

1)设置交互式布线参数;

2)布线网格的水平和垂直间距一致时,将所有点链吸附到布线格点上;

3)布线网格的水平和垂直间距不一致时,将所有点链吸附到布线格点或布线方向与网格线的交点上。

进一步地,所述步骤2)进一步包括,

比较第一布线点与所在网格4个格点的距离,吸附到最近格点上;

比较第二布线点及之后的每一个布线点与前一个点的水平和竖直距离差,确定布线方向,并修正到与布线方向一致的最近的格点上。

进一步地,还包括,根据最小距离原则,将布线点二次修正到最近的布线格点上。

进一步地,所述步骤3)进一步包括,

比较第一布线点与所在网格4个格点的距离,吸附到最近格点上;

比较第二布线点及之后的每一个布线点与前一个点的水平和竖直距离差,确定布线方向,修正到与布线方向一致的最近的格点上,判断布线方向与网格线是否为正交布线,若是,则将布线点调整到最近的布线格点上;若否,则将布线点调整到布线方向与网格线最近的交点上。

更进一步地,所述将布线点调整到布线方向与网格线最近的交点上,是根据布线方向的斜率,将布线点调整到布线方向与网格线最近的交点上。

为实现上述目的,本发明还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序运行时执行如上文所述的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法步骤。

为实现上述目的,本发明还提供一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线装置,包括存储器和处理器,所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器运行所述计算机程序时执行如上文所述的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法步骤。

本发明的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,具有以下有益效果:

1)在同等间隔(pitch)布线网格中,所有布线方向产生的布线点都在布线网格的交点上。

2)在不等间隔(pitch)布线网格中,正交布线方向产生的布线点都在布线网格的交点上,45°布线方向产生的布线点都在布线方向与网格的交点上。

3)在正交或者45°布线方向上,满足布线格点的要求,从而保证交互式布线的规则性,最终满足制造要求。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,并与本发明的实施例一起,用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:

图1为根据本发明的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法流程图;

图2为根据本发明的实施例一交互式布线参数设置界面示意图;

图3为根据本发明的布线网格x轴和y轴等间距时正交布线结果示意图;

图4为根据本发明的布线网格x轴和y轴等间距时45°布线结果示意图;

图5为根据本发明的布线网格x轴和y轴不等间距时正交布线结果示意图;

图6为根据本发明的布线网格x轴和y轴不等间距时45°布线结果示意图;

图7为根据本发明实施例一交互式布线结果示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。

图1为根据本发明的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法流程图,下面将参考图1,对本发明的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法进行详细描述。

首先,在步骤101,探测布线所用层的布线网格。该步骤中,自动探测到布线所用的层布线网格。

在步骤102,判断布线网格的x轴和y轴间距是否一致,若一致则跳到步骤103,若不一致则跳到步骤104。

在步骤103,将所有点链吸附到布线格点上。该步骤中,图3为根据本发明的布线网格x轴和y轴等间距时正交布线结果示意图,图4为根据本发明的布线网格x轴和y轴等间距时45°布线结果示意图,如图3和图4所示,当布线格点水平竖直间距(pitch)一致时,所有点链,生成的正交布线或45°斜向布线都在布线格点上。

优选地,比较第一个布线点与所在网格4个格点的距离,吸附到最近格点上。该步骤中,当布线网格的x轴和y轴间距一致时,第一布线点比较与所在网格4个布线格点的距离,自动吸附到最近点上。

优选地,比较第2~n点与前一个点的水平和竖直距离差,确定布线方向,调整到与布线方向一致的最近点上,根据最小距离原则二次修正到最近的布线格点上。该步骤中,第一次修正后的点分别在经过竖直网格线模式修正和水平网格线模式修正得到一个与前一个点x坐标或者y坐标相等的点,和前一个点与当前点水平距离差deltax,竖直距离差deltay,如果deltax大于deltay,则布线方向为水平,那么要调整当前点的y坐标与前一个点的y坐标一致,这就是布线方向一致的最近点。最近点不一定在格点上,所以需要二次调整,如果当前布线方向是水平的,那么最近点的二次调整,只能调整x坐标到最近的竖直网格上。

在步骤104,将所有点链吸附到布线格点或布线方向与网格线的交点上。

图5为根据本发明的布线网格x轴和y轴不等间距时正交布线结果示意图,

图6为根据本发明的布线网格x轴和y轴不等间距时45°布线结果示意图,如图5和图6所示,当布线格点水平竖直间距(pitch)不一致时,正交布线产生的第一个点在网格的交点上,其余点链在网格交点或与网格线的交点上,45°斜向布线至少吸附在一个网格线上。

优选地,比较第一布线点与所在网格4个格点的距离,吸附到最近格点上。该步骤中,当布线网格的x轴和y轴间距不一致时,第一布线点比较与所在网格4个布线格点的距离,自动吸附到最近点上。

优选地,比较第2~n点与前一个点的水平和竖直距离差,确定布线方向,吸附到与布线方向一致的最近点上,判断布线方向与网格线是否为正交布线,若是,二次调整到最近的布线格点上;若不是,根据布线方向的斜率调整到布线方向与网格线最近的交点上。

优选地,在步骤103和步骤104中,对布线点进行水平网格线模式(SnapY)吸附或竖直网格线模式(SnapX)吸附或45°布线方向吸附。该步骤中,完成步骤103和步骤104的交互式结果需要SnapY、SnapX45°布线模式支持。吸附到最近水平网格线模式(SnapY)只修正y轴坐标的值;吸附到最近竖直网格线模式(SnapX)只修正x轴坐标的值;吸附到45°布线方向模式,计算布线斜率k是1还是-1。

下面结合一具体实施例对本发明的一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法做进一步的说明。

(1)启动交互式布线命令,通过交互式布线参数设置界面对交互式布线参数进行设置。

图2为根据本发明的实施例一交互式布线参数设置界面示意图,如图2所示,用户可以在图2中的交互式布线参数设置界面设置交互式布线参数。

(2)单击鼠标选择需要进行布线操作起始点或者要连接的起始物体。

(3)双击生成交互式布线结果,如图7所示。

本发明提出一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法,在高端工艺中,遵循布线格点是EDA工具在物理设计布线阶段过程中的重要方法,没有对齐到格点(off-grid)不满足制造要求,本发明能够自动探测到布线所用的层布线网格,在正交或者45°布线方向上,满足布线格点的要求,从而保证交互式布线的规则性,最终满足制造要求。

为实现上述目的,本发明还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序运行时执行如上文所述的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法步骤。

为实现上述目的,本发明还提供一种集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线设备,包括存储器和处理器,所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器运行所述计算机程序时执行如上文所述的集成电路版图中遵循布线格点的交互式布线方法步骤。

本领域普通技术人员可以理解:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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