具体实施方式

请参考图1至图7

一种二极管加工输送设备，包括：主体1，主体1中部嵌合设置有输送带2，主体1中部位移输送带2上方嵌合设置有矫正轴3，主体1中部两侧通过连接槽101和偏移槽102连接矫正轴3，矫正轴3由两个分别与旋转齿环301和偏移齿环302嵌合设置一起为一组，嵌合偏移齿环302的矫正轴3通过套接槽304连接有抵环303，主体1包括有连接槽101和偏移槽102，连接槽101为主体1中部两侧靠近顶端处呈圆柱形状的凹槽，偏移槽102为贴合连接槽101凹槽一侧呈弧形弯曲设置的长方形状凹槽，且偏移槽102凹槽深度比连接槽101要深，偏移槽102包括有活动槽1021，活动槽1021为偏移槽102凹槽中部部分宽度更大的长方形状凹槽，输送带2包括有传动齿痕201和限定槽202，传动齿痕201为固定连接与在输送带2两侧表面的齿痕，限定槽202为输送带2顶端表面若干呈圆弧状凹陷的长条形状凹槽，矫正轴3包括有旋转齿环301、偏移齿环302、抵环303和套接槽304，旋转齿环301为矫正轴3两端嵌合设置表面与传动齿痕201齿合的圆环，偏移齿环302为嵌合在一组矫正轴3中另一个圆轴两端与旋转齿环301表面齿痕齿合直径更小的圆环，抵环303为通过中部伸缩导杆与套接槽304圆环凹槽中部嵌合连接直径更大的圆环。在将二极管放置到输送带2上进行输送的过程中，输送带2两侧的传动齿痕201会在输送带2旋转移动时贴合到输送带2上方矫正轴3两端的旋转齿环301底端，通过两者相互齿合的齿痕使得其会带动旋转齿环301进行旋转，而旋转齿环301与一侧贴合偏移齿环302的齿合使得也会带动偏移齿环302进行旋转从而让连接的两个矫正轴3向中心处进行相反方向的旋转，通过两个矫正轴3向中心处的旋转使得在二极管移动到矫正轴3下方的时候会因为其两个矫正轴3向中心的旋转来对二极管进行矫正让其在倾斜的时候通过两个矫正轴3的旋转摩擦带动来向中部进行偏斜，来对其二极管进行矫正让其保持平行状态被输送带2带动输送，抵环303包括有收缩块3031，收缩块3031为若干组合成抵环303圆环的圆弧弯曲状长方形状方块之间收缩嵌合连接的方块。当二极管因为矫正轴3的矫正而呈平行状态时会同时因为两个矫正轴3对二极管的抵靠挤压使得其会嵌合进输送带2表面的限定槽202中进行位置的限定，让其不会在线自行的发生偏斜，而在二极管移动到两个矫正轴3中进行接触摩擦矫正的偏移齿环302连接的矫正轴3周围套接槽304中抵环303会抵住到二极管的表面上，通过其抵住时产生的抵力会迫使抵环303通过周围伸缩连接的收缩块3031发生收缩让其抵环303的直径变小，使得二极管能够通过旋转齿环301移动到两个矫正轴3之间进行矫正，套接槽304包括有接触旋转环3041、延伸轴3042和限位块3043，接触旋转环3041为凸出部分在套接槽304凹槽中部一侧与抵环303一侧表面螺纹贴合嵌合连接的圆环，延伸轴3042为一侧通过弹簧伸缩轴与接触旋转环3041一侧嵌合连接的圆轴，且延伸轴3042周围表面与矫正轴3内部连接凹槽内壁螺纹嵌合，限位块3043为延伸轴3042一侧嵌合连接凸出在偏移齿环302中矫正轴3圆轴两端的长方形状凸块，且限位块3043方块设置于在活动槽1021，同时限位块3043方块宽度与偏移槽102凹槽宽度相嵌合。当抵环303收缩的时候一侧会螺纹贴合到接触旋转环3041的一侧，使得其接触旋转环3041会开始进行旋转从而带动一侧通过弹簧伸缩连接的延伸轴3042开始进行旋转，当延伸轴3042开始旋转的时候因为与矫正轴3连接内部内壁的螺纹嵌合使得延伸轴3042会沿着矫正轴3内部向一侧进行移动，从而使得一侧凸出在矫正轴3两端的限位块3043沿着偏移槽102内部的活动槽1021进行移动，在移动一定距离后会嵌合进活动槽1021一侧的偏移槽102中进行嵌合，使得来对延伸轴3042进行旋转迫使其无法继续旋转，而因为延伸轴3042与矫正轴3内壁螺纹槽痕到底其一端无法继续嵌合迫使其偏移齿环302连接的矫正轴3旋转会发生一定的停顿，而因为旋转齿环301的旋转带动会让整个偏移齿环302沿着其偏移槽102贴合旋转齿环301一侧发生位置的偏移，使得其偏移齿环302连接的矫正轴3会发生偏移来让矫正嵌合在限定槽202中的二极管能够顺利的通过输送带2的旋转移动进行输送，而因为对二极管的矫正输送使得其在进入到其他加工设备后不会因为二极管的整体偏斜导致其影响后期加工步骤，不需要再次来对二极管进行人为的矫正调整。

（四）工作原理

本发明提供了一种二极管加工输送设备，首先将需要加工的二极管放置到主体1中部的输送带2上，通过输送带2的传输来将二极管依次有序的传输到其他的加工设备中进行加工，而在将二极管放置到输送带2上进行输送的过程中，输送带2在输送过程中其两侧的传动齿痕201会与旋转齿环301齿合带动旋转齿环301开始进行旋转，而旋转齿环301与一侧贴合偏移齿环302的齿合使得也会带动偏移齿环302进行旋转从而让连接的两个矫正轴3向中心处进行相反方向的旋转，通过两个矫正轴3向中心处的旋转使得在二极管移动到矫正轴3下方的时候，两个二极管因为齿合传动来让其会同时向中心一个位置进行旋转，使得当二极管移动到两个矫正轴3之间的时候会因为两个矫正轴3同时向中心一个位置的旋转来摩擦带动让其二极管向中心一个位置进行偏移矫正呈平行，当二极管因为矫正轴3的矫正而呈平行状态时，会同时因为两个矫正轴3对二极管的抵靠挤压使得其会嵌合进输送带2表面的限定槽202中进行位置的限定，让其不会在线自行的发生偏斜，而在二极管移动到两个矫正轴3之间时，偏移齿环302连接的矫正轴3周围通过套接槽304连接的抵环303会抵住到二极管表面，通过其抵住时产生的抵力会迫使抵环303通过周围伸缩连接的收缩块3031发生收缩让其抵环303的直径变小，使得二极管能够通过旋转齿环301移动到两个矫正轴3之间进行矫正，当抵环303收缩的时候一侧会螺纹贴合到接触旋转环3041的一侧，使得其接触旋转环3041会开始进行旋转，从而带动一侧通过弹簧伸缩连接的延伸轴3042开始进行旋转，当延伸轴3042开始旋转的时候因为与矫正轴3连接内部内壁的螺纹嵌合使得延伸轴3042会沿着矫正轴3内部向一侧进行移动，从而使得一侧凸出在矫正轴3两端的限位块3043沿着偏移槽102内部的活动槽1021进行移动，在移动一定距离后会嵌合进活动槽1021一侧的偏移槽102中进行嵌合，使得对延伸轴3042进行限定使其无法继续旋转，而因为延伸轴3042沿着矫正轴3内壁螺纹槽痕移动到一端无法继续嵌合移动时，迫使其偏移齿环302连接的矫正轴3旋转会发生一定的停顿，使得旋转齿环301在继续旋转中带动会让整个偏移齿环302沿着其偏移槽102贴合旋转齿环301一侧发生位置的偏移，使得其偏移齿环302连接的矫正轴3会发生偏移，让矫正嵌合在限定槽202中的二极管能够顺利被输送带2带动进行输送，而因为对二极管的矫正输送使得其在进入到其他加工设备后不会因为二极管的整体偏斜导致其影响后期加工步骤，不需要再次来对二极管进行人为的矫正调整。