具体实施方式

下面结合附图和实施方式进一步说明本发明的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

为了能够提高成膜的均匀性和镀膜效率，如图1-图5所示，本发明提供一种镀膜电极系统。本镀膜电极系统包括：第一电极组件1、多个第二电极组件2、工件架组件3、公转组件4和自转组件5。

其中，第一电极组件1沿竖直方向设置；多个第二电极组件2沿竖直方向设置，且多个第二电极组件2绕第一电极组件1的周向间隔设置；工件架组件3沿竖直方向设置在第一电极组件1和第二电极组件2之间，待镀膜的工件沿竖直方向放置在工件架组件3上；公转组件4用于驱动工件架组件3绕第一电极组件1的中心转动；自转组件5与工件架组件3传动连接，用于驱动工件架组件3绕自身轴线转动。

通过将工件架组件3设置在第一电极组件1和第二电极组件2，使得位于工件架组件3上的产品位于电场中，从而使得电场中产生的等离子体能够快速扩散到产品上，提高镀膜的效率；公转组件4能够驱动工件架组件3绕第一电极组件1的中心转动，自转组件5与工件架组件3传动连接，驱动工件架组件3绕自身轴线转动。通过驱动工件架组件3的自转和公转能够使得产品在不同位置、不同的等离子体浓度的区域进行成膜，从而减小等离子体浓度因位置不同造成的差异，提高成膜的均匀性。

进一步地，第一电极组件1包括：电极轴13、第一射频电极片11和第一接地电极片12；电极轴13沿竖直方向设置，第一射频电极片11和第一接地电极片12相互平行且均垂直于电极轴13，且间隔交错设置在电极轴13上，第一射频电极片11与射频电源电连接，第一接地电极片12与第一射频电极片11相互绝缘，且第一射频电极片11与电极轴13相互绝缘。为了进一步提高镀膜的效率，可选地，第一接地电极片12和第一射频电极片11平行间隔设置多个，且第一接地电极片12与第一射频电极片11一一对应设置。工件架组件3上的产品能够设置在相邻的第一射频电极片11和第一接地电极片12之间，从而进一步地提升镀膜效率。

为了便于与射频电源连接，可选地，沿竖直方向设置有第一连接片14，第一射频电极片11均与第一连接片14连接，第一接地电极片12与电极轴13连接，第一射频电极片11与电极轴13之间绝缘。

进一步地，第二电极组件2包括固定架、第二射频电极片23和第二接地电极片24；固定架沿竖直方向设置，第二射频电极片23和第二接地电极片24相互平行且均垂直于固定架，且间隔交错设置在固定架上，第二射频电极片23与射频电源电连接，第二接地电极片24与第二射频电极片23相互绝缘，第二射频电极片23与固定架相互绝缘；第一射频电极片11与第二射频电极片23处于同一高度，第一接地电极片12与第二接地电极片24处于同一高度。通过上述设置，便于在第一电极组件1和第二电极组件2之间布置工件架组件3。同样地，为了进一步提高镀膜的效率，可选地，第二接地电极片24和第二射频电极片23平行间隔设置多个，且第二接地电极片24与第二射频电极片23一一对应设置。工件架组件3上的产品能够设置在相邻的第二射频电极片23和第二接地电极片24之间，从而进一步地提升镀膜效率。

进一步地，固定架包括平行间隔设置的两个弧形件21和连接件22，连接件22沿竖直方向设置，连接件22的两端分别与两个弧形件21连接。通过采用弧形件21，便于固定架沿第一电极组件1的周向布置，且与第一电极组件1的中心同圆形。连接件22连接弧形件21，能够简化结构。

进一步地，公转组件4包括公转主动齿轮41和公转从动齿轮，公转主动齿轮41与公转从动齿轮相啮合，公转从动齿轮转动设置在电极轴13上，工件架组件3转动设置在公转从动齿轮上。通过公转主动齿轮41驱动公转从动齿轮带动工件架组件3随着公转从动齿轮转动，从而实现工件架组件3的绕第一电极组件1的中心转动，提升镀膜的均匀性。

进一步地，公转从动齿轮包括相互连接的齿圈部42和平台部43，齿圈部42与公转主动齿轮41相啮合，平台部43背离齿圈部42的一侧设置有工件架组件3。通过设置平台部43和齿圈部42便于减小公转从动齿轮的重量，而且便于在平台部43上安装第一电极组件1和工件架组件3。

进一步地，自转组件5包括自转主动齿轮51和自转中继齿轮52，自转主动齿轮51转动设置在公转从动齿轮上，自转中继齿轮52与自转主动齿轮51相啮合，自转中继齿轮52与工件架组件3传动连接。通过驱动自转主动齿轮51带动自转中继齿轮52从而带动工件架组件3转动，实现工件架组件3绕自身轴线的旋转。

进一步地，工件架组件3包括自转从动齿轮31和工件架，自转从动齿轮31与自转中继齿轮52啮合，工件架与自转从动齿轮31连接，工件架设置在第一电极组件1和第二电极组件2之间。通过自转中继齿轮52从而带动自转从动齿轮31驱动工件架转动，实现工件架的自转，从而能够提高镀膜的均匀性。

进一步地，工件架包括工件盘33、固定轴和连接法兰32，固定轴沿竖直方向设置在连接法兰32上，工件盘33设置在固定轴上，且位于第一射频电极片11和第一接地电极片12之间，连接法兰32与自转从动齿轮31连接。为了进一步地提高镀膜效率，工件盘33沿固定轴的轴向间隔设置多个。通过设置连接法兰32，便于与自转从动齿轮31连接，通过设置工件盘33便于放置产品。

为了进一步提高镀膜效率，可选地，工件架组件3沿自转中继齿轮52的周向间隔设置多个。通过设置自转中继齿轮52，能够同时带动多个自转从动齿轮31转动，从而实现多个工件架的转动。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。