本发明涉及一种具有磁执行器的主动振动隔离系统。磁执行器包括具有至少一个绕阻的绕阻载体,该至少一个绕阻以非接触方式接合到磁体载体中,使得该磁执行器构造为线性电机的方式。磁执行器设置有磁屏蔽部,该磁屏蔽部具有开口,绕阻载体穿过该开口突出到磁体载体中。

本发明提供了一种曝光玻璃快装结构,位于支撑架与曝光玻璃之间以将曝光玻璃固定于支撑架上。包括位于支撑架上的安装板以及设置于安装板上的第一密封组件和固定组件,安装板上开设有安装槽和密封槽,安装槽用于吸附安装曝光玻璃,密封槽用于安装第一密封组件,安装槽和密封槽之间还设置有用于安装固定组件的安装部,固定组件包括气囊、固定条和弹片,气囊位于固定条内,弹片位于气囊和曝光玻璃之间,气囊通气以使气囊的一端凸伸出固定条外并挤压弹片,以使弹片抵接于曝光玻璃并将曝光玻璃固定于安装槽内；或者气囊排气以收缩进固定条内,以能释锁曝光玻璃。本发明的曝光玻璃快装结构,拆装方便,结构简单,且使得曝光玻璃的安装更加安全。

本发明提供了一种UV光刻机,所述UV光刻机包括：UV光源,所述UV光源用于产生UV光；LCD液晶透光屏,所述LCD液晶透光屏设于所述UV光源产生的UV光的光通道上,且所述LCD液晶透光屏具有像素点阵,通过调节电压可控制每一所述像素点的透光度；驱动模块,所述驱动模块可根据预先设定的图案数据控制所述LCD液晶透光屏上的像素点的透光度。

本发明公开了一种光刻机的棱镜旋转调节机构,包括安装板、滑轨、移动箱、连接板一、转动片一、转轴片一、连接板二、转动片二、转轴片二和连接板三,所述安装板的下端焊接有滑轨,所述滑轨的外侧滑动连接有移动箱,所述移动箱的下端通过螺栓连接有连接板一,所述连接板一的下端固定连接有转动片一,所述转动片一的内侧转动连接有转轴片一,所述转轴片一的下端固定连接有连接板二,所述连接板二的下端固定连接有转动片二,所述转动片二的内侧转动连接有转轴片二,所述转轴片二的下端固定连接有连接板三。本发明涉及一种光刻机的棱镜旋转调节机构,具有可以多角度旋转与棱镜角度的调节精度更高特点。

本发明公开了一种卷对卷双面数字化激光直写曝光机及曝光对位方法,方法包括：首次曝光时：标定三组对位相机的位置；捕捉曝光卷料边缘并确定三组标记点,通过三组标记点的坐标获取偏移角度和曝光区域；根据偏移角度和曝光区域进行曝光；标记两颗Mark点；第二次曝光时：重新标定三组对位相机的位置；捕捉上一次曝光标记的两颗Mark点并进行校对；捕捉曝光卷料其中一侧边的边缘并确定两组标记点,通过两组标记点和两颗Mark点的坐标获取偏移角度和曝光区域；比较偏移角度与可调角度和极限角度以确定曝光图形的偏转角度；根据偏转角度和曝光区域进行曝光操作；标记新的两组Mark点；后续曝光时重复第二次曝光时的步骤。本发明可实现对曝光卷料进行精确连续曝光。

公开了一种光学系统以及操作光刻曝光设备的方法。所述光学系统包含至少一个反射镜布置,其包括多个反射镜元件,其邻近布置并且共同形成反射镜布置的反射镜表面。反射镜的多层布置包含反射层系统和压电层,该反射层系统具有形成反射镜表面的部分的辐射入射表面,该压电层布置在辐射入射表面和基板之间。每个反射镜元件包括与压电层相关联的电极布置,以产生电场,其中压电层的层厚度可以通过电场控制。提供将邻近的电极布置的邻近的第一电极和第二电极电互连的互连布置,其中互连布置在所述第一电极和第二电极之间的间隙区域中的电阻大于所述第一电极和第二电极的电阻,并且小于具有所述第一电极和第二电极的所述邻近的电极布置的压电层的电阻。

本发明能够提供一种用于优化光刻工艺的方法及装置、计算机存储介质。该方法包括如下步骤：获取目标光刻胶的数据,目标光刻胶的数据包括光刻胶空间数据和光刻胶成分数据；根据该光刻胶空间数据对目标光刻胶占据的空间进行分割,以确定多个单元块。每个单元块上均设置有格点；根据光刻胶成分数据确定目标光刻胶上各个格点位置处的原始状态信息,根据预设工艺参数和原始状态信息确定经过曝光后的目标光刻胶上各个格点位置处的当前状态信息；通过当前状态信息预测显影后的目标光刻胶形貌；本发明能够提前预测出显影后的光刻胶形貌,以指导和优化实际光刻工艺,并有助于对新品种或新类型光刻胶的研发,推进研发进度和降低研发成本。

本发明涉及一种用于通过光刻胶生产三维结构,具体地用于产生处于微米到毫米范围内的台阶式结构的方法。寻找一种实现微机械和高性能电子结构的允许台阶式结构的基本上自由成型和高产出量生产的微结构的新的可能性的目的根据本发明通过以下得以实现：用第一光刻胶涂覆(3)铜包覆的衬底(1)至少一次,以产生限定高度的至少一个结构台阶,并且用第二光刻胶涂覆(3)所述第一光刻胶至少一次,以产生限定高度的至少一个另外的结构台阶,其中所述第一光刻胶和所述第二光刻胶具有不同光敏性和透射特性,通过用不同波长和辐射剂量进行曝光(4)并且在显影(5)之后,所述不同光敏性和透射特性使至少所述第一光刻胶和所述第二光刻胶的结构形成性区域(35；36)得以产生。所述结构形成性区域(35；36)彼此至少部分地重叠并且形成台阶式三维结构。

本发明公开了一种掩模台、曝光装置和光刻设备,该掩模台包括承版台、至少三个支撑固定单元和至少三个形变补偿单元；其中,承版台包括透光区和围绕透光区的非透光区；至少三个支撑固定单元设置于承版台的非透光区,且各支撑固定单元均匀分布于透光区的周围；至少三个形变补偿单元设置于承版台的非透光区,且位于支撑固定单元靠近透光区的一侧；各形变补偿单元均匀分布于透光区的周围。本发明实施例提供的掩模台结构简单,能够减小放置于该掩模台上的掩模版在水平方式和竖直方向上的形变,从而能够提高曝光精度,提高光刻准确度,进而提高产品良率,降低生产成本。

本发明公开了一种气浮轴承装置及光刻设备,其属于光刻技术领域,气浮轴承装置包括轴承本体和预载磁铁,轴承本体具有多个气浮面和中部区域,多个所述气浮面关于所述中部区域对称分布且与所述中部区域之间间隔设置形成缝隙；预载磁铁设于所述中部区域上。预载磁铁与气浮面之间的连接断开,在磁预载时,预载磁铁受到预载力,使得预载力不会直接传递至气浮面上,减少磁预载对气浮面的变形影响。光刻设备包括上述气浮轴承装置。由于预载力不会直接传递至气浮面上,减少磁预载对气浮面的变形影响,使得光刻设备的可靠性提高,加工精度较高。