一种网状多层钐钴纳米线的制备方法

文档序号:737221 发布日期:2021-04-20 浏览:10次 >En<

阅读说明:本技术 一种网状多层钐钴纳米线的制备方法 (Preparation method of reticular multi-layer samarium cobalt nanowire ) 是由 杨杭福 黄霞妮 吴琼 葛洪良 于 2021-01-18 设计创作,主要内容包括:一种网状多层钐钴纳米线的制备方法,本发明通过高能重离子束制备含3D网状结构通道的聚碳酸酯薄膜(PC)模板,利用脉冲电沉积技术,制备得到网(SmCo)-(1-x)Cu-x/Cu纳米线,所获得纳米线成相互连接的网状结构,能够直接作为磁性纳米器件使用,其次通过引入非磁性纳米层Cu,增强钐钴的去磁耦合相互作用,提高矫顽力。(The invention discloses a preparation method of a reticular multilayer samarium cobalt nanowire, which is characterized in that a polycarbonate film (PC) template containing a 3D reticular structure channel is prepared by high-energy heavy ion beams, and a pulse electrodeposition technology is utilized to prepare a network (SmCo) 1‑x Cu x the/Cu nanowire is in a mutually connected net structure, can be directly used as a magnetic nano device, and enhances the coercivity by introducing the non-magnetic nano layer Cu to enhance the demagnetization coupling interaction of samarium cobalt.)

一种网状多层钐钴纳米线的制备方法

技术领域

本发明涉及钐钴磁体的制备方法,尤其涉及网状钐钴纳米线的制备方法,属于永磁材料技术领域。

背景技术

一维纳米磁性材料作为其它低维纳米材料的研究基础,它与纳米电子器件及微型传感器息息相关,并且在研制微观领域纳米电子器件等方面有着广泛的应用前景,它可用作纳米器件、扫描隧道显微镜的针尖、光导纤维、敏感材料、超大规模集成电路的连线、微型钻头以及复合材料增强剂等。钐钴永磁材料作为第一代和第二代永磁体,因为其磁各向异性显著、居里温度高等优势仍有着重要的价值。钐钴纳米线作为一维材料,纳米材料具有小尺寸效应,表面效应,量子尺寸效应和宏观量子隧道效应等,是纳米组装技术的关键材料。

目前钐钴低维材料的制备方法,主要有气相沉积、溅射、旋涂以及电沉积等,磁控溅射等有着成本高、工艺要求高等缺点,研究者试图找到一种成本低、操作简单的工艺。电沉积是一种优秀的材料制备手段,有着设备简单、成本低、生产效率高等优点,研究者们进行了电沉积制备稀土永磁材料的尝试。其中河北工业大学利用电沉积和AAO氧化铝模板制备钐钴纳米线,通过调配Sm:Co离子的比例,发现当Sm:Co离子的比例为6:1时,所获得的磁性能最佳,但该方法制备得到得到的纳米线不能站立,不能直接作为器件使用,这在一定程度上限制了其作为纳米器件方面的应用,同时,由于纳米尺寸效应,所获得的SmCo纳米线的矫顽力都较低。

发明内容

本发明正是针对现有技术存在的不足,提供一种网状钐钴磁性纳米线的制备方法。

为解决上述问题,本发明所采取的技术方案如下:

一种网状钐钴磁性纳米线的制备方法,包括以下步骤:

1)网状PC通道模板制作:利用高能重离子束辐照在聚碳酸酯薄膜(PC)表面,辐照过程中,以重离子束为法线,先调节聚碳酸酯薄膜的角度,使聚碳酸酯薄膜与重离子束的辐射角度为α,再旋转聚碳酸酯薄膜,使碳酸酯薄膜与重离子束的辐射角度为-α,聚碳酸酯经过两次重离子束辐照后,在内部形成网状的纳米通道网络,将聚碳酸酯薄膜放入Na(OH)溶液中,通过化学刻蚀法,将纳米通道网络的孔扩大,形成具有3D网状结构的PC通道模板,最后使用电子蒸镀法,在聚碳酸酯薄膜表面镀一层Au/Pt薄膜。

2)化学电沉积:配制一定浓度的Sm2(SO4)3,CoSO4和CuSO4混合溶液作为化学电沉积溶液,以硼酸、柠檬酸和柠檬酸钠的一种或多种,作为络合剂,将步骤1得到的网状PC通道模板放入电沉积液中,利用电化学工作站,以模板上的Au/Pt薄膜作为阴极,Ag/AgCl作为参比电极以及Pt作为对电极,采用脉冲电沉积技术,沉积电位在-2V和-0.4V之间切换,-2.4V沉积SmCo材料,-0.4V用来沉积Cu,-2.4V的脉冲持续时间为500ms~1s,-0.4V脉冲的持续时间为1s~2s,在聚碳酸酯薄膜中沉积得到网状(SmCo)1-xCux/Cu多层纳米线,其中x≤0.05,(SmCo)1-xCux的厚度为10nm~20nm,Cu纳米层的厚度为1nm~2nm。

3)模板移除:将步骤2中得到的(SmCo)1-xCux/Cu纳米线的聚碳酸酯薄膜,放入二氯甲烷溶液中,聚碳酸酯薄膜溶解后得到网状(SmCo)1-xCux/Cu纳米线。

4)时效处理:将步骤3中得到的网状(SmCo)1-xCux/Cu纳米线在600~850 oC氮气保护下时效处理2h~4h,随炉冷却至室温。

具体的,步骤1所述的高能重离子束能量为5MeV~10MeV,辐照区域的直径为2cm,频率为1Hz~2Hz; 所述的聚碳酸酯薄膜的厚度为20 μm ~100 μm;所述的碳酸酯薄膜与重离子束的辐射角度α为20o~45o,开孔后获得的网状纳米通道直径为50nm~200nm;所述的聚碳酸酯薄膜镀表面Au/Pt薄膜的厚度为500nm~1 μm。

具体的,步骤2所述的Sm2(SO4)3,CoSO4和CuSO4混合溶液中,Sm:Co:Cu的原子比为1:5~8.5:0.002~0.008。

具体的,步骤3所述的二氯甲烷溶液的浓度为0.5 molL-1~2 molL-1

与现有的技术相比,本发明具有如下优点和有益效果:

(1)通过制备聚碳酸酯薄膜(PC)三维纳米通道模板,在模板上沉积网状钐钴纳米线,所获得纳米线成相互连接的网状结构,能够直接作为磁性纳米器件使用;

(2)本发明通过在钐钴纳米线中,引入非磁性纳米层Cu,形成SmCo/Cu的多层纳米线结构,增强钐钴的去磁耦合相互作用,提高矫顽力。

具体实施方式

下面结合具体实施方式及对比例对本发明作进一步阐述。

实施例1

1)网状PC通道模板制作:利用高能重离子束辐照在聚碳酸酯薄膜(PC)表面,能量为5MeV,频率为1Hz,其中聚碳酸酯薄膜(PC)的厚度为30μm,辐照过程中,以重离子束为法线,先调节聚碳酸酯薄膜的角度,使聚碳酸酯薄膜与重离子束的辐射角度为45 o,再旋转聚碳酸酯薄膜,使碳酸酯薄膜与重离子束的辐射角度为-45 o,聚碳酸酯薄膜经过两次重离子束辐照后,在内部形成网状的纳米通道网络,将聚碳酸酯薄膜放入Na(OH)溶液中,通过化学刻蚀法,将纳米通道网络的孔扩大,形成具有3D网状结构的PC通道模板,孔径为50nm,最后使用电子蒸镀法,在聚碳酸酯薄膜表面镀一层500 nm的Au薄膜;

2)化学电沉积:配制0.5 mol L-1 Sm2(SO4)3, 5 mol L-1CoSO4和0.008 mol L-1 CuSO4混合溶液作为化学电沉积溶液,以硼酸和柠檬酸钠,作为络合剂,将步骤1得到的网状PC通道模板放入电沉积液中,利用电化学工作站,以模板上的Au薄膜作为阴极,Ag作为参比电极以及Pt作为对电极,采用脉冲电沉积技术,沉积电位在-2V和-0.4V之间切换,-2.4V沉积SmCo材料,-0.4V用来沉积Cu,-2.4V的脉冲持续时间为500ms,-0.4V脉冲的持续时间为1s,在聚碳酸酯薄膜中沉积得到网状(SmCo)0.97Cu0.03/Cu多层纳米线,其中x≤0.05,(SmCo)0.97Cu0.03的厚度为10nm,Cu纳米层的厚度为1nm。

3)模板移除:将步骤2中得到的含网状(SmCo)0.97Cu0.03/Cu多层纳米线的聚碳酸酯薄膜,放入0.5mol L-1二氯甲烷溶液中,聚碳酸酯薄膜充分溶解后得到网状(SmCo)0.97Cu0.03/Cu多层纳米线。

4)时效处理:将步骤3中得到的SmCo)0.97Cu0.03/Cu多层纳米线在600 oC氮气保护下时效处理2h,随炉冷却至室温。

将制备得到的(SmCo)0.97Cu0.03/Cu多层纳米线样品,采用PPMS对样品进行了磁性能测试,并与文献中AAO氧化铝模板制备的钐钴纳米线进行了对比,对比结果如表1 所示。

表1

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