层叠体、组合物及层叠体形成用套组

本发明提供一种层叠体、用于形成上述层叠体中所包含的保护层或感光层的组合物及用于形成上述层叠体的层叠体形成用套组,所述层叠体依次包含基材、有机层、保护层及感光层,上述感光层包含具有阴离子部的鎓盐型光产酸剂,所述阴离子部选自由稠环结构、交联环结构及螺环结构组成的组中的至少一种环结构的基团,上述感光层供使用显影液的显影,上述保护层供使用剥离液的去除。

2021-10-29

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EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法

本发明提供一种能够形成桥接缺陷抑制性及残膜区域中的膜减少抑制性优异的图案的EUV光用感光性组合物。并且,提供一种图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物包含树脂X及光产酸剂,所述树脂X由于酸的作用而极性增加,在碱显影液中的溶解度增加,在有机溶剂中的溶解度减少,或者包含树脂Y,所述树脂Y包含具有光酸产生基团的重复单元,且由于酸的作用而极性增加,在碱显影液中的溶解度增加,在有机溶剂中的溶解度减少,并且均满足必要条件1及必要条件2。

2021-10-29

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聚合物、光敏性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、电子部件

本发明的技术问题在于提供一种聚合物,该聚合物能够用作可溶于碱性水溶液、可形成微细图案、可获得高分辨率,并且即使在低温下进行固化时机械特性仍良好的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物的基础树脂。此外,还提供使用了所述聚合物的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物。所述聚合物的特征在于,含有下述通式(1)和/或(2)表示的结构单元。式中,T-(1)、T-(2)任选彼此相同或不同,表示-CO-、-SO-(2)-中的任意一种,X-(1)为4价有机基团,l为0或1。式中,T-(1)、T-(2)、l与所述T-(1)、T-(2)、l相同,X-(2)为2价有机基团。

2021-10-22

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新型化合物、聚合物及其制备方法、光敏性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、电子部件

本发明的技术问题在于提供一种化合物、使用该化合物得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法,所述化合物能够衍生出聚酰亚胺,该聚酰亚胺能够用作不损害机械强度、溶解性等优异的特征,可形成微细的图案且能够获得高分辨率的光敏性树脂组合物的基础树脂。所述化合物的特征在于,由下述通式(1)表示。

2021-10-22

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感光性树脂组合物、抗蚀剂图案膜的制造方法、及镀敷造形物的制造方法

本发明的课题在于提供一种感光性树脂组合物,用于形成驻波轨迹得到抑制且剖面为矩形的抗蚀剂图案膜。本发明的感光性树脂组合物含有：具有酸解离性基的聚合物(A)；光酸产生剂(B)；具有羟基的氨基甲酸酯(C)；以及溶剂(D),所述溶剂(D)含有：选自丙二醇单甲醚乙酸酯等中的至少一种溶剂(D1)；以及选自二丙二醇二甲醚等中的至少一种溶剂(D2)。

2021-10-15

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带图案的基板的制造方法、电路基板的制造方法、触控面板的制造方法及层叠体

本发明提供一种带图案的基板的制造方法及其应用,所述带图案的基板的制造方法具有使感光性转印材料中的感光性树脂组合物层和聚酰亚胺基板接触,以将上述感光性转印材料与上述聚酰亚胺基板贴合的工序,该感光性转印材料具有临时支承体和含有玻璃化转变温度为50℃以上的酸分解性树脂的上述感光性树脂组合物层。

2021-10-01

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微透镜用感光性树脂组合物

本发明的课题是提供新的微透镜用感光性树脂组合物。解决手段是下述微透镜用感光性树脂组合物,其含有下述(A)成分、下述(B)成分和下述(C)成分,相对于该(A)成分100质量％,含有该(B)成分至少0.5质量％。(A)：具有下述式(1)所示的结构单元、下述式(2)所示的结构单元和下述式(3)所示的结构单元的、重均分子量5000～25000的共聚物(B)：光产酸剂(C)：溶剂[在式(1)～式(3)中,R～(1)、R～(2)和R～(3)各自独立地表示氢原子或甲基,X～(1)和X～(2)各自独立地表示碳原子数2～4的亚烷基,Z～(1)表示酸解离性基,Z～(2)表示封闭异氰酸酯基。]

2021-10-01

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药液、抗蚀剂图案的形成方法、半导体芯片的制造方法、药液收容体及药液的制造方法

本发明提供一种作为预湿液使用时缺陷抑制性优异的药液。本发明还提供抗蚀剂图案的形成方法、半导体芯片的制造方法、药液收容体及药液的制造方法。本发明的药液含有环己酮及选自包括通式(1)所表示的化合物、通式(2)所表示的化合物及通式(3)所表示的化合物的组中的1种以上的第1化合物,所述药液中,环己酮的含量相对于药液总质量为98.000～99.999质量％,第1化合物合计含量相对于所述药液总质量为0.001～100质量ppm,所述药液可作为预湿液使用。

2021-09-21

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一种光刻胶组合物

本申请提供一种光刻胶组合物,属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物,碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合,能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时,三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌,降低顶部损失,降低粗糙度。

2021-09-21

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主链可降解型光刻胶树脂单体及其制备方法和应用

本发明公开了主链可降解型光刻胶树脂单体及其制备方法和应用,所述主链可降解型光刻胶树脂单体的结构通式为：其中,R-1为氢或者甲基,R-2选自亚烷基、亚环烷基以及含酯基、碳酸酯基、醚基、酰胺基的连接基团。所述主链可降解型光刻胶树脂单体具有增加抗蚀性,改善树脂与晶圆的粘附性,增加在碱性显影液(通常为TMAH)中溶解,有利于改善边缘粗糙度,提高分辨率。

2021-09-21

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