阵列基板及显示面板

文档序号:1955629 发布日期:2021-12-10 浏览:15次 >En<

阅读说明:本技术 阵列基板及显示面板 (Array substrate and display panel ) 是由 王款 于 2021-08-24 设计创作,主要内容包括:本申请公开了一种阵列基板及显示面板,本申请的阵列基板包括金属层以及与所述金属层同层设置的对位标记,所述对位标记包括标记本体、以及形成在所述标记本体上的至少一分割间隙,其中所述分割间隙将所述标记本体分割为多个子部。本申请的阵列基板及显示面板能防止对位标记上的光刻胶剥离,进而能防止上述光刻影响到薄膜晶体管的沟道区的蚀刻从而导致产品报废,最终能提升产品良率。(The application discloses array substrate and display panel, the array substrate of this application include the metal level and with the counterpoint mark of metal level homostorey setting, the counterpoint mark includes the mark body and forms at least a segmentation clearance on the mark body, wherein the segmentation clearance will the mark body is split into a plurality of sub-divisions. The array substrate and the display panel can prevent the photoresist on the alignment mark from being stripped, and further can prevent the product from being scrapped due to the fact that the photoetching influences etching of a channel region of the thin film transistor, and finally can improve the product yield.)

阵列基板及显示面板

技术领域

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种能提升产品良率且制作工艺简单的阵列基板及显示面板。

背景技术

目前,在制作红色光阻(R)、绿色光阻(G)以及蓝色光阻(B)等色阻的对位工序中,需要在彩膜基板或阵列基板上分别设置对位标记(mark),然后再通过对位标记使彩膜基板或阵列基板和掩膜板对齐,之后在进行曝光。

为了便于曝光机识别,也为了对位标记的制作,现有的对位标记的面积一般比较大。请参考图1和图2,现有的对位标记900一般采用规格为4*16um的矩形状标记。

当前,当色阻层被制作于在阵列基板上时,应用于色阻的对位标记图案一般与阵列基板的金属层同层设置。例如,对位标记一般与栅极同层设置。而在阵列基板的后续金属层的图案化制程中,由于现有对位标记900面积较大的原因,部分对位标记900上的光刻胶(PR)901会发生剥离或脱落。例如,在现有子像素的排布方式下,绿色子像素对位标记(Gmark)上的光刻胶容易剥离或脱落。

而脱落的光刻胶901会影响到阵列基板的后续制程。例如,脱落的光刻胶901可能会影响到薄膜晶体管的源漏金属层在沟道区的蚀刻(例如会造成TFT的沟道区内AS残留),从而导致产品报废。

而若减小对位标记的尺寸,则会导致对位标记的制作难度增加,也会造成对位标记的位置精度也会降低。此外,对位标记的尺寸的变化也会限制曝光机的精度范围,造成所述对位标记可能无法被部分精度的曝光机识别。

因此,亟需提供一种阵列基板及显示面板,以解决上述技术问题。

发明内容

为了解决上述技术问题,本申请提供一种阵列基板及显示面板,能防止对位标记上的光刻胶剥离,进而能防止剥离的光刻胶影响到后续的薄膜晶体管制程,最终能提升产品良率。

为了实现上述目的,本申请所述阵列基板及显示面板采取了以下技术方案。

本申请提供一种阵列基板,包括:

金属层;以及

对位标记,所述对位标记与所述金属层同层设置,所述对位标记结构包括标记本体、以及形成在所述标记本体上的至少一分割间隙,所述分割间隙将所述标记本体分割为多个子部。

可选地,在一些实施例中,所述分割间隙位于所述标记本体的相对设置的两个侧边之间,并由所述两个侧边中的其中一个延伸所述两个侧边中的另一个。

可选地,在一些实施例中,所述分割间隙包括垂直相交的第一分割间隙和第二分割间隙;

其中所述第一分割间隙位于所述标记本体的沿长度方向相对设置的两个侧边之间;以及,

所述第二分割间隙位于所述标记本体的沿长度方向相对设置的两个侧边之间。

可选地,在一些实施例中,所述第一分割间隙的间隙宽度为1μm-2μm,所述第二分割间隙的间隙宽度为1μm-4μm。

可选地,在一些实施例中,多个所述子部相互独立。

可选地,在一些实施例中,多个所述子部的面积相同或不相同。

可选地,在一些实施例中,所述子部的宽度的范围为1μm-2μm,所述子部的长度的范围为4μm-6μm。

相应地,本申请还提供一种显示面板所述显示面板包括本申请的阵列基板。

可选地,在一些实施例中,所述显示面板具有多个像素单元,每一所述像素单元包括至少一子像素,所述对位标记位于所述子像素中。

可选地,在一些实施例中,每一所述子像素单元包括绿色子像素、红色子像素和蓝色子像素,所述对位标记位于所述绿子像素内。

与现有技术相比,本申请所述阵列基板及显示面板通过将在标记本体上形成分割间隙,将标记本体划分为多个相互间隔的子部,且能使保持所述标记本体整体的范围几乎不变,进而能克服由于现有对位标记存在的光刻胶容易脱落导致的薄膜晶体管的不良,还能防止由于对位标记的面积变小导致的对位标记的制作难度增加以及位置精度降低的问题。在本申请中的对位标记制作工艺简单可实施性高。此外,在本申请的对位标记中,可以将多个子部分别设置为不同的面积,能提高曝光机的识别精度和识别速度,同时还克服了对曝光机精度的限制。

附图说明

下面结合附图,通过对本申请的

具体实施方式

详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有对位标记的结构示意图。

图2为图1中对位标记制程中的示意图。

图3为本申请对位标记的示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。此外,应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请,并不用于限制本申请。在本申请中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下,具体为附图中的图面方向;而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。

本申请提供一种阵列基板以及包括所述阵列基板的显示面板,以解决对位标记上的光刻胶剥离,进而能防止剥离的光刻胶影响到后续的薄膜晶体管制程,最终能提升产品良率。

本申请的阵列基板包括金属层,以及对位标记。其中所述对位标记与所述金属层同层设置,所述对位标记结构包括标记本体、以及形成在所述标记本体上的至少一分割间隙,所述分割间隙将所述标记本体分割为多个子部。

图3为本申请的对位标记100的示意图。如图3所示,本申请所述对位标记100能用来标记子像素,解决现有子像素对位标记100上光刻胶容易剥离的问题,并且还能防止对位标记100的制作难度增加以及位置精度降低的问题。

如图3所示,本申请的对位标记100包括标记本体10和形成在标记本体10上的至少一条分割间隙20。所述分割间隙20将所述标记本体10分割为多个子部11。

具体地,相邻的所述子部11被所述分割间隙20隔开,所述分割间隙20位于相邻的两个子部11之间。更优选地,多个所述子部11相互独立。

显然地,本申请的技术方案中,通过将在对位标记100上形成分割间隙20从而将所述标记本体10分割为多个相互独立的子部11。一方面,与现有对位标记100相比,由于各子部11面积较小,防止了各子部11上光刻胶(PR)面积过大导致的PR容易剥离的问题。另一方面,与现有的对位标记100相比,本申请的标记本体10整体的布置范围也不会有明显降低,能防止由于对位标记100面积或位置变化导致的对位标记100的制作难度增加以及位置精度降低的问题。

最后,能通过在标记本体10上蚀刻一条或多条分割间隙20的方式获能得本申请的对位标记100能,具有可实施性强,工艺简单的优点。

以下将结合图3,详细阐述本申请的对位标记100的实施方式。

请参考图3,所述对位标记100包括标记本体10和形成在所述标记本体10上的分割间隙20。

请参考图3,所述标记本体10整体的平面形状呈矩形。在其他实施例中,所述标记本体10的整体形状还可以为圆形或方向。在另外一些实施例,所述标记本体10还可以为不规则形状。显然地,本申请并未限定所述标记本体10的平面形状。

在本实施例中,所述标记本体10的长度为16um,所述标记本体10的宽度为4um。但需要指出的是,本申请实质上并未限定所述标记本体10的尺寸。

在一优选实施例中,所述标记本体10的材料为金属材料。例如,在本实施例中,所述对位标记100的材料为铜。

请参考图3,所述分割间隙20形成于所述对位标记100上,以将所述对位标记100分割为多个子部11。

具体地,所述标记本体10具有多个侧边,所述分割间隙20由其中一所述侧边延伸至另一不同的所述侧边。如此,所述分割间隙20能将所述标记本体10分割为多个子部11。

请参考图3,在本实施例中,所述分割间隙20位于相对设置的两个所述侧边之间,并且所述分割间隔由所述两个侧边的其中一个延伸至所述两个侧边的另一个。

在本实施例中,所述分割间隙20包括相互垂直的第一分割间隙21和第二分割间隙22,其中所述第一分割间隙21位于所述标记本体10的沿竖直方向相对布置的两个侧边之间,所述第二分割间隙22位于所述标记本体10的沿竖直方向上相对布置的两个侧边之间。

具体地,考虑到现有蚀刻工艺的水平以及标记本体10的规格,将所述第一分割间隙21的缝隙宽度设置为1-2μm,第二分割间隙22的缝隙宽度为1μm-4μm。在一优选的实施方式中,所述第一分割间隙21的间隙宽度为2μm,所述第二分割间隙22的间隙宽度为4μm。

还需要指出的是,图3所示的分割间隙20的布置方式仅仅为示意性实施方式,本申请并未限定于此。在具体实施时,只要能实现将所述对位标记100分割为多个子部11的目的即可。

例如,在一些实施例中,所述对位标记100可以仅包括一个或多个第一分割间隙21,也可以仅包括一个或多个第二分割间隙22。在具体实施时,可以在所述对位标记100上形成多个平行间隔设置的第二分割间隙22,以将所述对位标记100分割为多个平行且相互间隔布置的子部11。

在本实施例中,所述分割间隙20以垂直于所述标记本体10的所述两条侧边的方式布置。但需要指出的是,本申请也并未限定所述分割间隙20的延伸方向和延伸角度。例如,在一些实施例中,所述分割间隙20与所述标记本体10的所述两条侧边的。

当然,本申请也并未限定分割间隙20的延伸方向。

请参考图3,除了形成所述分割间隙20的区域外,所述标记本体10包括多个相互独立的子部11。其中任意相邻的两个所述子部11被所述分割间隙20隔开。

具体地,多个所述子部11以矩阵形式排布。请参考图3,在本实施例中,所述对位标记100被所述第一分割间隙21和所述第二分割间隙22分割为四个的子部11,四个所述子部11以竖直两列上下排的方式排布。

具体地,在本申请的对位标记100中,多个所述子部11的平面形状和/或面积可以相同,也可以不同。当然,为了便于子部11的制造,所述多个子部11的平面形状和面积可以相同。在另外一些实施例中,可以将多个所述子部11设置为多个不同面积,使得不同的子部11能分别被多个不同精度的曝光机识别。

需要指出的是,图2中所述子部11的布置方式仅为本申请的示意性实施方式。本申请并未限定所述子部11的数目、形状、面积或排布方式。在具体实施时,可以依据蚀刻工艺或对位需求等,调整所述子部11的数目、形状、面积或排布方式。

在具体实施时,可以通过调整所述分割间隙20的尺寸、位置或形状,来调整子部11的布置方式。

具体地,所述子部11的宽度的范围为1μm-2μm,所述子部11的长度的范围为4μm-6μm。在一优选实施例中,所述子部11的宽度为1μm,所述子部11的长度为6μm。

基于相同的发明构思,本申请还提供一种显示面板,所述显示面板包括显示区和非显示区,所述显示区划分有多个像素单元。每一所述像素单元包括至少一子像素。本申请的显示面板还包括本申请的对位标记100,所述对位标记100位于所述子像素内。

第一,对于对位标记100具体是用于阵列基板上哪一膜层的制作过程中的对位曝光,对此不进行限定。例如,可以是来制作红色光阻时的对位标记100图案,也可以为制作绿色光阻时的对位标记100图案,还为制作蓝色光阻时的对位标记100图案。

第二,不同颜色的子像素中的对位标记100的可以相同,也可以不相同,本申请对此不作任何限定。当然,为了便于区分,可以将不同颜色的子像素中的对位标记100设置为不同结构。

第三,对于对位标记100图案的材料不进行限定,可以和阵列基板上本身就有的膜层的材料相同,也可以不同。此外,对位标记100和阵列基板上的膜层可以同时制作,也可以是对位标记100单独制作。

具体地,所述像素单元包括一红色子像素、一绿色子像素和一蓝色子像素。所述对位标记100位于所述绿色子像素内。

其中所述显示面板为液晶显示面板,所述显示面板可以包括阵列基板、彩膜基板、以及密封于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。

具体地,所述对位标记100设置在所述阵列基板中。

其中阵列基板包括衬底基板和在衬底基板上形成的薄膜晶体管、公共电极、像素电极、栅极线和数据线等,其中,薄膜晶体管作为显示面板中子像素的开关器件。薄膜晶体管的栅极连接显示面板的栅极线,经由栅极线连接至栅极扫描电路,薄膜晶体管的源极连接数据线,经由数据线连接至集成电路芯片(IC),薄膜晶体管的漏极连接至像素电极,通过数据线加载电压至像素电极,使得像素电极与公共电极之间形成电场,进而液晶层的液晶分子在该电场内偏转,从而控制光线出射与否,进而实现显示面板的显示。

具体地,所述阵列基板包括多个薄膜晶体管,薄膜晶体管作为像素单元的开关器件,包括栅极、源极、漏极和有源层。可选的,在栅极和有源层之间设置有栅极绝缘层,在栅极与源极和漏极所在膜层之间设置有层间绝缘层,在源极和漏极之上还设置有钝化层。

在具体实施时,薄膜晶体管可以为顶栅结构的薄膜晶体管,也可以为底栅结构的薄膜晶体管。本申请对所述薄膜晶体管的具体类型不作具体限定。

具体地,所述对位标记100与所述薄膜晶体管的栅极同层设置。该实施方式提供的显示面板中,位于阵列基板的对位标记100与阵列基板中薄膜晶体管的栅极同层设置,在制作时与栅极在同一个刻蚀工艺中制作完成,保证显示面板性能可靠性,同时不增加新的膜层结构满足薄型化要求。

具体地,所述阵列基板的子像素中设置有预设标记区。其中所述预设标记区,是指预设的或预留的用来布置或形成对位标记100的区域。显然地,本申请的对位标记100位于所述预设标记区内。

在一优选实施例中,本申请的对位标记100的外边缘与所述预设标记区的外边缘相重叠。

显然地,本申请的标记本体10的布置位置以及区域范围均保持不变,因此所述对位标记100的制作难度和精度不会受到影响,如此设置,能很大程度上防止由于对位标记100的结构和尺寸的变化,引起的对位标记100制程难度增加,以及对位标记100的位置精度降低等问题。同时,由于所述标记主体被分割为多个子部11,相对应地,标记主体上PR也被分割为多个独立的区域,从能防止PR面积过大。

在一优选实施例中,本申请的对位标记100的外边缘与所述预设标记区的外边缘相重叠。

以上对本申请实施例所提供的一种对位标记及显示面板进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

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