一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法
阅读说明：本技术 一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法 (Anti-skid and anti-fouling method in polished brick preparation process ) 是由 祁明 钟保民 徐瑜 于 2019-10-31 设计创作，主要内容包括：一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法,包括以下步骤：S1、将瓷砖进行抛光加工,抛光至40-50度；S2、采用清洗液将抛光后的砖面进行清洗,然后用水冲洗砖面；S3、使用抛光机把防滑蜡水加工至砖面及打进砖面的毛细孔内；所述步骤S3后可选择地进行步骤S4和步骤S5中的任意一个或组合的步骤；S4、用抛光机把防污剂A打在砖面上；S5、用打蜡机把防污剂B打在砖面上,防污剂B是氟化硅类防污液。本发明制备的瓷砖,其光泽度大于等于91度,摩擦系数为0.75(干法)和0.65(湿法),防污能力为五级；对比现有的普通防滑砖,其光泽度接近现今普通未经防滑防污处理的砖,具有很好的镜面效果,具有优异的防滑能力和防污能力。(An anti-slip and anti-fouling method in the preparation process of a polished tile comprises the following steps: s1, polishing the ceramic tile to 40-50 ℃; s2, cleaning the polished brick surface by using a cleaning solution, and then washing the brick surface by using water; s3, processing the anti-skid wax water to the brick surface and into the capillary holes on the brick surface by using a polishing machine; the step S3 is optionally followed by any one or a combination of steps S4 and S5; s4, using a polishing machine to polish the antifouling agent A on the brick surface; s5, using a waxing machine to apply the antifouling agent B on the brick surface, wherein the antifouling agent B is a silicon fluoride antifouling liquid. The ceramic tile prepared by the invention has the glossiness more than or equal to 91 degrees, the friction coefficient of 0.75 (dry method) and 0.65 (wet method), and the antifouling capacity of five grades; compared with the existing common anti-skid brick, the glossiness of the anti-skid brick is close to that of the common brick without anti-skid and anti-fouling treatment, and the anti-skid brick has a good mirror effect and excellent anti-skid capacity and anti-fouling capacity.)
技术领域
本发明涉及瓷砖制备工艺技术领域，尤其涉及一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法。
背景技术
人们的生活水平越来越高了，对瓷砖的追求不止装饰效果，对瓷砖的安全要求越来越高，需要在不影响装饰效果的同时，又需要有防滑效果；这无疑是现阶段中抛光砖的一个问题；面有的抛光砖虽然光泽度高，但其由于光滑的表面，其表面没有粗糙感，不能很好地达到防滑的效果；虽然现有的技术在砖面上布置一个防滑层，但基于防层的存在，防污性又下降了。
发明内容
本发明的目的在于提出一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，其于步骤S3中使用防滑蜡水并配合抛光，步骤S4中使用防污剂A并配合抛光，以及在步骤S5中使用防污剂B并配合打蜡。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，包括以下步骤：
S1、将瓷砖进行抛光加工，抛光至40-50度；
S2、采用清洗液将抛光后的砖面进行清洗，然后用水冲洗砖面；
S3、使用抛光机把防滑蜡水加工至砖面及打进砖面的毛细孔内；
所述步骤S3后可选择地进行步骤S4和步骤S5中的任意一个或组合的步骤；
S4、用抛光机把防污剂A打在砖面上；
S5、用打蜡机把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
更进一步说明，所述步骤S3中，防滑蜡水包括；防滑料A与防滑料B；
所述防滑料A的分子结构式为：
R1和R2分别为烷基；
所述防滑料B的分子结构式为：
更进一步说明，所述步骤S4中，防污剂A包括：防污材料A；防污材料A的结构为：
更进一步说明，所述步骤S5中，防污剂B包括：防污材料B；防污材料B的结构式为：
R1和R2分别为烷基。
更进一步说明，R1和R2分别为-CH2-CH2-；防污材料B的分子结构式如下：
更进一步说明，防滑料A与防滑料B之间的质量比为(1-3)：1。
更进一步说明，防污剂A包括：低沸点溶剂；所述低沸点溶剂包括：乙醇、丙酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、水中的一种或组合。
更进一步说明，所述低沸点溶剂与防污料A之间的质量比为1：(3-5)。
更进一步说明，所述步骤S2中，清洗液为弱酸或弱碱清洗液，清洗液在砖面的停留时间为6-10秒。
更进一步说明，所述步骤S2中，清洗液包括：水性聚合物、有机酸、无机酸、有机碱和无机碱中的任意一种或组合。
更进一步说明，还包括：步骤S11；所述步骤S11进行于所述步骤S1和步骤S2之间；
所述步骤S11为把纳米硅溶液通过抛光机抛在步骤S1的砖面。还包括：步骤S11；所述步骤S11进行于所述步骤S1和步骤S2之间；
所述步骤S11为把纳米硅溶液通过抛光机抛在步骤S1的砖面。还包括：步骤S11；所述步骤S11进行于所述步骤S1和步骤S2之间；
所述步骤S11为把纳米硅溶液通过抛光机抛在步骤S1的砖面。
本发明的有益效果：
本发明制备的瓷砖，其光泽度大于等于91度，摩擦系数为0.75(干法)和0.65(湿法)，防污能力为五级；对比现有的普通防滑砖，其光泽度接近现今普通未经防滑防污处理的砖，具有很好的镜面效果，具有优异的防滑能力和防污能力。
具体实施方式
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，包括以下步骤：
S1、将瓷砖进行抛光加工，抛光至40-50度；
将烧制后的瓷砖通过抛光机把砖面精抛至光泽度40到50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。具有一定的光泽度砖坯为下面抛光做准备。
此处视情况而定，完成步骤S1后可选择进行步骤S11后进行步骤S2，或完成S1后直接进行步骤S2.
S11、把纳米硅溶液通过抛光机抛在步骤S1的砖面。
通过抛光机10-12个磨盘(每个磨盘有10-12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200-300转/min，压力在9-12MPa，把纳米硅溶液(如现有的超洁亮)抛在砖面，把砖面原本的毛细孔封堵住，使得砖面具有一定通透感光泽度的效果，砖面整体效果好。
S2、采用清洗液将抛光后的砖面进行清洗，然后用水冲洗砖面；
通过弱酸(弱碱)清洗液(酸性PH在6至7，碱性PH7至8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在8至10秒，然后用自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净，防止砖面的毛细孔残留有抛光废渣以及酸性(碱性)的清洗液。
其中弱酸(弱碱)包含有水性聚合物、有机酸、无机酸、有机碱、无机碱等。该工艺是为下一步打防滑蜡水做准备，让防滑蜡水挤压进毛细孔里面，这样防滑蜡水更牢固的在砖面上。
S3、使用抛光机把防滑蜡水加工至砖面及打进砖面的毛细孔内；
通过抛光机(有一定压力的洗刷机器也可以)10-12个磨盘(每个磨盘有10-12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200-300转/min，压力在9-12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。防滑蜡水属于中性或者阳离子型的金属聚合物，该防滑蜡水能在干燥情况下析晶，使得表面在微观的时候粗糙。同时该防滑蜡水也具有一定的填充作用。借助毛细孔的作用，使得晶体防滑层牢牢的固定在砖面上。(这边的转速和压力具体根据砖的表面效果来定的，可以相同也可以不同)
所述步骤S3后可选择地进行步骤S4和步骤S5中的任意一个或组合的步骤；
S4、用抛光机(抛刷机器)把防污剂A打在砖面上；
通过3工艺处理后的砖，砖面的温度达到50至60度。用抛光机3-5磨盘(每个磨盘有10-12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200-300转/min，压力在4-6MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。(这边的转速和压力具体根据砖的表面效果来定的，可以相同也可以不同)。
S5、用打蜡机(这个只是一个名词，有一定压力的抛刷机器也可以)把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
通过4工艺处理后的砖，用打蜡机的2-3个磨盘(每个转盘有3-5个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速10-20转/min，压力0-1MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液，该防污剂能具有一定的防污能力并伴随着一定止滑性能。(这边的转速和压力具体根据砖的表面效果来定的，可以相同也可以不同，)
更进一步说明，所述步骤S3中，防滑蜡水包括；防滑料A与防滑料B；
所述防滑料A的分子结构式为：
R1和R2分别为烷基；
R3和R4分别为一般端基，如可以为氢原子(-H)、羟基(-COOH)、羧基(-OH)、烃基(-CaHb)中的一种；
所述防滑料B的分子结构式为：
R9、R10、R11、R12分别为一般端基，如可以为氢原子(-H)、羟基(-COOH)、羧基(-OH)、烃基(-CaHb)中的一种；上述中的结构式中的s、t、z等表示聚合度。
本申请的防滑蜡水通过防滑料A与防滑料B的使用，防滑材料具有独特的填充性，该防滑蜡水能在干燥情况下析晶，使得表面在微观的时候粗糙。同时该防滑蜡水也具有一定的填充作用，借助毛细孔的作用，使得晶体防滑层牢牢的固定在砖面上。由于其透明性、常温下析晶效果和防滑效果都优异，可以取代目前的超洁亮。
更进一步说明，所述步骤S4中，防污剂A包括：防污材料A；防污材料A的结构为：
R5、R6、R9、R10为端基，可以为氢原子(-H)、烃基(-CaHb)等分子链；或其他单官能团的封端基团，如羟基(-COOH)、羧基(-OH)、氨基中的一种。本防污材料A，有较好的渗透能力和防滑性，能渗透于防滑蜡水所在表面，达到提高表面防滑和防污能力，亦使防滑和防污能力持续时间更长，尤其是经抛光工艺后，能充分地利用其渗透能力，与防滑蜡水层结合，配合防滑蜡水层达到防滑防污的效果。
更进一步说明，所述步骤S5中，防污剂B包括：防污材料B；防污材料B的结构式为：
R1和R2分别为烷基。
R7、R8为端基，可以为氢原子(-H)、烃基(-CaHb)等分子链；或其他单官能团的封端基团，如羟基(-COOH)、羧基(-OH)、氨基中的一种。
更进一步说明，R1和R2分别为-CH2-CH2-；防污材料B的分子结构式如下：
防污剂B带有防污材料B，其具有防污防滑效果，涂于平面产品中能提高表面粗糙度和耐污染能力，解决了现有防污液功能单一，没有防滑功能的问题。
更进一步说明，防滑料A与防滑料B之间的质量比为(1-3)：1。
更进一步说明，防污剂A包括：低沸点溶剂；所述低沸点溶剂包括：乙醇、丙酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、水中的一种或组合。
在步骤S4的抛光中，抛光操作会使砖体表面的温度提高，而当温度达到低沸点溶剂的沸点时，即很容易将低沸点溶剂蒸发或加速其挥发，砖体表面只存在防污材料A。
更进一步说明，所述低沸点溶剂与防污料A之间的质量比为1：(3-5)。
更进一步说明，所述步骤S2中，清洗液为弱酸或弱碱清洗液，清洗液在砖面的停留时间为6-10秒。
更进一步说明，所述步骤S2中，清洗液包括：水性聚合物、有机酸、无机酸、有机碱和无机碱中的任意一种或组合。
一种抛光面防滑瓷砖，包括：砖体和功能层；
所述功能层包括：表面层和防滑蜡水晶体层；
所述表面层设置于所述砖体的表面；所述表面层经清洗液清洗后留置有毛细孔，所述防滑蜡水晶体层填充于所述毛细孔内，并位于所述表面层的上表面。
所述功能层包括：防污剂A层和防污剂B层；
所述防污剂A层设置于所述防滑蜡水晶体层的上表面，所述防污剂B层设置于所述防污剂A层的上表面。
性能测试：
光泽度：
a、严格按照《GB/T4100-2015》，将瓷砖进行光泽度性能测试。
防滑性：
b、严格按照《GB/T4100-2015》，将瓷砖进行摩擦系数测量。
防污能力：
c、严格按照《GB/T4100-2015》，将瓷砖进行防污性能测试。
对比例a1、
S2、通过弱酸清洗液(酸性PH为6)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面。
S3、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机3磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。
S5、用打蜡机的2个磨盘(每个转盘有3个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速10转/min，压力1MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
对比例a2、
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度40度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、用大量的自来水冲洗砖面。
S3、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa。
S4、用抛光机3磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。
S5、用打蜡机的2个磨盘(每个转盘有3个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速10转/min，压力1MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
对比例a3、
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度40度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱酸清洗液(酸性PH为6)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面。
S3、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、把渗透性的防污剂A涂抹在砖面上，烘干完全。
S5、用打蜡机的2个磨盘(每个转盘有3个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速10转/min，压力1MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
对比例a4、
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度40度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱酸清洗液(酸性PH为6)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机3磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
S5、将防污剂B涂抹在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液，烘干完全。
实施例A1、
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度40度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱酸清洗液(酸性PH为6)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机3磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
S5、通过4工艺处理后的砖，用打蜡机的2个磨盘(每个转盘有3个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速10转/min，压力1MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
上述中防滑蜡水包括；防滑料A与防滑料B；防滑料A与防滑料B之间的质量比为2：1；所述防滑料A的分子结构式为：
R1和R2分别为-CH2-CH2-；
防滑料B的分子结构式为：
防污剂A包括：防污材料A和低沸点溶剂；低沸点溶剂与防污料A之间的质量比为1：3；防污材料A的结构为：
低沸点溶剂为丙酮；
防污材料B的结构式为
将上述对比例a1-a4与实施例A1作光泽度、防滑性和防污性能测试，制得表1。
表1-对比例a1-a4与实施例A1的性能检测
说明：
1、由对比例a1-a2和实施例A1对比可知，对比例a1没有经抛光处理，光泽度大幅度下降，仅为60度，摩擦系数亦有相当的下降，为0.70(干法)和0.62(湿法)，比实施例A1的性能低，不能做到高光泽度的同时，又具有高防滑性。
而对比例a2没有经过清洗液的清洗，在S1步骤中的砖没有形成微孔结构，在光泽度方面，亦稍有下降；重要的是，由于后续的防滑蜡水不能很好的配合于微孔结构，其防滑性大幅度下降，仅为0.55(干法)和0.44(湿法)，影响了最终的防滑性，使步骤S3-S5的性能不能充分发挥。
2、由对比例a3与实施例A1可知，对比例a3的步骤S4仅通过简单的将防污剂A涂抹在砖面，没有使用抛光工艺，表面效果差，使后续步骤S5不能发挥出来，产品最终的光泽度稍有下降，防滑性亦下降，为0.64(干法)和0.54(湿法)，虽性能比市面上的其他砖的表面效果好，但对于实施例A1仍不足。同时，由于防污剂A的工艺没有布施好，其渗透效果没有发挥，产品的防污能力下降，仅为四级。
3、由对比例a4与实施例A1可知，对比例a4的步骤S5仅通过普通地涂抹在砖面，没有使用打蜡机，防污材料B没有运用适合的方法布料，亦影响了产品最终的性能。由于防污材料B是最表面层，其直接影响了砖体表面的光泽度，因此在没有使用打蜡机的情况下，光泽度仍不高，防污性能亦不好。
实施例B：
实施例B1、
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
实施例B2
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机5磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
实施例B3
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S5、用打蜡机的3个磨盘(每个转盘有5个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速20转/min，压力0.5MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
实施例B4
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机5磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
S5、用打蜡机的3个磨盘(每个转盘有5个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速20转/min，压力0.5MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
实施例B5
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S5、用打蜡机的3个磨盘(每个转盘有5个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速20转/min，压力0.5MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
S4、用抛光机5磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
上述中防滑蜡水包括；防滑料A与防滑料B；防滑料A与防滑料B之间的质量比为3：1；所述防滑料A的分子结构式为：
防滑料B的分子结构式为：
防污剂A包括：防污材料A和低沸点溶剂；低沸点溶剂与防污料A之间的质量比为1：4；防污材料A的结构为：
低沸点溶剂为乙醇；
防污材料B的结构式为
将上述的实施例B1-B5进行作光泽度、防滑性和防污性能测试，制得表2。
表2-实施例B1-B5及现有技术的性能测试
说明：
1、实施例B1没有进行步骤S4-S5，其虽与实施例B2、B3和B4有一定的性能上的不足，该实施例B1仅使用了防滑蜡水经抛光后获得较好的效果，没有防污能力，但相同成本条件下，性能优异，有较好的性价比。
2、实施例B2没进行步骤S5，没有使用防污剂B，虽然氟化硅类防污液效果没有发挥，通过防滑蜡水形成层与防污剂A层的结合，但无论在光泽度、防滑性、防污能力都比普通防滑砖好。实施例B3没进行步骤S4，其防污剂B层直接布施于防滑蜡水层表面，由于配合不够好，整体性能相对于实施例S2下降，防污能力为四级，但仍比现有的普通防滑砖整体性能好。
3、实施例B5中，先进行步骤S5，再进行步骤S4；防污剂A没有很好地填充于防滑蜡水形成层与防污剂B层之间，防污能力下降至四级，光泽度为85度，摩擦系数为0.70(干法)和0.62(湿法)；而实施例B4中，通过步骤S1-S5的工艺后，其光泽度为最佳的91度，摩擦系数为0.75(干法)和0.65(湿法)，防污能力为五级；对比现有的普通防滑砖，其光泽度接近现今普通未经防滑防污处理的砖，具有很好的镜面效果，具有优异的防滑能力和防污能力。
实施例C
实施例C1
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S11、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把超洁亮作为纳米硅溶液原料，抛在砖面。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
实施例C2
S1、对烧制后的瓷砖进行清扫，并通过抛光机把砖面精抛至光泽度50度，以及通过磨边机把瓷砖的边给磨好。
S11、通过抛光机10个磨盘(每个磨盘有10个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在9MPa，把超洁亮作为纳米硅溶液原料，抛在砖面。
S2、通过弱碱清洗液(PH为8)将砖面进行清洗干净，该过程大概维持在10秒，然后用大量的自来水冲洗砖面，把在微孔里面没有反应完的抛光废渣和清洗液清理干净。
S3、通过抛光机12个磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在12MPa，把防滑蜡水打进毛细孔里面以及砖面。
S4、用抛光机5磨盘(每个磨盘有12个磨头，磨头由软性的纤维或者羊毛软性的材料构成)，转速在200转/min，压力在4MPa，把渗透性的防污剂A打在砖面上。该防污剂能有效的渗透到晶体缝隙之间，起到防污的作用。
S5、用打蜡机的3个磨盘(每个转盘有5个磨头，磨头由软性的海绵或者棉布材料构成)，转速20转/min，压力0.5MPa把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。
上述实施例C1和C2使用的配料与实施例B一样。
将上述实施例C1和实施例C2进行光泽度性能测试，并与实施例B1和实施例B4对比，制得表3。
表3-实施例C1、C2与实施例B1、B4的光泽度对比
说明：
由实施例C1与实施例B1对比可知，实施例C1利用超洁亮经抛光机抛于砖面后，把砖面原本的毛细孔封堵住，使得砖面的通透感光泽度提高，其光泽度比B1高4度；同理，对于实施例C2与实施例B4中，实施例C2加入步骤S11后，其光泽度亦高出4度，其表明了进行步骤S11后，后续的防滑蜡水、防污材料A和防污材料B对额外加入的步骤S11仍适合，没有反作用，反而提高了光泽度，使本发明中实施例B4的性能进一步提高。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
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