具体实施方式

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

参见图1-8，本发明实施例提供了一种自清理窑内杂质的推板窑，包括窑体10及设置于窑体10内部的若干坩埚20及清理装置30，所述坩埚20内部盛放用于处理（例如烧结或焙烧）的物料，坩埚20前后依次并排设置，相邻坩埚20紧密接触，所述清理装置30为至少一个，至少一个清理装置30设置于某两个相邻坩埚20之间，清理装置30与坩埚20具有相同外部形状，清理装置30为规则体，在规则体的上表面开设向心部延伸的第一竖槽31，在规则体的左侧表面和/或右侧表面开设向心部延伸的左侧竖槽32和/或右侧竖槽33，在第一竖槽31内部设置第一刮磨块311，刮磨块的高度高于上表面，在左侧竖槽32和/或右侧竖槽33设置左侧刮磨块321和/或右侧刮磨块331，左侧刮磨块321、右侧刮磨块331的表面高度高于上表面的高度。该方案中，左侧刮磨块321和右侧刮磨块331的宽度与规则体左侧面、右侧面平齐，对窑体10左、右两个侧壁不具有刮磨的作用。

本方案的清理装置30无需单独驱动，无需单独工序，由坩埚20的驱动机构同步驱动，与坩埚20同步移动的，且清理过程是连续无中断的，窑炉烧结工作正常进行，边烧结边清理，完全不影响窑体10的工作效率。

进一步，左侧刮磨块321的左侧侧边突出于规则体的左侧面和/或右侧刮磨块331的右侧侧边突出于规则体的右侧面。该方案中，可以对窑体10左、右两个侧壁同时刮磨，也可以对一个侧壁进行刮磨。

该方案的清理装置30为至少四种实施例，一种是适用于单列坩埚20的窑体10，即清理装置30设置第一竖槽31、左侧竖槽32和右侧竖槽33，在上表面、左侧面、右侧面均具有清理作用；另一种是只在上表面、左侧面设置竖槽；第三种是在上表面、右侧面设置竖槽，第四种是第一种的变形，即左侧刮磨块321、右侧刮磨块331不突出，但与第一刮磨块311共同作用只对上表面进行刮磨；第二种和第三种搭配使用适用于双列坩埚20的窑体10；第四种方案与第二种、第三种搭配使用，适用于三列坩埚20的窑体10。以此类推，可以适用于多列的窑炉，均为本申请实施例的变形，落入本申请的保护范围。

进一步，清理装置30为实心体。在实心体上开设三种方式的竖槽，机械加工更加方便，且强度大，在与坩埚20同步移动时，不受挤压变形，使用寿命长。

进一步，左侧刮磨块321、右侧刮磨块331及第一刮磨块311的宽度将实心体上表面的宽度方向全部覆盖。以使实心体上表面在窑体10内部形成不小于实心体宽度方向、中间无遗漏的全覆盖刮磨窑体10的顶部。

进一步，还在第一刮磨块311下方的第一竖槽31内设置若干第一调整块312，若干第一调整块312具有厚度，用于调整第一刮磨块311外露于上表面的高度；还在左侧竖槽32和/或右侧竖槽33内设置若干左侧调整块322和/或右侧调整块332。

由于刮磨块采用高强度、高耐磨材料制成，而调整块至少普通的垫块，所以为了节约成本、多次使用，磨损后无需更换，只需采用调整块垫高即可。当刮磨块被磨损高度与上表面平齐时，则起不到清理作用，此时，向第一竖槽31内加入一个第一调整块312，将第一刮磨块311垫高，或者虽然未被磨损，但需要调高时，也可以加入第一调整块312。同理左侧刮磨块321和右侧刮磨块331的调整方式也是如此。

进一步，还在第一竖槽31与第一刮磨块311之间设置限位块34，还在左侧竖槽32左侧刮磨块321之间、右侧竖槽33与右侧刮磨块331之间设置限位块34。用于卡紧刮磨块与竖槽之间，避免晃动。

进一步，坩埚20为正方体或长方体，清理装置30具有与坩埚20相同的轮廓形状。相同形状可以保证清理装置30与坩埚20整齐摆放，沿着导轨移动时稳定、无跑位、无错位，同时清理装置30不会影响坩埚20的排列方式。

进一步，所述清理装置30为两个，所述坩埚20呈并列设置于窑体10内部的两列，为每一列坩埚20设置一个清理装置30，每一个清理装置30设置于某两个相邻坩埚20之间；两列坩埚20的两个清理装置30为并列的一排或前后错位。

这是两种方案，分别如图3、4所示。本方案适用于窑体10内设置一列、两列或者多列坩埚20的方案，对应的在每一列设置一个清理装置30，每一列的清理装置30可以正对形成一排或前后错位均可，均落入本方案的保护范围。当前后错位设置时，可以减小清理装置30与窑体10内壁的摩擦力。两条轨道设置两个主推油缸，错位设置的两个清理装置，可以防止两条轨主推力过大，导致坩埚破损堵窑情况发生；在清理过程中，可以通过调节单个主推油缸的压力，来实现窑顶和侧壁的清理；通过监测单个主推油缸的压力，可以有效判断窑炉富集杂质位置和杂质富集情况。虽然窑体内杂质富集区的位置是可以通过理论计算推理得到的，且根据工艺控制，每一炉产品从进炉至出炉所需时间、单位时间前进距离是可以控制的，但是在生产过程的同时，无法通过外部检测手段进行监测，本方案可以通过监测主推油缸的压力变化情况并结合工艺执行时间来客观准确反映、计算出来窑体内杂质富集的位置。例如一列坩埚，一个主推油缸的稳定推力为F1，当F1变化达到20%，则表明遇到杂质富集区时，此时根据工艺中控制的坩埚行进距离，则可以就算得出杂质富集的位置。

进一步，还在窑体10内部设置轨道11，所述坩埚20放置于轨道11上，且与轨道11相对滑动，在窑体10外部设置驱动机构，驱动机构的输出端与头部的坩埚20接触，用于推动坩埚20沿着轨道11移动。

一种推板窑内自清理窑内杂质的方法，包括以下步骤：

窑体10内并排成列设置待处理的坩埚20，在相邻两个坩埚20之间设置至少一个清理装置30；

清理装置30与窑体10顶部和侧壁接触，通过坩埚20移动带动清理装置30同步移动，移动的清理装置30通过刮磨的方式清理窑体10内部的杂质。

进一步，还在清理装置30前方设置空置的坩埚20，用于承接清理装置30刮磨下来的杂质。随着坩埚20和清理装置30向前移动，清理装置30将窑体10内部的杂质刮除下来，掉落在前方紧挨着的一个坩埚20内部，由于烧结处理坩埚20为敞口时，对于一些较小或细致的物料，杂质的落入会造成物料混入杂质或被污染，所以增设一个控制坩埚20，专门用于承接杂质，保证清理装置30和其他坩埚20正常工作的同时，还解决了该问题。

本发明实施例装置中的模块或单元可以根据实际需要进行合并、划分和删减。

以上所揭露的仅为本专利文件较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。