具体实施方式

以下，依次对聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)和金属化合物(G)进行说明。

1.聚硅氮烷(F)

本发明中的聚硅氮烷(F)只要是具有硅－氮键的化合物就没有特别限定，优选具有下述式(f1)表示的结构单元。

[式(f1)中，R^f11、R^f12和R^f13各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～10的烃基、或烷基甲硅烷基]

作为R^f11～R^f13表示的碳原子数1～10的烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等直链状的饱和脂肪族烃基；异丙基、仲丁基、叔丁基、甲基戊基、乙基戊基、甲基己基、乙基己基、丙基己基、叔辛基等支链状的饱和脂肪族烃基；环戊基、环己基、环庚基、环辛基等环状的饱和脂肪族烃基；乙烯基、1－丙烯基、2－丙烯基、1－丁烯基、2－丁烯基、3－丁烯基等不饱和脂肪族烃基；苯基、萘基、对叔丁基苯基、甲苯基、二甲苯基、异丙苯基、均三甲苯基、2,6－二乙基苯基、2－甲基－6－乙基苯基等芳香族烃基；烷基环烷基、环烷基烷基、芳烷基等上述例示的烃基组合而得的基团。

作为该碳原子数1～10的烃基可具有的取代基，可举出选自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子中的卤素原子；羟基；硝基；氨基；氰基；硫醇基；环氧基；环氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；形成环的原子数为6～12的杂芳基；甲氧基、乙氧基等碳原子数1～3的烷氧基；形成环的碳原子数为6～12的芳氧基等。

作为R^f11～R^f13表示的碳原子数1～10的烃基，优选为无取代的碳原子数1～10的饱和脂肪族烃基，更优选为无取代的碳原子数1～6的直链状的饱和脂肪族烃基，进一步优选为无取代的甲基、乙基、丙基或丁基，最优选为甲基。

作为R^f11～R^f13表示的烷基甲硅烷基，可举出三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三正丙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、乙基甲硅烷基等。

聚硅氮烷(F)优选为具有上述式(f1)中R^f11和R^f12中的至少一者为碳原子数1～10的烃基的结构单元(f2)、即有机聚硅氮烷。另外，R^f13优选为氢原子。

聚硅氮烷(F)更优选除了上述结构单元(f2)以外还进一步具有下述式(f3)表示的结构单元。

[式(f3)中，R^f31和R^f32各自独立地表示氢原子或碳原子数1～10的烃基，Y^f表示碳原子数1～10的2价烃基，多个X^f各自独立地表示水解性基团]

作为R^f31和R^f32表示的碳原子数1～10的烃基，可举出与上述R^f11～R^f13表示的碳原子数1～10的烃基中说明的基团同样的基团。其中，优选为碳原子数1～10的饱和脂肪族烃基，更优选为碳原子数1～6的直链状的饱和脂肪族烃基，进一步优选为甲基、乙基、丙基、或丁基。

作为Y^f表示的2价烃基，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。上述2价烃基优选为链状，在为链状的情况下，可以为直链状、支链状中的任一种。另外，上述2价烃基优选为2价脂肪族烃基，优选为烷二基。作为2价烃基，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等。

进而，上述2价烃基中包含的一部分－CH₂－可以取代为－O－。此时，连续的2个－CH₂－不会同时取代为－O－，与Si原子邻接的－CH₂－不会取代为－O－。2个以上的－CH₂－取代为－O－时，－O－与－O－之间的碳原子数优选为2～4，进一步优选为2～3。作为2价烃基的一部分取代为－O－的基团，具体而言，可以例示具有(聚)乙二醇单元的基团、具有(聚)丙二醇单元的基团等。

作为X^f表示的水解性基团，只要是通过水解而提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可以优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。其中，优选为碳原子数1～4的烷氧基，更优选为碳原子数1～2的烷氧基。多个X^f可以相同或不同，优选相同。

上述式(f3)的SiX^f ₃基相对于上述聚硅氮烷(F)100质量％，优选含有2质量％以上，更优选为5质量％以上，进一步优选为8质量％以上。上限没有限定，可以为50质量％以下，也可以为40质量％以下，还可以为30质量％以下。

聚硅氮烷(F)为有机聚硅氮烷时，Si－H的氢原子和键合于Si的碳原子数1～10的烃基的含有比可以适当选择，例如，烃基/氢原子的摩尔比为0.1～50，优选为0.2～10。应予说明，它们的摩尔比可以由NMR测定等算出。

将组合物的整体设为100质量％时的聚硅氮烷(F)的量优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上，更进一步优选为0.3质量％以上，另外，优选为2.5质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1.5质量％以下，更进一步优选为1质量％以下。

2.包含硅氧烷链的化合物(H)

本发明中的包含硅氧烷链的化合物(H)只要是具有至少1个硅氧烷键的化合物就没有特别限定，该硅氧烷链可以为直链状，也可以为支链状，优选为直链状。

作为硅氧烷链，优选包含二烷基硅氧烷链，更优选包含直链状二烷基硅氧烷链。另外，上述硅氧烷链也可以进一步包含硅氧烷键以外的2价基团，作为该2价基团，可举出2价烃基、2价烃基的一部分亚甲基(－CH₂－)取代为氧原子的基团和－O－等。

硅氧烷链的末端优选键合有甲硅烷基。甲硅烷基为硅原子上键合有3个取代基的基团，作为该取代基，可举出氢原子、含有烃链的基团、烷基甲硅烷氧基和水解性基团等。

上述含有烃链的基团是指至少一部分具有烃链的基团，通常，仅由烃基(烃链)构成，根据需要，也可以为该烃链的一部分亚甲基(－CH₂－)取代为氧原子的基团。另外，与Si原子邻接的亚甲基(－CH₂－)不会取代为氧原子，另外，连续的2个亚甲基(－CH₂－)也不会同时取代为氧原子。

应予说明，含有烃链的基团的碳原子数在氧非取代型的含有烃链的基团中是指构成烃基(烃链)的碳原子的个数，在氧取代型的含有烃链的基团中是指将氧原子假设为亚甲基(－CH₂－)而数出的碳原子的个数。

以下，只要没有特别说明，就以氧非取代型的含有烃链的基团(即1价烃基)为例对含有烃链的基团进行说明，任一说明中均可以将构成含有烃链的基团的亚甲基(－CH₂－)中的一部分取代为氧原子。

对于上述含有烃链的基团，在其为烃基的情况下，碳原子数优选为1～3，更优选为1。另外，上述含有烃链的基团可以为支链，也可以为直链。上述含有烃链的基团优选为含有饱和或不饱和的脂肪族烃链的基团，更优选为含有饱和脂肪族烃链的基团。作为上述含有饱和脂肪族烃链的基团，更优选饱和脂肪族烃基(烷基)。饱和脂肪族烃基中包含例如甲基、乙基、丙基等。

饱和脂肪族烃基的一部分亚甲基(－CH₂－)取代为氧原子时，具体而言，可以例示具有(聚)乙二醇单元的基团等。

作为上述水解性基团，只要是通过水解而提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可以优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～6的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。其中，优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为碳原子数1～4的烷氧基，进一步优选为碳原子数1～2的烷氧基。

作为上述烷基甲硅烷氧基，可举出单烷基甲硅烷氧基、二烷基甲硅烷氧基和三烷基甲硅烷氧基，其中，优选为三烷基甲硅烷氧基。作为三烷基甲硅烷氧基，可例示三甲基甲硅烷氧基、三乙基甲硅烷氧基三丙基甲硅烷氧基等。

1个硅原子具有多个取代基时，多个取代基可以相同或不同。

在硅氧烷链的末端优选键合有键合了至少1个水解性基团的硅原子，更优选键合有键合了2个以上水解性基团的硅原子，进一步优选键合有键合了3个水解性基团的硅原子。该水解性基团所结合的硅原子可以键合于硅氧烷链的单末端，也可以键合于硅氧烷链的两末端，优选仅键合于单末端侧。

在硅氧烷链的两末端更优选键合有具有3个烷氧基作为取代基的甲硅烷基(三烷氧基甲硅烷基)、具有3个烷基作为取代基的甲硅烷基(三烷基甲硅烷基)以及具有3个三烷基甲硅烷氧基作为取代基的甲硅烷基(三(三烷基甲硅烷氧基)甲硅烷基)中的任一者，特别优选在单末端侧键合有三烷氧基甲硅烷基、在另一末端侧键合有三烷基甲硅烷基或三(三烷基甲硅烷氧基)甲硅烷基。

作为本发明的包含硅氧烷链的化合物(H)的更优选的方式，是具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链(以下，有时将该分子链称为“分子链(ts1)”)键合于至少1个硅原子(以下，有时将该硅原子称为“中心硅原子”)的化合物。

包含硅氧烷链的化合物(H)中，键合于中心硅原子的分子链(ts1)的个数为1以上，优选为3以下，更优选为2以下，特别优选为1。

包含硅氧烷链的化合物(H)的中心硅原子除了分子链(ts1)以外，还可以键合水解性基团、原子数少于构成上述分子链(ts1)的原子数的含有硅氧烷骨架的基团或含有碳原子数少于构成分子链(ts1)的原子数的碳原子数的烃链的含有烃链的基团。

具体而言，上述包含硅氧烷链的化合物(H)优选为下述式(H1)表示的化合物。

式(H1)中，R^h1表示具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链，A^h1各自独立地表示水解性基团，Z^h1表示具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链、含有硅氧烷骨架的基团或含有烃链的基团，R^h1和Z^h1的三烷基甲硅烷基中包含的氢原子可以被取代为氟原子，x表示0～3的整数。

R^h1的具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链(分子链(ts1))为具有含有三烷基甲硅烷基的基团键合于上述硅氧烷链的末端的结构的1价基团。含有三烷基甲硅烷基的基团的烷基可以取代为氟烷基。

上述含有三烷基甲硅烷基的基团为包含至少1个三烷基甲硅烷基的基团，优选包含2个以上、进一步优选包含3个三烷基甲硅烷基。含有三烷基甲硅烷基的基团优选为式(s1)表示的基团。

式(s1)中，多个R^s1各自独立地表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中包含的氢原子可以被取代为氟原子。*表示键合位点。

上述式(s1)中，优选R^s1中的至少1个为三烷基甲硅烷氧基，或者R^s1全部为烷基。

R^s1为烃基时，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。R^s1为烃基时，优选脂肪族烃基，更优选烷基。作为该烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。多个R^s1可以相同或不同，优选相同。R^s1全部为烃基时(特别是烷基)，3个R^s1的合计的碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。优选3个R^s1中的至少1个为甲基，更优选至少2个为甲基，特别优选3个R^s1全部为甲基。

作为R^s1全部为烃基(烷基)的基团(三烷基甲硅烷基)，具体而言，可举出下述式表示的基团等。式中，*表示键合位点。

作为上述三烷基甲硅烷氧基，可举出R^s1全部为烃基(烷基)的基团(三烷基甲硅烷基)的硅原子上键合有氧原子的基团。上述式(s1)中，优选R^s1中的至少1个为三烷基甲硅烷氧基，更优选2个以上、进一步优选3个R^s1为三烷基甲硅烷氧基。

作为R^s1中的至少1个为三烷基甲硅烷氧基的基团，可举出下述式表示的基团。

分子链(ts1)中，含有三烷基甲硅烷基的基团优选键合于上述硅氧烷链的末端(自由端侧)、特别是硅氧烷链的主链(最长直链)的末端(自由端侧)。

键合有含有三烷基甲硅烷基的基团的硅氧烷链与上述说明的硅氧烷链同样，优选包含直链状二烷基硅氧烷链。另外，上述硅氧烷链也可以包含2价烃基。即便硅氧烷链的一部分为2价烃基，由于剩余部分为二烷基硅氧烷链，因此所得到的被膜的化学－物理耐久性也良好。

上述硅氧烷链优选为式(s2)表示的基团。

式(s2)中，多个R^s2各自独立地表示碳原子数1～10的烷基。Z^s1表示－O－或2价烃基，该2价烃基中包含的－CH₂－可以取代为－O－。Y^s1表示单键或－Si(R^s2)₂－L^s1－。L^s1表示2价烃基，该2价烃基中包含的－CH₂－可以取代为－O－。左侧的*表示与中心硅原子的键合位点，右侧的*表示与含有三烷基甲硅烷基的基团的键合位点。n1表示1以上的整数。

R^s2的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。

n1优选为1～100，更优选为1～80，进一步优选为1～60，更进一步优选为1～50，特别优选为1～30。

Z^s1或L^s1表示的2价烃基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，进一步优选为1～4。上述2价烃基优选为链状，在为链状的情况下，可以为直链状、支链状中的任一种。另外，上述2价烃基优选为2价脂肪族烃基，优选为烷二基。作为上述2价烃基，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等。

进而，上述2价烃基中包含的一部分－CH₂－可以取代为－O－。此时，连续的2个－CH₂－不会同时取代为－O－，与Si原子邻接的－CH₂－不会取代为－O－。2个以上的－CH₂－取代为－O－时，－O－与－O－之间的碳原子数优选为2～4，进一步优选为2～3。作为2价烃基的一部分取代为－O－的基团，具体而言，可以例示具有(聚)乙二醇单元的基团、具有(聚)丙二醇单元的基团等。

上述式(s2)中，优选Z^s1为－O－，Y^s1为单键，即上述硅氧烷链仅由二烷基甲硅烷氧基的重复构成。二烷基硅氧烷链仅由二烷基甲硅烷氧基的重复构成时，所得到的被膜的化学－物理耐久性良好。

作为分子链(ts1)中包含的硅氧烷链，可以举出下述式表示的硅氧烷链。式中，q1表示1～60的整数，*表示键合于中心硅原子或含有三烷基甲硅烷基的基团的键合位点。

另外，构成分子链(ts1)的原子的合计数优选为24以上，更优选为40以上，进一步优选为50以上，另外，优选为5000以下，更优选为4000以下，进一步优选为2000以下，进一步更优选为1200以下，特别优选为700以下，最优选为250以下。

分子链(ts1)优选为下述式(s3)表示的基团。

式(s3)中，R^s1、R^s2、Z^s1、Y^s1、n1与上述含义相同。*表示与中心硅原子的键合位点。

分子链(ts1)优选为下述式(s3－1)表示的基团，更优选为下述式(s3－1－1)表示的基团。

式(s3－1)和式(s3－1－1)中，R^s2、Y^s1、Z^s1、n1与上述含义相同。R^s3表示碳原子数1～4的烷基。*表示与中心硅原子的键合位点。

R^s3表示的烷基的碳原子数优选为1～3，更优选为1～2。另外，式(s3－1)和式(s3－1－1)中，－Si(R^s3)₃中包含的R^s3的合计的碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。进而，－Si(R^s3)₃所包含的R^s3中，优选至少1个R^s3为甲基，优选2个以上的R^s3为甲基，特别优选3个R^s3全部为甲基。

另外，分子链(ts1)进一步优选为下述式(s3－2)表示的基团，特别优选为下述式(s3－2－1)表示的基团。

式(s3－2)和(s3－2－1)中，R^s2、Y^s1、Z^s1、n1与上述含义相同。R^s4表示碳原子数1～4的烷基。*表示与中心硅原子的键合位点。

作为R^s4表示的碳原子数1～4的烷基，可举出上述R^s3中说明的基团，其优选的范围也同样。

作为分子链(ts1)，可举出式(s3－I)表示的基团。式(s3－I)中，*表示与中心硅原子的键合位点。

[表1]

[表2]

上述表1、表2中示出的n30优选为1～30。

接下来，对式(H1)中的A^h1进行说明。A^h1各自独立地为水解性基团，只要是通过水解而提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可以优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～6的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。其中，优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为碳原子数1～4的烷氧基，进一步优选为碳原子数1～2的烷氧基。

式(H1)中的Z^h1表示具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链、含有硅氧烷骨架的基团或含有烃链的基团。Z^h1为具有三烷基甲硅烷基和硅氧烷链的分子链时，可举出与上述R^h1同样的分子链。

Z^h1为含有硅氧烷骨架的基团时，该含有硅氧烷骨架的基团为含有硅氧烷单元(Si－O－)的1价基团，优选由个数少于构成R^h1的分子链(ts1)的原子数的原子构成。由此，含有硅氧烷骨架的基团成为长度短于分子链(ts1)或立体广度(体积大小)小的基团。含有硅氧烷骨架的基团可以包含2价烃基。

含有硅氧烷骨架的基团优选为下述式(s4)表示的基团。

式(s4)中，R^s2、Z^s1和Y^s1与上述含义相同。R^s5表示烃基或羟基，该烃基中包含的－CH₂－可以取代为－O－，该烃基中包含的氢原子可以被取代为氟原子。n3表示0～5的整数。*表示与中心硅原子的键合位点。

作为R^s5表示的烃基，可举出与R^s1表示的烃基同样的基团，优选脂肪族烃基，更优选烷基。碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。

n3优选为1～5，更优选为1～3。

含有硅氧烷骨架的基团的原子数的合计优选为600以下，更优选为500以下，进一步优选为350以下，进一步更优选为100以下，特别优选为50以下，最优选为30以下，另外，优选为10以上。另外，R^h1的分子链(ts1)与Z^h1的含有硅氧烷骨架的基团的原子数之差优选为10以上，更优选为20以上，优选为1000以下，更优选为500以下，进一步优选为200以下。

作为含有硅氧烷骨架的基团，具体而言，可举出下述式表示的基团。

Z^h1为含有烃链的基团时，只要烃链部分的碳原子数少于构成R^h1中的分子链(ts1)的原子数即可。另外，优选烃链的最长直链的碳原子数少于构成分子链(ts1)的最长直链的原子数。作为含有烃链的基团，可以例示与上述例示的含有烃链的基团同样的基团。

式(H1)中的x优选为2以下，更优选为0或1，进一步优选为0。

式(H1)表示的包含硅氧烷链的化合物(H)优选为下述式(H2)表示的化合物。

式(H2)中，R^s1、R^s2、Z^s1、Y^s1、n1、A^h1、Z^h1、x分别与上述含义相同。

式(H2)表示的包含硅氧烷链的化合物(H)优选为下述式(H2－1)表示的化合物，更优选为式(H2－1－1)表示的化合物。

式(H2－1)和式(H2－1－1)中，R^s2、R^s3、Y^s1、Z^s1、n1、A^h1与上述含义相同。

式(H2)表示的包含硅氧烷链的化合物(H)进一步优选为下述式(H2－2)表示的化合物，特别优选为式(H2－2－1)表示的化合物。

式(H2－2)和式(H2－2－1)中，R^s2、R^s4、Y^s1、Z^s1、n1、A^h1与上述含义相同。

作为式(H2)表示的包含硅氧烷链的化合物(H)，具体而言，可举出式(H－I)表示的化合物。

[表3－1]

[表3-2]

[表4-1]

[表4-2]

作为上述包含硅氧烷链的化合物(H)，更优选下述式(H3)和下述式(H4)表示的化合物。

[式(H3)中，n2为1～60的整数]

[式(H4)中，n4为1～60的整数]

上述n2和n4更优选为2以上的整数，进一步优选为3以上的整数，更优选为50以下的整数，进一步优选为45以下的整数，更进一步优选为30以下的整数，特别优选为25以下的整数。

包含硅氧烷链的化合物(H)的数均分子量(Mn)优选为300以上，更优选为350以上，进一步优选为400以上，另外，优选为5200以下，更优选为4000以下，进一步优选为3500以下，更进一步优选为3200以下，特别优选为3000以下，最优选为2500以下。

上述数均分子量(Mn)例如可以使用凝胶渗透色谱(GPC)按照以下的条件进行测定。应予说明，作为预处理，优选用洗脱液溶解后，将利用0.45μm膜过滤器进行过滤所得的溶液作为测定溶液。

[测定条件]

装置：岛津LC－10

柱：OligoPore，PLgeL MIXED-D

洗脱液：甲苯

流量：1.0-mL/min

检测器：RI检测器

柱温：35℃

注入量：50μL

分子量标准：标准聚苯乙烯110000、100000、43000、38000、6000、2600、600

将组合物的整体设为100质量％时的包含硅氧烷链的化合物(H)的量优选为0.005质量％以上，更优选为0.01质量％以上，进一步优选为0.03质量％以上，另外，优选为1.0质量％以下，更优选为0.5质量％以下，进一步优选小于0.3质量％，更进一步优选为0.2质量％以下，特别优选为0.15质量％以下。

上述包含硅氧烷链的化合物(H)的量可以在制备组合物时进行调整。上述包含硅氧烷链的化合物(H)的量可以根据组合物的分析结果而算出。应予说明，本说明书中，记载各成分的量、质量比的范围时，与上述同样地，该范围可以在制备组合物时进行调整。

本发明的组合物中，通过使用规定量的包含硅氧烷链的化合物(H)，使组合物与基材接触时的涂覆性提高。

作为包含硅氧烷链的化合物(H)的合成方法的例子，可举出日本特开2017－201009号公报中记载的方法。

3.金属化合物(G)

本发明的金属化合物(G)为选自下述式(G1)表示的金属化合物和其缩合物中的至少1种。

M(R^g10)_r(A^g1)_m-r (G1)

[式(G1)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或Ta，R^g10表示含有烃链的基团或氢原子，r为0或1。多个A^g1各自独立地表示水解性基团，m与金属原子M对应地为3～5的整数]

上述式(G1)表示的金属化合物为在金属原子M上至少键合有水解性基团A^g1的化合物。应予说明，本说明书中“金属”以还包含Si、Ge等半金属的含义使用。

作为金属原子M，优选为Al、Si、Ti、Sn或Zr，更优选为Al、Si、Ti或Zr，进一步优选为Si。

作为A^g1表示的水解性基团，只要是通过水解而提供羟基(硅烷醇基等)的基团即可，例如，可以优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～6的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。其中，优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为碳原子数1～4的烷氧基，进一步优选为碳原子数1～2的烷氧基。

R^g10表示的含有烃链的基团是指至少一部分具有烃基的基团，通常仅由烃基(烃链)构成，根据需要，也可以为该烃链的一部分亚甲基(－CH₂－)取代为氧原子的基团。另外，与金属原子M邻接的亚甲基(－CH₂－)不会取代为氧原子，另外，连续的2个亚甲基(－CH₂－)也不会同时取代为氧原子。

应予说明，含有烃链的基团的碳原子数在氧非取代型的含有烃链的基团中是指构成烃基(烃链)的碳原子的个数，在氧取代型的含有烃链的基团中是指将氧原子假设为亚甲基(－CH₂－)而数出的碳原子的个数。

以下，只要没有特别说明，就以氧非取代型的含有烃链的基团(即1价烃基)为例对含有烃链的基团进行说明，任一说明中均可以将构成含有烃链的基团的亚甲基(－CH₂－)中的一部分取代为氧原子。

对于上述含有烃链的基团，在其为烃基的情况下，碳原子数优选为1～18，更优选为碳原子数1～10，进一步优选为碳原子数1～6，进一步更优选为1。另外，上述含有烃链的基团可以为支链，也可以为直链。上述含有烃链的基团优选为含有饱和或不饱和的脂肪族烃链的基团，更优选为含有饱和脂肪族烃链的基团。作为上述含有饱和脂肪族烃链的基团，更优选饱和脂肪族烃基。饱和脂肪族烃基包含例如甲基、乙基、丙基等。

饱和脂肪族烃基的一部分亚甲基(－CH₂－)取代为氧原子时，具体而言，可以例示具有(聚)乙二醇单元的基团等。

m为金属原子M的价数，在金属原子M是Al、Fe、In等3价金属的情况下为3，在金属原子M是Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr等4价金属的情况下为4，在金属原子M是Ta等5价金属的情况下为5。

作为上述式(G1)表示的金属化合物，可举出r＝0、即在金属原子M上仅键合有水解性基团A^g1的金属化合物G11；或者r＝1、即在金属原子M上键合有1个含有烃链的基团或氢原子和2个以上水解性基团A^g1的金属化合物G12。

3－1.金属化合物G11

作为在金属原子M上仅键合有水解性基团A^g1的金属化合物G11，具体而言，可举出三乙氧基铝、三丙氧基铝、三丁氧基铝等三烷氧基铝；三乙氧基铁等三烷氧基铁；三甲氧基铟、三乙氧基铟、三丙氧基铟、三丁氧基铟等三烷氧基铟；四甲氧基锗、四乙氧基锗、四丙氧基锗、四丁氧基锗等四烷氧基锗；四甲氧基铪、四乙氧基铪、四丙氧基铪、四丁氧基铪等四烷氧基铪；四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷；四甲氧基钛、四乙氧基钛、四丙氧基钛、四丁氧基钛等四烷氧基钛；四甲氧基锡、四乙氧基锡、四丙氧基锡、四丁氧基锡等四烷氧基锡；四甲氧基锆、四乙氧基锆、四丙氧基锆、四丁氧基锆等四烷氧基锆；五甲氧基钽、五乙氧基钽、五丙氧基钽、五丁氧基钽等五烷氧基钽等。

3－2.金属化合物G12

在金属原子M上键合有1个含有烃链的基团或氢原子和2个以上水解性基团A^g1的金属化合物G12优选金属原子M为4价金属(Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr等)，更优选金属原子M为Si。作为金属原子M为Si时的具体例，可举出甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷等烷基三烷氧基硅烷；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等烯基三烷氧基硅烷；三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、三丙氧基硅烷等三烷氧基硅烷；二甲氧基甲基硅烷、二乙氧基甲基硅烷等二烷氧基烷基硅烷等。

作为上述式(G1)表示的金属化合物，具体而言，优选为下述式(G2)表示的化合物。

Si(OR^g21)_y(R^g22)_4-y (G2)

[式(G2)中，R^g21表示碳原子数1～6的烷基，R^g22表示含有烃链的基团或氢原子，y为3或4]

R^g21表示的烷基的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1或2。

作为R^g21表示的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等。

作为R^g22表示的含有烃链的基团，可举出与上述R^g10表示的含有烃链的基团中说明的基团同样的基团，优选的范围也同样。

作为式(G1)表示的金属化合物的缩合物，例如，可举出在多个式(G1)表示的金属化合物间通过水解性基团进行水解－缩合反应而形成的化合物。多个式(G1)表示的金属化合物可以相同或不同，优选相同。优选为式(G1)表示的金属化合物缩合2～60个而得的缩合物，更优选为缩合2～40个而得的化合物，进一步优选缩合2～20个而得的缩合物，更进一步优选为缩合2～10个而得的缩合物。可以使式(G1)表示的金属化合物水解缩合而得到缩合物，也可以适当地使用市售的硅氧烷低聚物、树脂。

金属化合物(G)优选为选自上述式(G2)表示的化合物和其缩合物中的至少1种。

作为上述式(G2)表示的化合物的缩合物，优选为在多个式(G2)表示的金属化合物间通过(OR^g21)基进行水解－缩合反应而形成的化合物，多个式(G2)表示的金属化合物可以相同或不同，优选相同。作为式(G2)表示的化合物的缩合物，优选为式(G2)表示的金属化合物缩合2～60个而得的缩合物，更优选为缩合2～40个而得的化合物，进一步优选缩合2～20个而得的缩合物，更进一步优选为缩合2～10个而得的缩合物。另外，作为式(G2)表示的化合物的缩合物，优选为四烷氧基硅烷的缩合物，更优选为四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷的缩合物，特别优选为四乙氧基硅烷的缩合物。作为式(G2)表示的化合物的缩合物，具体而言，可以例示COLCOAT株式会社制的硅酸乙酯40、硅酸乙酯48、硅酸甲酯51、硅酸甲酯53A等。

另外，也可以使用2种以上的金属化合物(G)。

将组合物的整体设为100质量％时的，金属化合物(G)的量优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上，更进一步优选为0.15质量％以上，另外，优选为10质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.8质量％以下。

将组合物的整体设为100质量％时的聚硅氮烷(F)，包含硅氧烷链的化合物(H)以及金属化合物(G)的合计量优选为0.3质量％以上，更优选为0.4质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上，另外，优选为5质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选小于2.6质量％，更进一步优选为1.5质量％以下，特别优选为1.2质量％以下。

相对于聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)以及金属化合物(G)的合计量，包含硅氧烷链的化合物(H)和金属化合物(G)的质量比((H+G)/(F+H+G))优选为1％以上，更优选为5％以上，进一步优选为8％以上，另外，优选为95％以下，更优选为85％以下，进一步优选为80％以下，更进一步优选为70％以下，特别优选为60％以下。如果上述质量比过小，则有时产生外观不良，另外，如果上述质量比过大，则有时无法对拒液层赋予优异的固化性。

本发明的混合组合物为混合有上述聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)和金属化合物(G)的组合物，通过将这些(F)～(H)混合而得到。

4.溶剂(I)

本发明的组合物中可以使用溶剂(I)。

作为溶剂(I)，可举出醇系溶剂、醚系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、酰胺系溶剂、脂肪族烃系溶剂、芳香族烃系溶剂等。

作为上述醇系溶剂，可举出甲醇、乙醇、丙醇、2－丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇、1－丙氧基2－丙醇等，作为上述醚系溶剂，可举出二甲氧基乙烷、四氢呋喃、二烷、二丁基醚等，作为酮系溶剂，可举出丙酮、甲基乙基酮(2－丁酮)等，作为酯系溶剂，可举出乙酸乙酯、乙酸丁酯等，作为酰胺系溶剂，可举出二甲基甲酰胺等，作为脂肪族烃系溶剂，可举出戊烷、己烷、庚烷、辛烷、异辛烷、环戊烷、环己烷、环庚烷、甲基环己烷、矿油精(MineraLspirit)等，作为芳香族烃系溶剂，可举出苯、甲苯、二甲苯、氯苯、二氯苯等。其中，优选酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂、脂肪族烃系溶剂，更优选脂肪族烃系溶剂。这些溶剂可以使用1种，也可以适当混合2种以上使用。从涂敷液的稳定性增加，能够减少涂覆偏位、涂覆时的异物的方面出发，溶剂(I)优选不具有水分。

将组合物的整体设为100质量％时的溶剂(I)的量优选为50质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为95质量％以上。上限根据聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)、金属化合物(G)以及它们以外的添加成分(以下，称为第三成分)的量而设定，除了聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)、金属化合物(G)和第三成分以外可以为溶剂(I)。

本发明的混合组合物优选除了上述的聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)和金属化合物(G)以外还混合溶剂(I)而得到。

制备本发明的混合组合物时，可以共存催化剂。本发明中，上述催化剂优选能够使聚硅氮烷固化的催化剂，例如，可举出1－甲基哌嗪、1－甲基哌啶、4,4’－三亚甲基二哌啶、4,4’－三亚甲基双(1－甲基哌啶)、二氮杂双环－[2,2,2]辛烷、顺式－2,6－二甲基哌嗪、4－(4－甲基哌啶)吡啶、吡啶、二吡啶、α－甲基吡啶、β－甲基吡啶、γ－甲基吡啶、哌啶、二甲基吡啶、嘧啶、哒嗪、4,4’－三亚甲基二吡啶、2－(甲基氨基)吡啶、吡嗪、喹啉、喹喔啉、三嗪、吡咯、3－吡咯啉、咪唑、三唑、四唑、1－甲基吡咯烷等N－杂环状化合物、例如甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、丙基胺、二丙基胺、三丙基胺、丁基胺、二丁基胺、三丁基胺、戊基胺、二戊基胺、三戊基胺、己基胺、二己基胺、三己基胺、庚基胺、二庚基胺、辛基胺、二辛基胺、三辛基胺、苯基胺、二苯基胺、三苯基胺等胺类、例如1,8－二氮杂双环[5,4,0]7－十一碳烯(DBU)、1,5－二氮杂双环[4,3,0]5－壬烯(DBN)、1,5,9－氮杂环十二烷、1,4,7－氮杂环壬烷等。

另外，作为催化剂，除了上述催化剂以外，还优选作为键合于硅原子的水解性基团的水解－缩合催化剂发挥作用的催化剂，作为该催化剂，例如，可举出酸性化合物；碱性化合物；有机金属化合物等。作为上述酸性化合物，可举出盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、过氧化氢、盐酸、次氯酸等无机酸；乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、马来酸、硬脂酸等有机酸等。作为上述碱性化合物，可举出氨等。作为上述有机金属化合物，可举出以Al、Fe、Zn、Sn等金属元素为中心金属的有机金属化合物，可举出羧酸铝、乙酰丙酮铝配合物、乙酰乙酸乙酯铝配合物等有机铝化合物；羧酸铁(辛酸铁等)等有机铁化合物；乙酰丙酮锌一水合物、环烷酸锌、辛酸锌等有机锌化合物；二乙酸二丁基锡配合物等有机锡化合物；此外，作为有机金属化合物，可举出包含Ni、Ti、Pt、Rh、Co、Ru、Os、Pd、Ir等的金属羧酸盐；包含Ni、Pt、Pd、Rh等的乙酰丙酮配合物；Au、Ag、Pd、Ni、Zn、Ti等的金属微粒；金属过氧化物；金属氯化物；二茂铁、二茂锆等金属的环戊二烯基配合物等。

本发明的组合物可以在不损害本发明的效果的范围共存例如抗氧化剂、防锈剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、防霉剂、抗菌剂、生物附着防止剂、除臭剂、颜料、阻燃剂、抗静电剂等各种添加剂。

由本发明的组合物得到的被膜通常形成在基材上，作为与基材接触的方法，例如可举出将组合物涂敷于基材的方法，可举出旋涂法、浸涂法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、手工涂布(使液体渗入布等中并涂抹于基材的方法)、冲流(使用滴管等将液体直接施加于基材并涂布的方法)、喷雾(使用喷雾对基材进行的方法)等。特别是，从作业性的观点考虑，优选为喷涂法、手工涂布、冲流、旋涂法，更优选为冲流、旋涂法。

通过将如此与基材上接触的组合物在空气中、常温下静置，从而与空气中的水分反应，进行分解和甲硅烷氧基化，能够在基材上形成含有Si－O骨架的被膜。静置时间没有特别限定，优选为1分钟以上，更优选为2分钟以上。另外，从实用性的观点考虑，优选为12小时以下，更优选为1小时以下，进一步优选为30分钟以下，更进一步优选为10分钟以下。

被膜的膜厚例如可以为0.1～200nm左右。优选为0.2～100nm，更优选为0.3～50nm。

与本发明的组合物接触的基材没有特别限定，基材的形状可以为平面、曲面中的任一种，也可以是多个面组合而得的三维结构。

另外，基材的材质也没有限定，可以由有机系材料、无机系材料中的任一种构成。作为上述有机系材料，例如，可举出丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂、丙烯酸－苯乙烯共聚树脂、纤维素树脂、聚烯烃树脂等热塑性树脂；酚醛树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯、有机硅树脂、氨基甲酸酯树脂等热固性树脂等。作为上述无机系材料，例如，可举出陶瓷；玻璃；铁、硅、铜、锌、铝等金属；包含上述金属的合金等。

可以预先对上述基材实施易粘接处理。作为上述易粘接处理，例如，可举出电晕处理、等离子体处理、紫外线处理等亲水化处理。另外，也可以利用树脂、硅烷偶联剂、四烷氧基硅烷等来实施底涂处理，还可以预先将聚硅氮烷等玻璃被膜涂布于基材。

优选在由本发明的组合物而得到的被膜的表面进一步形成拒液层。即，优选在基材上形成由本发明的组合物(以下，有时称为中间层形成用组合物)得到的中间层，并进一步在中间层的表面(与基材相反的一侧的表面)形成拒液层。虽然详细机理尚不明确，但通过将本发明的组合物用作拒液层与基材之间的中间层形成用组合物，受到由中间层形成用组合物的水解缩合反应而生成的产物影响等，与在基材上仅形成拒液层的情况相比，促进拒液层中的硅烷醇基的脱水缩合反应的可能性高。此时，通过将本发明的组合物用作中间层形成用组合物，拒液层的交联密度变高，耐磨损性显著提高。另外，以往，在将拒液层以实用的速度形成时需要加热，但通过将本发明的组合物用作拒液层与基材之间的中间层形成用组合物，也能够以实用的速度进行拒液层的常温固化。

以下，对拒液层(拒液膜)进行说明。

作为用于得到拒液膜的组合物(以下，有时称为拒液层形成用组合物)，优选将至少1个含有三烷基甲硅烷基的分子链和至少1个水解性基团键合于硅原子(以下，有时称为中心硅原子)的有机硅化合物(A)与金属化合物(B)混合。

1.有机硅化合物(A)

作为有机硅化合物(A)，优选使用上述包含硅氧烷链的化合物(H)中说明的式(H1)中x为0或1的化合物。通过在分子链上键合有含有三烷基甲硅烷基的基团，由拒液层形成用组合物形成的被膜的拒水－拒油性、耐硫酸性和耐温水性提高，并且液滴变得容易移动。含有三烷基甲硅烷基的基团的烷基取代为氟烷基时，也同样地能够提高该被膜界面的拒液性(拒水性和/或拒油性，以下有时称为“拒水－拒油性”)。

作为有机硅化合物(A)，与上述包含硅氧烷链的化合物(H)中说明的方式同样，其优选的范围也同样。其中，特别优选下述式(H3)表示的化合物。

[式(H3)中，n2为1～60的整数]

上述n2更优选为2以上的整数，进一步优选为3以上的整数，更优选为45以下的整数，进一步优选为30以下的整数，特别优选为25以下的整数。

将拒液层形成用组合物的整体设为100质量％时的上述有机硅化合物(A)的量优选为0.005～10质量％，更优选为0.01～5质量％，进一步优选为0.01～1质量％。

2.金属化合物(B)

作为金属化合物(B)，优选为下述式(b1)表示的金属化合物。

M(R^b10)_r(A^b1)_m-r(b1)

[式(b1)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或Ta，R^b10表示含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或氢原子，r为0或1。多个A^b1各自独立地表示水解性基团，m与金属原子M对应地为3～5的整数]

优选的上述金属化合物(B)如上述式(b1)所示，是在金属原子M上至少键合有水解性基团A^b1的化合物。应予说明，本说明书中“金属”以还包含Si、Ge等半金属的含义使用。

如上所述，认为由拒液层形成用组合物得到的拒液膜通过来自有机硅化合物(A)的三烷基甲硅烷基而提高了拒水－拒油功能，基于金属化合物(B)的结构在拒液膜中作为隔离物发挥作用。

M优选为Al、Si、Ti、Sn或Zr，更优选Si。

A^b1表示的水解性基团和R^b10表示的含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团可以从上述包含硅氧烷链的化合物(H)中说明的水解性基团、含有硅氧烷骨架的基团和含有烃链的基团中适当地选择，优选的范围也同样。

m为金属原子M的价数，在金属原子M是Al、Fe、In等3价金属的情况下为3，在金属原子M是Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr等4价金属的情况下为4，在金属原子M是Ta等5价金属的情况下为5。

上述拒液层形成用组合物可以使用2种以上的金属化合物(B)。另外，也可以使用金属化合物(B)的缩合物。

作为上述金属化合物(B)，具体而言，优选为下述式(b2)表示的化合物。

Si(OR^b11)_zH_4-z (b2)

[式(b2)中，R^b11表示碳原子数1～6的烷基，z为3或4]

R^b11表示的烷基的碳原子数优选为1～4，更优选为1或2。

作为R^b11表示的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。

将拒液层形成用组合物的整体设为100质量％时的上述金属化合物(B)的量优选为0.01～50质量％，更优选为0.05～10质量％，进一步优选为0.05～1质量％。

上述拒液层形成用组合物为将上述有机硅化合物(A)与金属化合物(B)混合而得的组合物，通过将这些(A)～(B)混合而得到。

3.催化剂(C)

制备拒液层形成用组合物时，可以使作为键合于硅原子的水解性基团的水解－缩合催化剂发挥作用的催化剂(C)与上述有机硅化合物(A)和金属化合物(B)一起共存，作为上述催化剂(C)，可以使用酸、碱等，其中，优选使用酸。作为酸，可以为无机酸，也可以为有机酸，从容易控制水解－缩合反应的方面考虑，特别优选使用有机酸。作为催化剂(C)，使用酸，如后所述，通过抑制所使用的水量，能够使拒液膜形成时的反应平缓地进行，能够形成良好的拒液膜。

作为上述酸，具体而言，可举出硝酸、盐酸、马来酸、磷酸、丙二酸、甲酸、苯甲酸、苯基乙酸、乙酸、丁酸、2－甲基丙酸、丙酸、2,2－二甲基丙酸等，优选为有机酸，更优选为马来酸(pKa＝1.92)、甲酸(pKa＝3.75)、乙酸(pKa＝4.76)。

上述催化剂(C)可以仅使用1种，也可以组合2种以上使用。

将拒液层形成用组合物的整体设为100质量％时的上述催化剂(C)的量优选为0.0001～30质量％，更优选为0.00015～1质量％。

4.水(D)

拒液层形成用组合物中优选使用水(D)，通过使用水(D)来促进水解性基团的水解。作为水(D)，可以为空气中的水分，也可以通过添加而积极地混入到组合物中。

制备上述拒液层形成用组合物时使用的上述水(D)的量优选为超过0质量％且小于2.20质量％。通过使上述水的量小于2.20质量％，能够使拒液膜形成时的反应平缓地进行，能够形成良好的拒液膜。

5.溶剂(E)

上述拒液层形成用组合物中可以进一步使用溶剂(E)。作为溶剂(E)，可以使用上述溶剂(I)中例示的溶剂，其中，优选醇系溶剂或醚系溶剂，更优选醇系溶剂。

将拒液层形成用组合物的整体设为100质量％时的上述溶剂(E)的量优选为10～99.9质量％。

上述拒液层形成用组合物优选除了上述有机硅化合物(A)和金属化合物(B)以外还混合催化剂(C)、水(D)、溶剂(E)等而得到。

上述拒液层形成用组合物中可以在不损害本发明的效果的范围共存例如抗氧化剂、防锈剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、防霉剂、抗菌剂、生物附着防止剂、除臭剂、颜料、阻燃剂、抗静电剂等各种添加剂。

通过将上述拒液层形成用组合物固化而得到拒液膜。

作为使上述拒液层形成用组合物与由本发明的组合物得到的被膜(中间层)接触的方法，与使上述中间层与基材接触的方法中说明的方法同样。

通过在使上述拒液层形成用组合物与中间层接触的状态下加热1～10时间左右(例如，80～300℃)，促进拒液层的水解性基团的水解和硅烷醇基的脱水缩合反应，能够在中间层上形成拒液层，但通过将本发明的组合物用作中间层形成用组合物，受到由中间层形成用组合物的水解缩合反应而生成的产物影响等，即便不进行加热也有可能促进拒液层的硅烷醇基的脱水缩合反应。即，通过将本发明的组合物用作中间层形成用组合物，从而通过在空气中、常温常湿下静置也能够以实用的速度形成拒液膜。静置时间没有特别限定，优选为1小时以上，更优选为3小时以上，进一步优选为12小时以上。另外，从实用性的观点考虑，优选为48小时以下，更优选为24小时以下。

拒液膜的膜厚例如可以为0.5～100nm左右。

实施例

以下，举出实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明当然不受下述实施例限制，也可以在能够适合上述和后述的主旨的范围适当地加以变更而实施，它们均包含于本发明的技术范围中。

[制造例1]

(拒水层形成用组合物的制作)

使上述式(H3)表示的化合物中n2的平均值为24的化合物(以下，记为化合物1)0.014质量份、三乙氧基硅烷0.036质量份溶解于2－丙醇0.1027质量份，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.1M乙酸水溶液(乙酸：7.73×10^-5质量份，水：0.013质量份)后，在65℃搅拌2小时，得到试样溶液1。

将得到的试样溶液1用2－丙醇46.7质量份稀释，制作组合物A。

将有机硅化合物(A)、金属化合物(B)、催化剂(C)、水(D)和溶剂(E)的种类和/或量如表5那样变更，除此以外，与组合物A同样地得到组合物B和C。

[表5]

(中间层形成用组合物的制作)

使Durazane(注册商标)1500rapid cure(MERCK公司制)0.15质量份、化合物(1)0.015质量份、四乙氧基硅烷0.09质量份溶解于异辛烷29.75质量份，得到中间层形成用组合物(组合物1)。应予说明，Durazane(注册商标)1500rapid cure具有以下的下述式(f4)表示的结构单元。

式(f4)中，R表示氢原子或甲基。

Durazane(注册商标)1500rapid cure具有9～27质量％的Si(OC₂H₅)₃基，另外，上述(f4)中的结构中的Si－CH₃基的甲基与SiH基的氢原子的摩尔比(甲基/氢原子)为2.39。

上述Si(OC₂H₅)₃基的质量比和甲基与氢原子的摩尔比基于¹H－NMR(400MHz，基准：CDCL₃(＝7.24ppm))的积分值来确定。即，根据积分值求出聚硅氮烷中的SiH、SiCH₃和Si(OCH₂CH₃)₃的摩尔比，算出甲基与氢原子的摩尔比。另外，分别换算成质量比，算出聚硅氮烷中包含的Si(OC₂H₅)₃基的质量％。

将聚硅氮烷(F)、包含硅氧烷链的化合物(H)、金属化合物(G)和溶剂(I)的种类和/或量如表6那样变更，除此以外，与组合物1同样地得到组合物2～13。

[表6]

表6中，化合物1～4如下。

化合物1：上述式(H3)表示的化合物中n2的平均值为24的化合物(根据结构式而算出的分子量；2212.52)

化合物2：上述式(H4)表示的化合物中n4的平均值为24的化合物(根据结构式而算出的分子量；1990.66)

化合物3：上述式(H4)表示的化合物中n4的平均值为3的化合物(根据结构式而算出的分子量；432.84)

化合物4：上述式(H3)表示的化合物中n2的平均值为3的化合物(根据结构式而算出的分子量；655.3)

[实施例1～15]

(被膜的制作)

将通过大气压等离子体处理使表面活化的玻璃基板5×5cm²(EAGLE XG，Corning公司)设置成仰角45°。将中间层形成用组合物500μL从玻璃基板上表面冲流，在常温常湿下干燥5分钟。进一步从其上冲流拒液层形成用组合物500μL，在常温常湿下风干1天，由此在玻璃基板上形成被膜。

[比较例1]

将通过大气压等离子体处理使表面活化的玻璃基板5×5cm²(EAGLE XG，Corning公司)设置成仰角45°。将拒液层形成用组合物500μL从玻璃基板上表面冲流，在常温常湿下风干1天，由此在玻璃基板上形成被膜。

通过以下要领对上述实施例和比较例中得到的被膜进行评价。

(接触角)

使用协和界面科学公司制的接触角测定装置“DM700”，将水滴量设为3.0μL，通过解析方法：θ/2法测定被膜表面相对于水的接触角。将接触角为95°以上的情况评价为拒水性优异。

(滑落速度)

向被膜表面滴加水，通过被膜表面的水滴的滑落速度来评价拒水性。具体而言，使用协和界面科学株式会社制的接触角测定装置“DM700”，向倾斜为20°的玻璃基板上的被膜表面滴加50μL的水，测定水滴从初始滴加位置到滑落15mm为止的时间，算出被膜表面的水滴的滑落速度(mm/秒)。将水滴的滑落速度为20mm/秒以上的情况评价为拒水性优异。

(耐磨损性)

在被膜上滴加水2.5mL，在其上接触硅片(SR－400，Tigers Polymer公司制)。然后，在从硅片上施加负荷500g的状态下，以往返速度为每分钟400mm的条件，以400次为单位，在20mm的距离将硅片与被膜擦拭，分别测定磨损的部位的中央部分3处的接触角，测定3处中2处降低至85°以下的次数。将次数为400次以上的情况评价为耐磨损性优异。

将所使用的中间层形成用组合物和拒液层形成用组合物的种类和得到的被膜的评价结果示于表7。

[表7]

作为中间层形成用组合物，使用选自式(G1)表示的金属化合物和其缩合物中的至少1种金属化合物(G)、聚硅氮烷(F)以及包含硅氧烷链的化合物(H)的混合组合物，并进一步在中间层上形成拒液层的实施例1～15中，能够在不损害拒液性的情况下制作具有优异的耐磨损性和常温固化性的被膜。

产业上的可利用性

将本发明的组合物用作中间层形成用组合物，通过在中间层上形成拒液膜而得到的被膜不损害拒液性(特别是拒水性)，耐磨损性优异，优选常温固化性也优异。因此，作为触摸面板显示器等显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、汽车部件、纳米压印技术等中的基材是有用的。进而，可适用作电车、汽车、船舶、飞机等运输设备中的主体、窗玻璃(前玻璃、侧玻璃、后玻璃)、后视镜、减震器等物品。另外，也可以用于建筑物外壁、帐篷、太阳光发电模块、隔音板、混凝土等户外用途。也可以利用于鱼网、捕虫网、水槽等。进而，也可以利用于厨房、浴室、盥洗台、镜子、卫生间周边的各构件的物品、枝形吊灯、瓷砖等陶磁器、人工大理石、空调等各种室内设备。另外，也可以作为工厂内的夹具、内壁、配管等的防污处理来使用。也适于护目镜、眼镜、防护帽、弹球机、纤维、伞、玩具、足球等。进而，也可以用作食品用包装材料、化妆品用包装材料、罐的内部等各种包装材料的附着防止剂。