显示面板、显示装置、电子设备及制备方法

文档序号:973323 发布日期:2020-11-03 浏览:1次 >En<

阅读说明:本技术 显示面板、显示装置、电子设备及制备方法 (Display panel, display device, electronic equipment and preparation method ) 是由 杨静 曹方旭 汪炳伟 于 2020-08-25 设计创作,主要内容包括:本申请公开了一种显示面板、显示装置、电子设备以及制备方法,涉及显示技术领域。一种显示面板,其包括依次层叠设置的TFT基板、像素界定层、电致发光器件层以及封装层,所述TFT基板上朝向所述像素界定层的一侧向远离所述像素界定层的方向上设有若干凹槽,所述若干凹槽将所述TFT基板分为若干相互间隔的子显示区,每个所述子显示区上容纳至少一个子像素;还包括若干搭接桥,所述搭接桥搭在所述凹槽上,且所述搭接桥的两端分别连接所述凹槽两侧的所述子显示区,用于为所述凹槽两侧的相邻子像素提供布线通道。本申请提供的显示面板在凹槽处增加走线位置,在原有的桥区减少走线增加子像素,可有效提高显示面板的分辨率。(The application discloses a display panel, a display device, electronic equipment and a preparation method, and relates to the technical field of display. A display panel comprises a TFT substrate, a pixel defining layer, an electroluminescent device layer and an encapsulation layer which are sequentially stacked, wherein a plurality of grooves are formed in the direction away from the pixel defining layer on one side of the TFT substrate, the grooves divide the TFT substrate into a plurality of sub-display areas which are spaced from each other, and at least one sub-pixel is accommodated in each sub-display area; still include a plurality of overlap joint bridges, the overlap joint bridge is taken on the recess, just the both ends of overlap joint bridge are connected respectively the recess both sides sub-display area for the adjacent sub-pixel of recess both sides provides the wiring passageway. The display panel provided by the application increases the wiring position at the groove, reduces wiring and increases sub-pixels in the original bridge area, and can effectively improve the resolution of the display panel.)

显示面板、显示装置、电子设备及制备方法

技术领域

本申请涉及显示装置技术领域,尤其涉及一种显示面板、显示装置、电子设备及制备方法。

背景技术

随着显示技术的发展,在可穿戴显示领域,刚性屏已不再满足需求,可拉伸显示屏应运而生;可拉伸的显示面板是利用开孔区应力实现可拉伸,并且通过在桥区走线实现岛区之间的连接。

但是桥区的走线较多占据了显示面板的较大空间,这就造成了显示面板上留给像素的布置空间相对较小,从而导致显示面板的分辨率较低,无法达到较高要求。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置、电子设备及制备方法,以解决现有可拉伸显示屏原有桥区走线占据较多显示面板空间,造成像素布置空间小,导致显示面板分辨率低,无法达到较高要求的问题。

为解决上述技术问题,本申请实施例提供如下技术方案:

本申请第一方面提供一种显示面板,其包括依次层叠设置的TFT基板、像素界定层、电致发光器件层以及封装层,

所述TFT基板上朝向所述像素界定层的一侧向远离所述像素界定层的方向上设有若干凹槽,所述若干凹槽将所述TFT基板分为若干相互间隔的子显示区,每个所述子显示区上容纳至少一个子像素;

还包括若干搭接桥,所述搭接桥搭在所述凹槽上,且所述搭接桥的两端分别连接所述凹槽两侧的所述子显示区,用于为所述凹槽两侧的相邻子像素提供布线通道。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,其中所述搭接桥由弹性材料制得。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,其中所述搭接桥至少包括第一胶层;

所述第一胶层包括搭接部和悬置部,悬置部与所述凹槽相对应,所述悬置部的两端分别连接一所述搭接部,且所述搭接部分别连接至所述凹槽两侧的子显示区。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,其中所述悬置部平行所述TFT基板设置。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,其中所述悬置部非平行于所述TFT基板设置。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,还包括层间介质层,所述层间介质层设置在所述TFT基板与所述像素界定层之间;

所述搭接桥还包括第二胶层;

所述第二胶层设置在所述TFT基板与所述第一胶层之间,且所述第二胶层与所述搭接部对应设置;

其中,所述第二胶层与所述层间介质层同层设置。

在本申请第一方面的一些变更实施方式中,前述的显示面板,其中所述凹槽包括沿第一方向延伸的第一凹槽和沿第二方向延伸的第二凹槽;

所述搭接桥的延伸方向垂直所述第一凹槽/所述第二凹槽的延伸方向;

其中,所述第一方向垂直所述第二方向。

本申请第二方面提供一种显示装置,其包括上述显示面板。

本申请第三方面提供一种电子设备,其包括上述显示装置。

本申请第四方面提供一种显示面板的制备方法,其包括如下步骤:

制备TFT基板,并于所述TFT基板上形成所述若干凹槽;

于所述TFT基板上制备所述若干搭接桥;

依次制备像素界定层、电致发光器件层以及封装层。

在本申请第四方面的一些变更实施方式中,于所述TFT基板上制备所述若干搭接桥的步骤,包括:

于所述TFT基板上制备第二胶层,并在所述凹槽处形成所述搭接桥的承托部;

于所述承托部背离所述TFT基板的一侧制备第一胶层;

去除所述承托部,形成所述搭接桥。

在本申请第四方面的一些变更实施方式中,其中所述第一胶层为负性光刻胶;

所述第二胶层为正性光刻胶。

在本申请第四方面的一些变更实施方式中,所述承托部平行/非平行于所述TFT基板。

相较于现有技术,本申请第一方面提供的显示面板,通过将搭接桥搭在TFT基板的凹槽上,并保证搭接桥的两端分别连接凹槽两侧的子显示区,实现直接跨过凹槽布线连接凹槽两侧的相邻子像素,且在原有的桥区位置进行子像素的布置,提高显示面板的分辨率;从而有效解决现有可拉伸显示屏原有桥区走线占据较多显示面板空间,造成像素布置空间小,导致显示面板分辨率低,无法达到较高要求的问题;本申请提供的显示面板在凹槽处增加走线位置,在原有的桥区减少走线增加子像素,可有效提高显示面板的分辨率。

附图说明

通过参考附图阅读下文的详细描述,本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中,以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式,相同或对应的标号表示相同或对应的部分,其中:

图1示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板的示意图;

图2图1中A区域沿B-B的截面示意图;

图3示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中第一部分的结构示意图;

图4示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中第二部分的结构示意图;

图5示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中第三部分的结构示意图;

图6示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中承托部的结构示意图;

图7示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中制备第一胶层的中间结构示意图;

图8示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中第一胶层的结构示意图;

图9示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中承托部的另一种结构示意图;

图10示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备过程中第一胶层的另一种结构示意图;

图11示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备方法的流程示意图;

图12示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板制备方法中制备搭接桥的流程示意图;

附图标号说明:TFT基板1、子显示区11、衬底基板12、第一柔性基板13、缓冲层14、第二柔性基板15、TFT层16、像素界定层2、电致发光器件层3、子像素31、封装层4、凹槽5、第一凹槽51、第二凹槽52、搭接桥6、第一胶层61、搭接部611、悬置部612、第二胶层62、承托部622、层间介质层7、第一方向a、第二方向b。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反,提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

需要注意的是,除非另有说明,本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域技术人员所理解的通常意义。

本申请实施例的技术方案为解决上述技术问题,总体思路如下:

实施例1

参考附图1和2,本申请实施例提供的显示面板,其包括依次层叠设置的TFT基板1、像素界定层2、电致发光器件层3以及封装层4,其中:

所述TFT基板1上朝向所述像素界定层2的一侧向远离所述像素界定层2的方向上设有若干凹槽5,所述若干凹槽5将所述TFT基板1分为若干相互间隔的子显示区11,每个所述子显示区11上容纳至少一个子像素31;

还包括若干搭接桥6,所述搭接桥6搭在所述凹槽5上,且所述搭接桥6的两端分别连接所述凹槽5两侧的所述子显示区31,用于为所述凹槽5两侧的相邻子像素31提供布线通道。

具体的,为了解决现有可拉伸显示屏原有桥区走线占据较多显示面板空间,造成像素布置空间小,导致显示面板分辨率低,无法达到较高要求的问题,本实施例提供的显示面板通过将搭接桥6搭接在TFT基板1的所述凹槽5上,使得所述搭接桥6的两端分别连接所述凹槽5两侧的所述子显示区31,进而在所述凹槽5两侧的被所述凹槽5隔开的相邻子像素31的连接线则可以通过所述搭接桥6进行布置,从而将传统的桥区走线更改为直接跨过凹槽5进行走线,在原有的桥区减少走线增加子像素,可有效提高显示面板的分辨率。

其中,参考附图5,所述TFT基板1包括依次层叠设置的衬底基板12、第一柔性基板13、缓冲层14、第二柔性基板15、TFT层16,上述结构是本领域技术人员能够轻易理解的,在此不做过多赘述;参考附图1,所述TFT基板1被所述若干凹槽5分为相互间隔的子显示区11,即本实施例中去除了传统可拉伸显示面板中用于走线的桥区,使得显示面板上除了设置所述凹槽5的区域均是子显示区11,从而在显示面板的尺寸一定的情况下,大幅增加子像素31的设置数量,从而提高显示面板的分辨率。

其中,参考附图5,所述凹槽5则是由所述TFT层16贯穿至所述缓冲层14的,所述凹槽5的设置使得所述TFT基板1以及由所述TFT基板1形成的显示面板可以沿所述凹槽5的延伸方向进行拉伸,形成可拉伸显示面板,即所述凹槽5相当于传统可拉伸显示面板中的开孔区,上述设置是本领域技术人员能轻易理解的,在此不做过多限定。

其中,参考附图1,所述凹槽5的延伸方向可以是平行所述TFT基板1的长度/宽度方向,也可以是在TFT基板1上进行倾斜设置,可以理解的是:所述凹槽5的延伸方向取决于TFT基板1或者说显示面板的可拉伸方向,该设置方式是本领域技术人员能够轻易理解并实现的,在此不做过多赘述。

其中,所述搭接桥6为搭载所述凹槽5的槽口处起到桥梁作用的,所述搭接桥6将所述凹槽5两侧的所述子显示区11连接起来,进而也就能够为所述凹槽5两侧的所述子显示区11内需要跨过所述凹槽5进行电连接的所述子像素31提供布线通道,使得走线可以直接穿过所述凹槽5而不需要绕过所述凹槽5占用不必要的显示面板空间;所述搭接桥6可以是平直的也可以是弯曲的,只要能够实现所述凹槽5两侧的子显示区11的连通即可;并且所述搭接桥6是可发生形变的,进而在所述显示面板利用所述凹槽5进行拉伸时,所述搭接桥5可以随之发生形变,从而避免所述搭接桥6断裂,影响显示。

根据上述所列,本申请第一方面提供的显示面板,通过将搭接桥6搭在TFT基板1的凹槽5上,并保证搭接桥6的两端分别连接凹槽5两侧的子显示区11,实现直接跨过凹槽5布线连接凹槽5两侧的相邻子像素31,且在原有的桥区位置进行子像素31的布置,提高显示面板的分辨率;本申请提供的显示面板在凹槽5处增加走线位置,在原有的桥区减少走线增加子像素31,可有效提高显示面板的分辨率。

本文中术语“和/或”,仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B,具体地理解为:可以同时包含有A与B,可以单独存在A,也可以单独存在B,能够具备上述三种任一种情况。

进一步地,本申请实施例提供的一种显示面板,在具体实施中,所述搭接桥6由弹性材料制得。

具体的,为了保证所述搭接桥6可以随所述显示面板的拉伸发生形变,本实施例中,将所述搭接桥6的材质设置为弹性材质,例如:金属、有机物、金属与有机物相结合等形式,其中,当所述搭接桥6设置为由金属材质制得时,其可以通过金属薄片/弹片的形式;当所述搭接桥6设置为由有机物制得时,材料本身的特性就已经决定了其是可以发生形变的;当所述搭接桥6设置为由金属和有机物结合的形式时则可以适当参考上述两种方式;上述内容对于本领域技术人员来说是可以轻易理解并实现的,因而在此不做过多赘述。

进一步地,参考附图8和附图10,本申请实施例提供的一种显示面板,在具体实施中,所述搭接桥6至少包括第一胶层61;

所述第一胶层61包括搭接部611和悬置部612,悬置部612与所述凹槽5相对应,所述悬置部612的两端分别连接一所述搭接部611,且所述搭接部611分别连接至所述凹槽5两侧的子显示区11。

具体的,为了保证所述搭接桥6能够为所述凹槽5两侧的子像素31提供走线通道,本实施例中,将所述搭接桥6设置为至少包括所述第一胶层61的形式,所述第一胶层61为负性光刻胶(透明胶体),在制作过程中,参考附图7,需要在所述TFT层16背离所述衬底基板12的一侧涂覆第二胶层62,所述第二胶层62为正性光刻胶(透明胶体),在所述凹槽5对应的位置上形成所述承托部622,而后在所述第二胶层62上涂敷所述第一胶层61,进行大曝光量曝光、显影,使得所述负性光刻胶的第一胶层61固化,所述正性光刻胶的第二胶层62溶解,从而参考附图8,在所述凹槽51对应的位置上保留的所述第一胶层61则为所述悬置部612,在所述凹槽5两侧的所述第一胶层62则为所述搭接部611;其中,所述悬置部612可以如图8所示朝向所述凹槽5内凹,也可以如图10所示背离所述凹槽5外凸,当所述悬置部612为内凹的情况时,则在进行所述第二胶层62涂覆时,可以将所述第二胶层62的涂覆厚度设置的较小,保证如图6所示的第二胶层62在所述凹槽5内是内凹的,从而在接着涂覆第一胶层61时,所述悬置部612在所述凹槽5内则为内凹的形式;相应的,当所述悬置部612为外凸的情况时,则在进行所述第二胶层62涂覆时,可以将所述第二胶层62的涂覆厚度设置的较大,保证如图9所示的第二胶层62突出于所述凹槽5,从而在接着涂覆第一胶层61时,所述悬置部612在所述凹槽5内则为内凹的形式;其中,所述第一胶层61和所述第二胶层62的涂覆与曝光显影是本领域技术人员可以轻易理解并实现的,在此不做过多赘述。

进一步地,参考附图8和附图10,本申请实施例提供的一种显示面板,在具体实施中,所述悬置部612平行所述TFT基板1设置,或者所述悬置部612非平行于所述TFT基板1设置。

具体的,为了所述搭接桥6能够在显示面板通过所述凹槽5进行拉伸时发生形变,避免发生搭接桥断裂,影响显示,本实施例中在所述搭接桥6由弹性材质制得的前提下,可以将所述悬置部612设置为平行/非平行所述TFT基板1的方向设置,当所述悬置部612平行所述TFT基板1时,则参考附图8,所述搭接桥6是水平搭接在所述凹槽5上的,所述悬置部612则是水平设置的,此时当显示面板通过所述凹槽5进行拉伸时,所述悬置部612可以在拉伸方向即图中左右方向发生一定程度的形变,以配合拉伸,具体的,图8和图10所示,所述凹槽5的延伸方向是垂直画面内外的方向,则拉伸方向则是图中的左右方向;优选地,是将所述悬置部612设置为非平行于所述TFT基板1的形式,即如附图8所示的内凹形或如图10所示的外凸形,还可以是z字形、波浪形等形式,进而使得所述悬置部612在所述凹槽5内沿所有方向的可拉伸形变冗余量足够大,从而大大提高悬置部612的可形变能力,保证搭接桥6不会随显示面板的拉伸发生断裂,影响显示。

进一步地,参考附图2,本申请实施例提供的一种显示面板,在具体实施中,还包括层间介质层7,所述层间介质层7设置在所述TFT基板1与所述像素界定层2之间;

所述搭接桥6还包括第二胶层62;

所述第二胶层62设置在所述TFT基板1与所述第一胶层61之间,且所述第二胶层62与所述搭接部611对应设置;

其中,所述第二胶层62与所述层间介质层7同层设置。

具体的,为了所述搭接桥6的悬置部612能够顺利成形且不影响显示面板原有功能层的设置的前提下简化制备工艺,本实施例中,将所述第二胶层62与所述层间介质层7同层且同材料设置,既能够形成所述悬置部612成形所需的承托部622,又能够将所述第二胶层62的设置规划至所述层间介质层7的制备过程中,在不增加制备工艺步骤的前提下,实现了所述第二胶层62或者说所述承托部622的设置,为所述搭接桥6的悬置部612的设置进行铺垫;当然可以理解的是:如果所述第二胶层62不与所述层间介质层7同层设置,那么所述第二胶层62则在族中的显示面板结构中可以不必出现,例如:如图9所示,当所述第二胶层62的涂覆厚度较大,使得所述承托部622突出于所述凹槽5时,在对所述第二胶层62上对应所述搭接部611的位置进行曝光显影时,可以保留所述凹槽5对应的承托部622,则将与所述搭接部611对应的第二胶层62全部溶解掉,则最后形成的所述搭接桥6中则不具备所述第二胶层62,上述设置过程应为本领域技术人员能够轻易理解并实现的,在此不做过多赘述。

进一步地,参考附图1,本申请实施例提供的一种显示面板,在具体实施中,所述凹槽5包括沿第一方向a延伸的第一凹槽51和沿第二方向b延伸的第二凹槽52;

所述搭接桥6的延伸方向垂直所述第一凹槽51/所述第二凹槽52的延伸方向;

其中,所述第一方向a垂直所述第二方向b。

具体的,为了实现显示面板的可拉伸性能,本实施例中将所述凹槽5设置为包括沿所述第一方向a和所述第二方向b延伸的凹槽5,其中所述第一方向a和所述第二方向b则分别为显示面板(TFT基板1)的长度方向和宽度方向,则对应沿显示面板(TFT基板1)的长度方向设置的凹槽5时,显示面板(TFT基板1)可以沿其宽度方向进行拉伸,对应沿显示面板(TFT基板1)的宽度方向设置的凹槽5时,显示面板(TFT基板1)可以沿其长度方向进行拉伸;需要说明的是:所述凹槽5沿显示面板(TFT基板1)长度或宽度方向设置仅仅是较为常见的设置,也可以是在显示面板(TFT基板1)上沿其他倾斜方向设置,可以理解的是:所述凹槽5的延伸方向取决于TFT基板1或者说显示面板的可拉伸方向,该设置方式是本领域技术人员能够轻易理解并实现的,在此不做过多赘述。

其中,所述搭接桥6的延伸方向则垂直所述凹槽5的延伸方向,当所述搭接桥6是设置在所述第一凹槽51上时,则所述凹槽5的延伸方向则垂直所述第一凹槽51的延伸方向,当所述搭接桥6是设置在所述第二凹槽52上时,则所述凹槽5的延伸方向则垂直所述第二凹槽52的延伸方向,进而实现所述搭接桥6直接跨过所述凹槽5连接所述凹槽5两侧的子显示区11;其中,当然所述凹槽5为其他形状的设置方式均可以由本申请的技术方案中推断出来,因而均应属于本申请的保护范围,例如:当所述凹槽5为圆形时,则所述搭接桥6则可以沿该凹槽5的任一直径方向搭在所述凹槽5上。

实施例2

进一步地,本申请实施例提供一种显示装置,其包括所述显示面板。

其中,所述显示面板即为实施例1所述的显示面板,其具体结构及提高分辨率的原理请参照上述实施例1的详细说明,在此不做过多赘述。

实施例3

进一步地,本申请实施例提供一种电子设备,其包括所述显示装置。

其中,所述显示装置即为实施例2所述的显示装置,其具体结构及提高分辨率原理请参照上述实施例1和实施例2的详细说明,在此不做过多赘述。

实施例4

进一步地,参考附图11,本申请实施例提供一种基于实施例1的显示面板的制备方法,其包括如下步骤:

101、制备TFT基板1,并于所述TFT基板1上形成所述若干凹槽5;

具体的,参考附图2,所述TFT基板1包括依次层叠设置的衬底基板12、第一柔性基板13、缓冲层14、第二柔性基板15、TFT层16,则具体制备过程,依次参考附图3、附图4以及附图5,参考附图3,在衬底基板12上涂敷聚酰亚胺溶液,经过减压干燥以及烘烤烘干,形成所述第一柔性基板(PI)13,对所述第一柔性基板(PI)13进行刻蚀,形成所述凹槽5;接着在所述第一柔性基板(PI)13背离所述衬底基板12的一侧形成所述缓冲层14,并对所述缓冲层14对应所述凹槽5的位置进行图形化处理,保留所述凹槽5;接着,参考附图4,在所述缓冲层14背离所述衬底基板12的一侧形成涂敷聚酰亚胺溶液,经过减压干燥以及烘烤烘干,形成所述第二柔性基板(PI)15,并对应所述凹槽5的位置进行刻蚀,保留所述凹槽5;而后,参考附图5,在所述第二柔性基板(PI)15背离所述衬底基板12的一侧设置所述TFT层16,同样保证将所述凹槽5的位置留出;上述TFT基板1的设置方式为本领域技术人员能够轻易理解并实现的,因而在此不做过多赘述。

102、于所述TFT基板1上制备所述若干搭接桥6;

具体的,如图2、图8以及图10所示,在所述TFT基板1上即所述TFT层16背离所述衬底基板12的一侧对应所述若干凹槽5设置若干所述搭接桥6,使得所述搭接桥6跨过所述凹槽5分别连接至所述凹槽5两侧的子显示区11。

103、依次制备像素界定层2、电致发光器件层3以及封装层4;

具体的,参考附图2,为了保证本实施例提供的显示面板的完整性,本实施例中在所述搭接桥6背离所述衬底基板12的一侧依次向上层叠设置所述像素界定层2、电致发光器件层3以及封装层4,上述结构的设置方式与现有技术中设置上述结构的方式相同,且该设置方式为本领域技术人员熟知且能够轻易实现的,因而本实施例中不做过多赘述。

进一步地,参考附图12,上述步骤102具体包括如下步骤:

201、于所述TFT基板1上制备第二胶层62,并在所述凹槽5处形成所述搭接桥6的承托部622;

具体的,在所述TFT层16背离所述衬底基板12的一侧涂覆所述第二胶层62,所述第二胶层62为正性光刻胶,使其形成所述承托部622;其中,为了保证最终形成的所述搭接桥6的悬置部622为下凹或上凸或其他形状,本实施例中需要预先设计所述承托部622的形状,所述承托部622的形状可以是如图6所示的下凹状,也可以是如图9所示的上凸状,当然也可以是上述的波浪状、Z字状等,只需要调整曝光过程的掩膜形状或掩膜位置即可;其中,为了保证所述悬置部612在所述凹槽5处具有足够的变形冗余量,则本实施例中在设置所述承托部622时,则首先保证所述承托部622有足够的变形冗余量,进而对所述第二胶层62进行适当的曝光显影使其具有明显的非平行于所述TFT基板1的延伸方式;

例如:参考附图6,所述第二胶层62的涂覆厚度较小时,由于层厚一致,而凹槽5处需要填充所述凹槽5,所以所述第二胶层62在所述凹槽5内下凹,为了增大所述悬置部612的冗余量,本实施例中对所述凹槽5内的第二胶层62进行曝光显影,使其得到下凹程度更大的承托部622;

又例如:参考附图9,所述第二胶层62的涂覆厚度较大时,使得所述第二胶层62突出于所述凹槽5,为了增大所述悬置部612的冗余量,本实施例中对所述凹槽5外的第二胶层62进行曝光显影(此过程中,若所述第二胶层62与所述层间介质层7同层设置,则所述凹槽5外的所述第二胶层62不可完全去除,相反则可以完全去除),使其得到上凸程度更大的承托部622。

202、于所述承托部622背离所述TFT基板1的一侧制备第一胶层61;

具体的,在所述第二胶层62背离所述衬底基板12的一侧涂覆所述第一胶层61,所述第一胶层61为负性光刻胶,通过曝光显影使得所述第一胶层61固化成型,下述将对应上述步骤201中的两个例子进行详细说明:

参考附图7,在所述第二胶层62背离所述衬底基板12的一侧涂覆所述第一胶层61,所述第一胶层61为正性光刻胶,对其进行曝光显影,使其固化在所述第二胶层62上,进而在所述凹槽5内形成与所述承托部622同形状即下凹的悬置部612;

在所述第二胶层62背离所述衬底基板12的一侧涂覆所述第一胶层61,所述第一胶层61为正性光刻胶,对其进行曝光显影,使其固化在所述第二胶层62上,进而在所述凹槽5外形成与所述承托部622同形状即上凸的悬置部612。

203、去除所述承托部622,形成所述搭接桥6;

具体的,所述第一胶层61在所述第二胶层62上固化成型后则需要将所述承托部622去除,形成最终完整的所述搭接桥6,去除方式则是加大曝光量对所述凹槽5内的所述承托部622(第二胶层62)进行曝光显影,由于所述第二胶层62是正性光刻胶,因而其会被溶解掉,下述将对应上述步骤201中的两个例子进行详细说明:

参考附图7,再次对所述凹槽5内进行加大曝光量的曝光,使得所述凹槽5内的下凹的所述承托部622溶解,只将下凹的所述悬置部612保留在所述凹槽5内,最终形成图8所示的下凹的所述搭接桥6;

参考附图9,再次对所述凹槽5内进行加大曝光量的曝光,使得所述凹槽5内的上凸的所述承托部622溶解,只将上凸的所述悬置部612保留在所述凹槽5处,最终形成图10所示的下凹的所述搭接桥6。

以上所述,仅为本申请的具体实施方式,但本申请的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此,本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

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