一种涂覆组合物和形成电子装置的方法。涂覆组合物包含：一种或多种化合物的B阶段反应产物,所述化合物包含选自C-(6-50)碳环芳香族、C-(2-50)杂环芳香族、C-(1-20)脂肪族、C-(1-20)杂脂肪族、C-(3-20)脂环族和C-(2-20)杂脂环族的核；附接到核的两个或更多个式(1)取代基,其中Ar～(1)是独立选自C-(6-50)碳环芳香族和C-(2-50)杂芳香族的芳香族基团；Z独立选自OR～(1)、受保护羟基、羧基、受保护羧基、SR～(1)、受保护巯基、-O-C(＝O)-C-(1-6)烷基、卤素和NHR～(2)；每个R～(1)独立选自H、C-(1-10)烷基、C-(2-10)不饱和烃基和C-(5-30)芳基；每个R～(2)独立选自H、C-(1-10)烷基、C-(2-10)不饱和烃基、C-(5-30)芳基、C(＝O)-R～(1)和S(＝O)-(2)-R～(1)；x是1至Ar～(1)中可用芳香族环原子总数的整数；*指示与核的附接点；以及一种或多种溶剂。所述方法包括提供电子装置基底,涂覆所述涂覆组合物,固化。

本公开一般涉及包括底层和成像层的图案化结构,及其方法和设备。在特定实施方案中,底层提供成像层的辐射吸收率和/或图案化性能的增加。

本发明提供一种带图案的基板的制造方法及其应用,所述带图案的基板的制造方法具有使感光性转印材料中的感光性树脂组合物层和聚酰亚胺基板接触,以将上述感光性转印材料与上述聚酰亚胺基板贴合的工序,该感光性转印材料具有临时支承体和含有玻璃化转变温度为50℃以上的酸分解性树脂的上述感光性树脂组合物层。

提供形成膜时可以减少升华物的新型聚合物以及包含该聚合物的组合物。根据本发明的聚合物(A)包含从以下描述的由单元(a)、单元(b)、单元(c)和单元(d)组成的组中选择的至少一个结构单元,单元(a)、(b)、(c)和(d)的各自的重复数n-a、n-b、n-c和n-d满足下式：n-a+n-b＞0、nc≥0和nd≥0。

本发明提供一种感光性树脂印刷原版,可以在处理印刷原版时,侧面遮光层不从金属制支撑体上剥离,高效地制造侧面遮光层。一种感光性树脂印刷原版,其至少具有支撑体和配置在其上的感光性树脂层,上述印刷原版的周围侧面被遮光层覆盖,上述遮光层含有以质量比计为80/20～30/70的炭黑和乙烯基聚合物,上述乙烯基聚合物是,相对于分子内的结构单体单元(化学改性了的情况时,设为改性后的结构单元)含有25～65摩尔％的羟基的醇溶性乙烯基聚合物。

本发明公开一种基于DSA的光刻方法,能够获得纳米结构,包括步骤：在半导体衬底上形成一层光刻胶,并去除中间区域的光刻胶、在左右两个端部留有侧壁光刻胶；在所述中间区域填充第一嵌段共聚物溶液形成第一嵌段共聚物层,所述第一嵌段共聚物层进行自组装、形成第一层状相；去除上述左右两个端部的侧壁光刻胶,并在左右两个端部上形成第二嵌段共聚物层,并以所述第一层状相为诱导结构、所述第二嵌段共聚物层进行自组装、形成第二层状相；去除第一层状相及第二层状相中的非目标物质,得到由目标物质构成的纳米结构。它旨在解决现有技术中由于诱导结构的存在而导致的无法获取完全的由嵌段共聚物构成的纳米结构。

本发明属于光刻领域,涉及一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法。所述底部抗反射膜树脂包括含氟双酯基结构单元以及任选的不含氟双酯基结构单元；所述底部抗反射膜树脂的重均分子量Mw为1000～100000；所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为30wt％以上,所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为0～20wt％。本发明提供的底部抗反射膜树脂和组合物能够在基本不影响折光率的基础上降低吸光度,极具工业应用前景。