一种旋转电极镀膜系统

文档序号:549439 发布日期:2021-06-04 浏览:9次 >En<

阅读说明:本技术 一种旋转电极镀膜系统 (Rotary electrode coating system ) 是由 邓必龙 郑利勇 于 2021-01-20 设计创作,主要内容包括:本发明涉及气相沉积技术领域,尤其涉及一种旋转电极镀膜系统,其包括电极组件,包括:电极架组件、射频电极片和接地电极片;所述射频电极片和所述接地电极片平行间隔设置在所述电极架组件上,所述射频电极片与射频电源电连接,所述接地电极片与所述射频电极片相互绝缘;公转组件,用于驱动电极架组件绕设定中心转动;自转组件,与所述电极架组件传动连接,用于驱动所述电极架组件绕自身轴线转动。本发明能够提高成膜的均匀性和镀膜效率。(The invention relates to the technical field of vapor deposition, in particular to a rotary electrode coating system, which comprises an electrode assembly and comprises: the electrode holder assembly, the radio-frequency electrode plate and the grounding electrode plate; the radio-frequency electrode plate and the grounding electrode plate are arranged on the electrode frame assembly in parallel at intervals, the radio-frequency electrode plate is electrically connected with a radio-frequency power supply, and the grounding electrode plate and the radio-frequency electrode plate are mutually insulated; the revolution component is used for driving the electrode frame component to rotate around the set center; and the rotation assembly is in transmission connection with the electrode frame assembly and is used for driving the electrode frame assembly to rotate around the axis of the electrode frame assembly. The invention can improve the uniformity of film formation and the film coating efficiency.)

一种旋转电极镀膜系统

技术领域

本发明涉及气相沉积技术领域,尤其涉及一种旋转电极镀膜系统。

背景技术

目前在PECVD(化学气相沉积)的电极镀膜系统主要是利用不同极性的固定电极片之间形成的电场激发等离子体对产品进行镀膜。但是,固定的电极片在使用过程中由于单体的流场分布不均,造成其在电场中被激发形成的等离子体浓度因位置差异,从而会导致成膜的均匀性较差,而且现有技术中,由于产品位于电场之外,等离子体运动到产品表面时间较长,导致镀膜效率较低。

因此,需要一种旋转电极镀膜系统来解决上述技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种旋转电极镀膜系统,能够提高成膜的均匀性和镀膜效率。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

一种旋转电极镀膜系统,包括:

电极组件,包括:电极架组件、射频电极片和接地电极片;

所述射频电极片和所述接地电极片平行间隔设置在所述电极架组件上,所述射频电极片与射频电源电连接,所述接地电极片与所述射频电极片相互绝缘;

公转组件,用于驱动所述电极架组件绕设定中心转动;

自转组件,与所述电极架组件传动连接,用于驱动所述电极架组件绕自身轴线转动,所述设定中心与所述电极架组件的自身轴线间隔设置。

进一步地,所述公转组件包括公转主动齿轮和公转从动齿轮,所述公转主动齿轮与所述公转从动齿轮相啮合,所述电极架组件转动设置在所述公转从动齿轮上,所述设定中心为所述公转从动齿轮的转动中心。

进一步地,所述自转组件包括自转主动齿轮和转轴,所述自转主动齿轮固定套设在所述转轴上,所述自转主动齿轮与所述电极架组件传动连接。

进一步地,所述转轴穿设在所述公转从动齿轮上,且与所述公转从动齿轮同轴线设置。

进一步地,所述电极架组件包括电极架和自转从动齿轮,所述自转从动齿轮转动设置在所述公转从动齿轮上,且与所述自转主动齿轮相啮合,所述电极架设置在所述自转从动齿轮上,所述射频电极片和所述接地电极片均设置在所述电极架上。

进一步地,所述射频电极片和接地电极片沿所述电极架组件的高度方向间隔设置多个,且所述射频电极片和所述接地电极片一一对应设置。

进一步地,还包括旋转电极装置,所述旋转电极装置包括相互连接的第一旋转电极组件和第二旋转电极组件,所述转轴的上端转动设置在所述第一旋转电极组件上,所述电极架组件转动设置在所述第二旋转电极组件上。

进一步地,所述第一旋转电极组件包括同轴线设置的第一外环件和第一内环件,所述第一外环件与所述第一内环件之间设置第一中继滚子,所述第一内环件固定套设在所述转轴上。

进一步地,所述第二旋转电极组件包括同轴线设置的第二外环件和第二内环件,所述第二外环件与所述第二内环件之间设置第二中继滚子,所述第二内环件固定套设在所述电极架组件上,所述第二外环件与所述射频电极片电连接。

进一步地,所述第一外环件上设置有开口部,于所述开口部的位置设置有锁紧组件,所述锁紧组件包括:

两块连接耳板,间隔设置在所述开口部的两端;

安装轴,穿设在两块所述连接耳板上;

弹性件,套设在所述安装轴上,且一端与所述安装轴的端部抵接,另一端与其中一块所述连接耳板抵接。

本发明的有益效果:

本发明所提供的一种旋转电极镀膜系统,射频电极片与接地电极片平行间隔设置在电极架组件上,射频电极片与射频电源电连接,接地电极片与射频电极片彼此绝缘,待镀膜的产品设置在射频电极片与接地电极片之间,由于产品位于电场中,等离子体运动到产品表面时间缩短,从而提高镀膜效率;射频电极片与接地电极片能够在公转组件带动下绕设定中心转动,或者在自转组件的带动下绕自身轴线转动,通过射频电极片与接地电极片的自转或者公转能够使得待镀膜的产品可以在不同区域、不同等离子体浓度下进行成膜,从而减小等离子体浓度因位置不同造成的差异,提高成膜的均匀性。

附图说明

图1是本发明一种旋转电极镀膜系统的示意图;

图2是本发明一种旋转电极镀膜系统中电极组件的示意图;

图3是本发明一种旋转电极镀膜系统中公转组件和自转组件的示意图;

图4是本发明一种旋转电极镀膜系统中旋转电极装置的示意图。

图中:

1、电极组件;11、电极架;12、射频电极片;13、第一连接片;14、接地电极片;15、第二连接片;16、自转从动齿轮;2、公转组件;21、公转主动齿轮;22、公转从动齿轮;3、自转组件;31、自转主动齿轮;32、转轴;4、旋转电极装置;41、第一外环件;42、第一中继滚子;43、第一内环件;44、第二外环件;45、第二中继滚子;46、第二内环件;47、锁紧组件;471、连接耳板;472、安装轴;473、弹性件;48、固定片。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式进一步说明本发明的技术方案。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部。

在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

为了提高化学气相沉积成膜的均匀性和镀膜效率,如图1-图4所示,本发明提供一种旋转电极镀膜系统。本旋转电极镀膜系统包括:电极组件1、公转组件2和自转组件3。

其中,电极组件1包括:电极架组件、射频电极片12和接地电极片14;射频电极片12和接地电极片14平行间隔设置在电极架组件上,射频电极片12与射频电源电连接,接地电极片14与射频电极片12相互绝缘;公转组件2用于驱动电极架组件绕设定中心转动;自转组件3与电极架组件传动连接,用于驱动电极架组件绕自身轴线转动,设定中心与电极架组件的自身轴线间隔设置。

射频电极片12与接地电极片14平行间隔设置在电极架组件上,射频电极片12与射频电源电连接,接地电极片14与射频电极片12彼此绝缘,待镀膜的产品设置在射频电极片12与接地电极片14之间,由于产品位于电场中,等离子体运动到产品表面时间缩短,从而提高镀膜效率;射频电极片12与接地电极片14能够在公转组件2带动下绕设定中心转动,或者在自转组件3的带动下绕自身轴线转动,通过射频电极片12与接地电极片14的自转或者公转能够使得待镀膜的产品可以在不同区域、不同等离子体浓度下进行成膜,从而减小等离子体浓度因位置不同造成的差异,提高成膜的均匀性。

进一步地,公转组件2包括公转主动齿轮21和公转从动齿轮22,公转主动齿轮21与公转从动齿轮22相啮合,电极架组件转动设置在公转从动齿轮22上。通过驱动公转主动齿轮21从而带动公转从动齿轮22,电极架组件绕着公转从动齿轮22的轴线转动,其中设定中心为公转从动齿轮22的转动中心。

进一步地,自转组件3包括自转主动齿轮31和转轴32,自转主动齿轮31固定套设在转轴32上,自转主动齿轮31与电极架组件传动连接。通过驱动转轴32带动自转主动齿轮31转动从而带动电极架组件转动,实现电极架组件绕自身轴线转动。通过射频电极片12与接地电极片14的自转或者公转能够使得待镀膜产品可以在不同区域、不同等离子体浓度下进行成膜,从而减小等离子体浓度因位置不同造成的差异,提高成膜的均匀性。

进一步地,转轴32穿设在公转从动齿轮22上,且与公转从动齿轮22同轴线设置。通过将转轴32设置在公转从动齿轮22上,能够降低公转组件2和自转组件3的结构复杂度,减少公转组件2和自转组件3的占用空间,保证结构紧凑。

进一步地,电极架组件包括电极架11和自转从动齿轮16,自转从动齿轮16转动设置在公转从动齿轮22上,且与自转主动齿轮31相啮合,电极架11设置在自转从动齿轮16上,射频电极片12和接地电极片14均设置在电极架11上。通过自转从动齿轮16与自转主动齿轮31啮合传动,实现射频电极片12和接地电极片14的转动。

进一步地,射频电极片12和接地电极片14沿电极架组件的高度方向间隔设置多个,且射频电极片12和接地电极片14一一对应设置。为了便于射频电极片12与射频电源连接,接地电极片14接地,在本实施例中,在电极架11上设置有第一连接片13和第二连接片15,第一连接片13与射频电源电连接,多个射频电极片12均与第一连接片13连接,第二连接片15接地,多个接地电极片14均与第二连接片15连接。通过设置多个射频电极片12和接地电极片14,能够在相邻的射频电极片12和接地电极片14均设置待镀膜的产品,从而进一步提高镀膜的效率。

进一步地,旋转电极镀膜系统还包括旋转电极装置4,旋转电极装置4包括相互连接的第一旋转电极组件和第二旋转电极组件,转轴32的上端转动设置在第一旋转电极组件上,电极架组件转动设置在第二旋转电极组件上。通过设置第一旋转电极组件和第二电极旋转组件能够保证转轴32和电极架组件转动的稳定性。

进一步地,第一旋转电极组件包括同轴线设置的第一外环件41和第一内环件43,第一外环件41与第一内环件43之间设置第一中继滚子42,第一内环件43固定套设在转轴32上。第一内环件43通过第一中继滚子42相对第一外环件41转动,保证第一内环件43转动的流畅性。

进一步地,第二旋转电极组件包括同轴线设置的第二外环件44和第二内环件46,第二外环件44与第二内环件46之间设置第二中继滚子45,第二内环件46固定套设在电极架组件的连接轴上,第二外环件44通过固定片48与射频电极片12电连接。在本实施例中,为了进一步提高镀膜效率,电极组件1在公转从动齿轮22上间隔设置多个,射频电源与第一内环件43连接,再通过第一中继转子、第一外环件41传递到第二外环件44上,实现多个电极组件1都能与射频电源连通。

由于转轴32在转动过程中会造成第一内环件43的磨损,从而导致第一中继滚子42与第一外环件41之间传动的稳定性下降,进一步地,第一外环件41上设置有开口部,于开口部的位置设置有锁紧组件47,锁紧组件47包括:两块连接耳板471间隔设置在开口部的两端;安装轴472穿设在两块连接耳板471上;弹性件473套设在安装轴472上,且一端与安装轴472的端部抵接,另一端与其中一块连接耳板471抵接。第一外环件41能够在弹性件473的弹力作用下,在第一外环件41上的开口部收紧,从而保证第一外环件41与第一中继滚子42传动的稳定性。

进一步地,为了防止第二内环件46的磨损,从而导致第二中继滚子45与第二外环件44之间传动的稳定性下降,进一步地,第二外环件44上同样设置有开口部,于开口部的位置设置也同样有锁紧组件47。

显然,本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

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