阅读说明：本技术 一种显示面板、其制作方法及显示装置 (Display panel, manufacturing method thereof and display device ) 是由 张扬 闫梁臣 周斌 刘军 李伟 宋嘉文 潘洋 王轩昂 冯波 于 2019-11-19 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：衬底基板，位于衬底基板之上驱动电路，以及位于驱动电路背离衬底基板一侧的平坦层，位于平坦层背离衬底基板一侧的像素界定层；平坦层在背离衬底基板的一侧具有凹槽，部分像素界定层位于凹槽内；凹槽在衬底基板上的正投影位于像素界定层的图形在衬底基板上的正投影的范围内。本发明实施例提供的上述显示面板中，通过在平坦层背离衬底基板的一侧设置凹槽，并且部分像素界定层位于凹槽内，从而增大了像素界定层与平坦层之间的接触面积，防止像素界定层脱落。(The invention discloses a display panel, a manufacturing method thereof and a display device, wherein the display panel comprises: the pixel structure comprises a substrate base plate, a driving circuit, a flat layer and a pixel defining layer, wherein the driving circuit is positioned on the substrate base plate; the flat layer is provided with a groove at one side far away from the substrate, and part of the pixel defining layer is positioned in the groove; the orthographic projection of the groove on the substrate base plate is positioned in the range of the orthographic projection of the pattern of the pixel defining layer on the substrate base plate. In the display panel provided by the embodiment of the invention, the groove is arranged on one side of the flat layer, which is far away from the substrate, and part of the pixel defining layer is positioned in the groove, so that the contact area between the pixel defining layer and the flat layer is increased, and the pixel defining layer is prevented from falling off.)

一种显示面板、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。

背景技术

由于有机电致发光显示器(Organic Light-Emitting Diode，OLED)具有自发光，对比度高，响应速度快，可实现柔性显示，工艺简单等优点，因而有机电致发光显示器逐渐成为显示行业发展主流。目前，OLED显示器中的有机电致发光层具有蒸镀法和喷墨打印法两种制作方法，其中，喷墨打印法适用于大分子发光材料和小分子发光材料，材料利用率高，设备成本低，高产能，更易于大规模、大尺寸产品的生产。

然而，为了达到较好的显示效果，需要在像素区域内形成厚度均一的发光层，这就需要像素区域的具有非常好的平坦度，为了提高其平坦度，在发光层的下方设置一层平坦层。而平坦层一般采用极性较高的有机硅氧烷树脂材料制作，另外，在平坦层上方还会设置像素界定层，用以界定像素区域和防止墨水向四周溢出，像素界定层的材料一般为极性较小的含氟材料，由于像素界定层与平坦层之间的极性相差较大，造成像素界定层与平坦层之间的粘附力不足，容易导致像素界定层发生脱落，影响显示品质。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的由于像素界定层与平坦层之间的粘附力不足容易导致像素界定层发生脱落的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上驱动电路，以及位于所述驱动电路背离所述衬底基板一侧的平坦层，位于所述平坦层背离所述衬底基板一侧的像素界定层；

所述平坦层在背离所述衬底基板的一侧具有凹槽，部分所述像素界定层位于所述凹槽内；

所述凹槽在所述衬底基板上的正投影位于所述像素界定层的图形在所述衬底基板上的正投影的范围内。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：位于所述平坦层与所述像素界定层之间的多个第一电极；

所述凹槽在所述衬底基板上的正投影与所述第一电极在所述衬底基板上的正投影互不交叠。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述凹槽在所述衬底基板上的正投影围绕所述第一电极在所述衬底基板上的正投影。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，围绕同一个所述第一电极设置至少两个所述凹槽。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，每一个所述第一电极均被所述凹槽围绕。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：位于所述驱动电路与所述平坦层之间的钝化层，以及多个贯穿所述平坦层和所述钝化层的通孔；

所述第一电极通过所述通孔与所述驱动电路电连接；

所述通孔在所述衬底基板上的正投影与所述凹槽在所述衬底基板上的正投影互不交叠。

第二方面，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成驱动电路中的各膜层；

在所述驱动电路之上形成平坦层，并对所述平坦层进行图形化，以形成所述平坦层背离所述衬底基板一侧的凹槽；

在所述平坦层之上形成像素界定层的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在所述在所述驱动电路之上形成平坦层之前，还包括：

在所述驱动电路之上形成钝化层；

所述对所述平坦层进行图形化，包括：

采用同一构图工艺形成所述凹槽及贯穿所述平坦层和所述钝化层的通孔。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在所述在所述驱动电路之上形成平坦层之前，还包括：

在所述驱动电路之上形成钝化层；

所述对所述平坦层进行图形化，包括：

在所述平坦层之上形成光刻胶层；

采用半色调掩膜版对所述光刻胶层进行曝光，以形成第一过孔和第一凹坑；所述第一过孔对应于将要形成的贯穿所述平坦层和所述钝化层的通孔的位置，所述第一凹坑对应于将要形成的所述平坦层中的凹槽的位置；

对所述平坦层和所述钝化层进行刻蚀，形成贯穿所述平坦层和部分所述钝化层的第二凹坑；

对所述光刻胶层进行灰化处理，以在所述第一凹坑的位置处形成第二过孔；

采用同一次构图工艺，对所述平坦层进行刻蚀形成所述凹槽，以及对所述钝化层进行刻蚀形成贯穿所述平坦层和所述钝化层的通孔。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：衬底基板，位于衬底基板之上驱动电路，以及位于驱动电路背离衬底基板一侧的平坦层，位于平坦层背离衬底基板一侧的像素界定层；平坦层在背离衬底基板的一侧具有凹槽，部分像素界定层位于凹槽内；凹槽在衬底基板上的正投影位于像素界定层的图形在衬底基板上的正投影的范围内。本发明实施例提供的上述显示面板中，通过在平坦层背离衬底基板的一侧设置凹槽，并且部分像素界定层位于凹槽内，从而增大了像素界定层与平坦层之间的接触面积，防止像素界定层脱落。

附图说明

图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图；

图2为图1中虚线L处的截面示意图；

图3至图7为在形成像素界定层之前的显示面板的俯视结构示意图；

图8为本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法流程图之一；

图9a至图9d分别为本发明实施例中上述制作方法中各步骤的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法流程图之二；

图11a至图11d分别为本发明实施例中上述制作方法中各步骤的结构示意图。

具体实施方式

针对现有技术中存在的由于像素界定层与平坦层之间的粘附力不足容易导致像素界定层发生脱落的问题，本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。

下面结合附图，对本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图，图2为图1中虚线L处的截面示意图，如图1和图2所示，包括：衬底基板101，位于衬底基板101之上驱动电路102，以及位于驱动电路102背离衬底基板101一侧的平坦层103，位于平坦层103背离衬底基板101一侧的像素界定层104；

平坦层103在背离衬底基板101的一侧具有凹槽U，部分像素界定层104位于凹槽U内；

凹槽U在衬底基板101上的正投影位于像素界定层104的图形在衬底基板101上的正投影的范围内。

本发明实施例提供的上述显示面板中，通过在平坦层背离衬底基板的一侧设置凹槽，并且部分像素界定层位于凹槽内，从而增大了像素界定层与平坦层之间的接触面积，防止像素界定层脱落。

本发明实施例提供的显示面板可以为有机电致发光(OLED)显示面板，因而，本发明实施例中的显示面板除了可以实现常规的显示功能，还可以实现柔性、可弯曲或可折叠的显示面板。

上述显示面板可以包括多个像素单元，本发明实施例中的各附图中仅以一个完整的像素单元为例进行示意，在具体实施时，可以根据实际需求设置像素单元的数量，此处不做限定。

为了实现画面显示，上述显示面板，还可以包括：位于平坦层103与像素界定层104之间的多个第一电极105，位于像素界定层104背离衬底基板101一侧的第二电极(图中未示出)，以及位于第一电极105与第二电极之间的有机电致发光层(图中未示出)。在本发明实施例中，以第一电极为阳极，第二电极为阴极为例进行说明，在实际应用中，也可以设置为第一电极为阴极第二电极为阳极。

像素界定层104可以限定像素单元的开口区域，具体地，像素界定层104包括多个贯穿像素界定层104的开口T，像素界定层104需要具有一定的厚度，以使开口T内能够容置有机电致发光层。第一电极105可以为块状，每一个像素对应于一个第一电极和一个开口T，第二电极可以为整层设置，在具体实施时，可以通过分别向第一电极105和第二电极施加电信号，在电场的作用下，第一电极产生的空穴和第二电极产生的电子发生移动，使空穴和电子移动至有机电致发光层内相遇而发光。

参照图1和图2，在衬底基板101之上设有驱动电路102，驱动电路102可以包括薄膜晶体管、数据线、栅线等结构，薄膜晶体管包括有源层、栅极、源极以及漏极等结构，像素单元中的第一电极105可以通过与漏极电连接，实现与驱动电路102的电连接，从而可以通过驱动电路102向第一电极105提供驱动信号，以实现分别控制各像素单元发光，实现画面显示。

通过在驱动电路102背离衬底基板101的一侧设置平坦层103，可以对驱动电路102起到平坦化的作用，后续在制作有机电致发光层的工艺过程中，可以形成厚度较为均一的发光层。通过在平坦层103背离衬底基板101一侧的表面设置多个凹槽U，部分像素界定层104位于凹槽U内部，从而增大了平坦层103与像素界定层104之间的接触面积，增加了平坦层103与像素界定层104之间的结合力，避免像素界定层104发生脱落，因而保证了显示面板具有较好的显示效果。

此外，平坦层103中的凹槽U在衬底基板101上的正投影应位于像素界定层104的图形在衬底基板101上的正投影的范围内，从而避免平坦层103中的凹槽U在像素界定层104的开口T处暴露，避免影响形成在开口T内的有机电致发光层的平坦性。在具体实施时，可以将凹槽U设置为开口的尺寸稍小于内部尺寸，从而使后续形成的像素界定层104卡合到平坦层103内，进一步增加平坦层103与像素界定层104之间的结合力。

通过在平坦层103背离衬底基板101的一侧设置凹槽U，增加了平坦层103与像素界定层104之间的结合力，因而，即便平坦层103与像素界定层104之间的极性相差较大，也不容易使像素界定层104脱落，因而，在具体实施时，平坦层103可以采用极性较高的有机硅氧烷树脂材料，从而使平坦层103具有较好的平坦性能。像素界定层104可以采用极性较低的疏液材料，例如可以采用含氟的材料，在喷墨打印工艺制作有机电致发光层的过程中，可以避免喷墨容易在像素界定层104的图形之上铺展污染相邻的像素单元，从而避免串色。

在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图1和图2所示，还可以包括：位于平坦层103与像素界定层104之间的多个第一电极105；

凹槽U在衬底基板101上的正投影与第一电极105在衬底基板101上的正投影互不交叠。

如图1所示，像素界定层104中开口T在衬底基板上的正投影位于第一电极105在衬底基板上的正投影的范围内，因而，将凹槽U的位置避开第一电极105的位置，可以使凹槽U的位置避开像素界定层104中开口T的位置，避免凹槽U形成在像素单元的开口区域内，以保证凹槽U不会影响有机电致发光层的平坦性，保证显示面板具有较好的显示效果。

为了更清楚的示意凹槽U的位置和形状，图3至图7示出了在形成像素界定层之前的显示面板的俯视结构示意图，像素界定层的图形的形状可参照图1所示的显示面板的俯视结构示意图。

在实际应用中，如图3所示，本发明实施例提供的上述显示面板中，凹槽U在衬底基板上的正投影围绕第一电极105在衬底基板上的正投影。

凹槽U围绕第一电极105呈环状结构，从而在第一电极105周围均增加了像素界定层与平坦层103之间的接触面积，从而使像素界定层与平坦层103之间的结合力较大，使像素界定层不容易脱落。

进一步地，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图4所示，围绕同一个第一电极105设置至少两个凹槽U。

通过在第一电极105周围设置至少两圈凹槽U，可以进一步增加像素界定层与平坦层103之间的接触面积，进一步增大像素界定层与平坦层103之间的结合力，使像素界定层更不容易脱落。图4中仅以第一电极105的周围设置两圈凹槽U为例进行示意，在空间允许的情况下，在第一电极105的周围也可以设置三圈或更多圈凹槽U，此处不对凹槽U的数量进行限定。

在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，每一个第一电极均被凹槽围绕。在每一个第一电极的周围均设置凹槽，可以进一步增大像素界定层与平坦层之间的接触面积，进一步增大像素界定层与平坦层之间的结合力，并且可以使凹槽在显示面板中分布较均匀，使像素界定层与平坦层之间的结合力分布较均匀，使像素界定层更不容易脱落。

在实际应用中，可以在各第一电极的周围设置的凹槽的圈数相同，或者也可以在容易发生脱落的区域中的第一电极周围设置的凹槽的圈数较多，可以根据实际需要来设置凹槽的数量，此处不对凹槽的数量和分布进行限定。

此外，也可以将凹槽在衬底基板上的正投影设置为半包围第一电极在衬底基板上的正投影，如图5所示，凹槽U可以设置为在上、下、左三侧包围第一电极105，或者，如图6所示，凹槽U也可以设置为仅在两侧包围第一电极105，而呈“L”型，图5和图6仅以凹槽半包围第一电极的两种情况进行示意，在具体实施时，可根据实际情况和空间大小来设置凹槽的形状，此处不做限定。

另外，如图7所示，凹槽U也可以设置为位于第一电极105一侧的条状结构，凹槽的长度可以根据实际情况和空间大小来设置，此处不做限定。

图3至图7中均以凹槽位于第一电极的边缘处为例进行示意，在实际应用中，第一电极与凹槽之间也可具有一定的间距，此处不做限定。

具体地，为了保证凹槽能够有效的增大像素界定层与平坦层之间的结合力，可以将凹槽的宽度设置为在0.5～5um的范围内，深度可以设置为在0.1～4um的范围内。

在实际应用中，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图1和图2所示，还可以包括：位于驱动电路102与平坦层103之间的钝化层106，以及多个贯穿平坦层103和钝化层106的通孔V；

第一电极105通过通孔V与驱动电路102电连接；

通孔V在衬底基板101上的正投影与凹槽U在衬底基板101上的正投影互不交叠。

第一电极105可以通过通孔V与驱动电路102实现电连接，具体地，第一电极105可以通过通孔V与薄膜晶体管的漏极电连接，从而可以通过驱动电路102向第一电极105提供驱动信号，以实现分别控制各像素单元发光，实现画面显示。

将凹槽U设置为避开通孔V的位置，可以避免通孔V影响像素界定层与平坦层之间的接触，也可以避免凹槽U影响第一电极105与驱动电路102之间的电连接。

第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法。由于该制作方法解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该制作方法的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法，如图8所示，包括：

S201、在衬底基板上形成驱动电路中的各膜层；

S202、在驱动电路之上形成平坦层，并对平坦层进行图形化，以形成平坦层背离衬底基板一侧的凹槽；

S203、在平坦层之上形成像素界定层的图形。

本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法，通过对平坦层进行图形化，以形成平坦层背离衬底基板一侧的凹槽，可以使后续形成的部分像素界定层嵌入到凹槽内，从而增大像素界定层与平坦层之间的接触面积，增大像素界定层与平坦层之间的结合力，从而有效防止像素界定层脱落。

在上述步骤S201中，参照图9a，在基板101之上形成驱动电路102中的各膜层，驱动电路中一般包括多个薄膜晶体管和多条信号线，为了避免信号线之间的相互影响，在相邻层的信号线之间还会包括绝缘层，因而驱动电路的制作工艺包括制作多层金属层的图形及多层绝缘层。

具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，在上述步骤S202之前，还可以包括：

参照图9a，在驱动电路102之上形成钝化层106；

上述步骤S202可以具有多种实现方式，以下以两种具体实现方式为例进行说明。

实现方式一：

上述步骤S202中，对平坦层进行图形化，包括：

采用同一构图工艺形成凹槽及贯穿平坦层和钝化层的通孔。将凹槽和通孔采用同一构图工艺制作，可以节省一道掩膜版，并且可以节省一次制作工艺，从而节约了制作成本。

具体地，如图9b所示，在平坦层103之上涂布一层光刻胶层107，并对光刻胶层107进行曝光显影工艺后，在光刻胶层107中形成对应于凹槽和通孔的过孔，如图9c所示，采用干刻工艺对平坦层103和钝化层106进行刻蚀，以形成贯穿平坦层103和钝化层106的通孔V及平坦层103表面的凹槽U，剥离光刻胶层后得到图9c所示的结构，由于凹槽U和通孔V采用同一次工艺制作，因而实现方式一中得到的凹槽U和通孔V的深度大致相同。

如图9d所示，在上述步骤S202之后，上述步骤S203之前，还可以包括：在平坦层103之上形成多个第一电极105，具体地，可以先沉积一层金属层，然后采用构图工艺形成多个第一电极105，使各第一电极105通过通孔V与驱动电路102实现电连接。

实现方式二：

如图10所示，上述步骤S202中，对平坦层进行图形化，包括：

S301、参照图11a，在平坦层103之上形成光刻胶层107；

S302、参照图11b，采用半色调掩膜版(half tone mask)对光刻胶层107进行曝光，以形成第一过孔W1和第一凹坑R1；第一过孔W1对应于将要形成的贯穿平坦层103和钝化层106的通孔V的位置，第一凹坑R1对应于将要形成的平坦层103中的凹槽U的位置；

通过采用半色调掩膜版，可以设置对应于通孔V和凹槽U的区域的透过率不同，因而在采用紫外光对光刻胶层107进行曝光时，可以使光刻胶层107在对应于通孔V和凹槽U的区域的曝光程度不同，从而可以在对应于通孔V的位置形成第一过孔W1，在对应于凹槽U的位置形成第一凹坑R1。

S303、参照图11c，对平坦层103和钝化层106进行刻蚀，形成贯穿平坦层103和部分钝化层106的第二凹坑R2；也就是说，在步骤S303中并没有将钝化层106刻穿，而是通过保护一部分钝化层，以便后续步骤中保护驱动电路102的图形，避免后续步骤对驱动电路102的图形造成损伤。

在步骤S303中仅对第一过孔W1处的平坦层103和部分钝化层106进行刻蚀，从而可以通过调节步骤S303中刻蚀工艺的参数，调节形成的第二凹坑R2的深度。

在实际工艺过程中，需要控制步骤S303中干刻工艺的干刻气体比例和干刻时间，以保证第一凹坑R1位置处的光刻胶层107不被损伤而刻穿，从而保证在步骤S303中仅对第一过孔W1处的平坦层103和部分钝化层106进行刻蚀。

S304、参照图11d，对光刻胶层107进行灰化处理，以在第一凹坑R1的位置处形成第二过孔W2；具体地，可以采用干刻设备对光刻胶层107进行灰化处理，以使光刻胶层107整体减薄，从而在第一凹坑R1的位置处形成第二过孔W2，在实际工艺过程中，可以采用氧气对光刻胶层107进行灰化处理。由于在对应于第一过孔W1的位置处并没有把钝化层106刻穿，因而在灰化处理过程中并不会损伤钝化层106下方的驱动电路102。

S305、采用同一次构图工艺，对平坦层103进行刻蚀形成凹槽，以及对钝化层106进行刻蚀形成贯穿平坦层103和钝化层106的通孔V，去除光刻胶层后可得到如图9c所示的结构。

在实现方式二中，在步骤S302中先曝光形成对应于将要形成的通孔V的第一过孔W1，以便在步骤S303中先在第一过孔W1的位置处刻蚀平坦层103和部分钝化层106，然后，在步骤S304中，形成对应于将要形成的凹槽U的第二过孔W2，以便在步骤S305中，采用同一工艺形成通孔V和凹槽U，通过采用两次刻蚀工艺形成通孔V，从而可以通过调整步骤S303中刻蚀工艺的参数，来调节第二凹坑R2的深度，从而间接调节凹槽U的深度。

在上述步骤S203中，在平坦层之上形成像素界定层，部分像素界定层嵌入到平坦层表面的凹槽内，从而增加了像素界定层与平坦层之间的结合力，在像素界定层上形成一层光刻胶，对光刻胶进行曝光后，对像素界定层进行刻蚀，以得到像素界定层中的多个开口，且像素界定层中的开口在衬底基板上的正投影与平坦层上的凹槽在衬底基板上的正投影互不交叠，即得到如图2所示的结构。

第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供一种显示装置，包括上述显示面板，该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置中，通过在平坦层背离衬底基板的一侧设置凹槽，并且部分像素界定层位于凹槽内，从而增大了像素界定层与平坦层之间的接触面积，防止像素界定层脱落。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。