具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面通过具体的实施例并结合附图对本发明做进一步的详细描述。

参见图1、图2和图3所示，本发明实施例提供了一种热处理用立式炉下盖结构，包括下炉盖100、旋转动力件200、下盖保温组件300和料台支撑件400；旋转动力件200设置在下炉盖100的外壁；下炉盖100上密封插设有可转动的旋转轴500，旋转轴500位于下炉盖100外的端部与旋转动力件200传动连接，旋转轴500的另一端与料台支撑件400固定连接，下盖保温组件300设置在旋转轴500上。

在具体使用时，工作人员下降下炉盖100，使得下炉盖100与立式真空炉的炉体600分离，当下炉盖100下降时，设置在下炉盖100上的旋转轴500能够带动设置在旋转轴500上的料台支撑件400下降，从而便于工作人员下料和上料，上料完成后，下炉盖100上升并与立式真空炉的炉体600连接，设置在旋转轴500上的下盖保温组件300能够与立式真空炉的炉体600内的炉体600保温组件连接，然后开始热处理工作，在热处理过程中，旋转动力件200能够带动旋转轴500转动，从而带动料台支撑件400随旋转轴500转动，使得料台支撑件400上的工件能够受热均匀，提高工件的质量；然后在热处理完成后进行冷却环节中，通过旋转动带动料台支撑件400转动，使得料台支撑件400上的工件全面均匀的冷却，从而降低热处理后的工件变形量，从而提高产品的质量。

具体的，旋转轴500可转动的设置在下炉盖100上，旋转轴500的一端位于下炉盖100内部，另一端位于下炉盖100外部，并且旋转轴500位于下炉盖100外部的一端与旋转动力件200传动连接，通过旋转动力件200可以带动旋转轴500转动，其中，旋转动力件200可以通过皮带与旋转轴500连接。

其中，在旋转轴500上设置有下盖保温组件300，当下炉盖100与立式真空炉的炉体600连接时，下盖保温组件300能够与炉体600内的炉体保温组合610密封连接，从而保证产品进行热处理工作。

需要指出的是，料台支撑件400可以采用料台支撑托板。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，旋转轴500上固定设置有旋转支撑平台510；旋转支撑平台510上设置有多个用于支撑料台支撑件400的辅助支撑杆511。

具体的，在旋转轴500上固定设置有旋转支撑平台510，并且在旋转支撑平台510上设置有辅助支撑杆511，通过辅助支撑杆511对料台支撑件400进行辅助支撑，避免料台支撑件400倾斜，保证设置在料台支撑件400上的工件能够正常进行热处理工作。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，多个辅助支撑杆511以旋转轴500为旋转中心均匀分布在旋转支撑平台510上。

具体的，将多个辅助支撑杆511以旋转轴500为旋转中心均匀设置在旋转支撑平台510上，可以对料台支撑件400进行有效的支撑，避免料台支撑件400出现倾斜现象。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，下炉盖100的内壁设置有多个用于支撑旋转支撑平台510的辅助支撑座110；辅助支撑座110的顶部设置有与旋转支撑平台510抵接的万向球111。

具体的，在下炉盖100的内壁设置有多个辅助支撑座110，并且多个辅助支撑座110的顶部均设置有万向球111，万向球111能够与旋转支撑平台510抵接，从而使得辅助支撑座110对旋转支撑平台510进行支撑；并且通过万向球111的设置，使得辅助支撑座110可以固定设置在下炉盖100的内闭上，而且不会影响旋转支撑平台510的转动。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，下盖保温组件300包括下盖固定保温组合310和下盖活动保温组合320；下盖固定保温组合310通过支杆311设置在下炉盖100内壁；下盖活动保温组合320固定设置在旋转轴500上，且下盖活动保温组合320位于料台支撑件400与旋转支撑平台510之间；下盖固定保温组合310和下盖活动保温组合320两者能够密封连接。

具体的，下盖固定保温组合310通过支杆311设置在下炉盖100的内壁上，并且当下炉盖100关闭时，即，下炉盖100与真空炉的炉体600连接时，下盖固定保温组合310能够与炉体600内的炉体保温组合610密封连接。

具体的，下盖活动保温组合320设置在旋转轴500上，并且下盖活动保温组合320位于料台支撑件400与旋转支撑平台510之间，在下炉盖100与真空炉的炉体600连接时，下盖活动保温组合320能够与炉体600内的炉体保温组合610密封连接。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，旋转支撑平台510上设置有多个支撑筒512，旋转轴500和辅助支撑杆511两者上均套设有支撑筒512；多个支撑筒512上设置有支撑板513，下盖活动保温组合320设置在支撑板513上。

具体的，在旋转支撑平台510上设置有多个支撑筒512，并且支撑筒512套设在旋转轴500和辅助支撑杆511两者，并且支撑套的顶部设置有支撑板513，支撑板513能够对下盖活动保温组合320进行支撑。

其中，通过支撑筒512的设置，能够减小旋转轴500和辅助支撑杆511两者与下盖活动保温组合320之间的缝隙泄漏热量。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，下炉盖100上开设有用于安装旋转轴500的安装孔，安装孔内设置有轴承座120，轴承座120内设置有轴承130。

具体的，在下炉盖100上开设安装孔，并且在安装孔内设置轴承座120，旋转轴500设置在轴承座120内，提高旋转轴500的转动润滑度。并且提高旋转轴500与炉盖之间的密封性能。

其中，轴承座120与下炉盖100之间设置有密封圈。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，轴承座120位于下炉盖100的外壁的一端设置有油封座140；油封座140内设置有骨架油封150；油封座140上设置有油封压盖160。

具体的，通过油封座140、骨架油封150和油封压盖160实现轴承座120与旋转轴500两者之间的密封连接。

参见图1、图2和图3所示，本实施例提供了一种立式真空炉，包括炉体600、炉体保温组合610、冷却组件700和热处理用立式炉下盖结构；炉体保温组合610和冷却组件700两者设置在炉体600内；冷却组件700位于炉体保温组合610外；热处理用立式炉下盖结构与炉体600连接，且下盖保温组件300能够与炉体保温组合610密封连接。

具体的，当下炉盖100关闭时，设置在下炉盖100上的下盖保温组件300能够与炉体保温组合610密封连接，从而减小炉体600的热量泄漏量。

其中，通过冷却组件700对炉体保温组合610内的工件进行冷却，并且在冷却过程中，旋转动力件200能够带动料台支撑件400转动，提高工件冷却后的质量，降低变形量。

另外，立式真空炉与现有技术相比具有上述热处理用立式炉下盖结构的优势，此处不再赘述。

参见图1、图2和图3所示，本实施例的可选方案中，冷却组件700包括多个通风管道710和多个喷嘴720；每个通风管道710上均设置有多个喷嘴720，喷嘴720的喷气端均插设在炉体保温组合610上，以使冷却气体能够进入到炉体保温组合610内。

具体的，通风管路设置在炉体保温组合610的外部，并且与通风管道710连通的多个喷嘴720插设在炉体保温组合610上，使得通风管道710内的冷却风能够吹进到炉体保温组合610内部，并对工件进行冷却工作。

具体的，在加热过程中：在产品进入炉体600内部进行热处理升温过程后，使用多区域控温的同时使得产品在热区保持整体旋转，使得产品在全工艺过程中有更加良好的受热均匀性；在冷却过程中：通过布置在炉体600内的圆周方向上的喷嘴720喷射出的冷却气流，配合产品本体在设备内部的旋转，使得产品在冷却过程中有优秀的冷却均匀性。

具体的，通过上述设置，可以很好的应对在使用立式真空炉时多变的装炉情况。可以应对产品热处理完成后的低变形量的高要求。保证出炉产品性状的稳定性，增加有效装炉量，提升工作效率。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明实施例技术方案的范围。