阅读说明：本技术 显示面板及其制备方法 (Display panel and preparation method thereof ) 是由 张鑫 冼志科 李吉 于 2020-06-08 设计创作，主要内容包括：本申请提供一种显示面板及其制备方法,显示面板包括基板、薄膜晶体管层、反射层和迷你发光二极管,薄膜晶体管层设置于基板上,反射层由一第一分层、若干第二分层和若干第三分层组成,第一分层采用第一种折射率材料形成,若干第二分层采用第二种折射率材料形成,若干第三分层采用第三种折射率材料形成,反射层具有通孔,通孔暴露薄膜晶体管层,迷你发光二极管设置于通孔中,以电连接薄膜晶体管层。通过两种不同的折射率材料交替层叠设置形成反射层,提高了迷你发光二极管的光利用率,并降低了功率消耗,进而提高了显示面板的性能。(The application provides a display panel and a preparation method thereof, the display panel comprises a substrate, a thin film transistor layer, a reflecting layer and mini light-emitting diodes, the thin film transistor layer is arranged on the substrate, the reflecting layer is composed of a first layering, a plurality of second layering and a plurality of third layering, the first layering is formed by adopting a first refractive index material, the second layering is formed by adopting a second refractive index material, the third layering is formed by adopting a third refractive index material, the reflecting layer is provided with a through hole, the through hole exposes the thin film transistor layer, the mini light-emitting diodes are arranged in the through hole, and the thin film transistor layer is electrically connected. The reflecting layer is formed by alternately laminating two different refractive index materials, so that the light utilization rate of the mini light-emitting diode is improved, the power consumption is reduced, and the performance of the display panel is improved.)

显示面板及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

在现有技术中，作为液晶显示器的背光，为提高发光二极管的光利用率，通常采用将反射膜贴在发光二极管基板上，使其将发光二极管出射的光及其上方扩散膜反射回来的光重新反射到液晶显示器中，但，贴附的反射膜的厚度比较厚，影响发光二极管的光利用率，进而成本增高，并影响显示面板的性能；反射膜的制备工艺与常规晶体管制程不兼容，使得成本增高，并使得产品的生产周期增长。

发明内容

本申请提供一种显示面板及其制备方法，以提高显示面板的性能。

一种显示面板，包括：

基板；

薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设置于所述基板上；

反射层，所述反射层由一第一分层、若干第二分层和若干第三分层组成，所述第一分层设置于所述薄膜晶体管层上，若干所述第二分层和若干所述第三分层依次交替层叠设置于所述第一分层上，所述第一分层采用第一种折射率材料形成，若干所述第二分层采用第二种折射率材料形成，若干所述第三分层采用第三种折射率材料形成，所述反射层具有通孔，所述通孔暴露所述薄膜晶体管层；以及

迷你发光二极管，所述迷你发光二极管设置于所述通孔中，以电连接所述薄膜晶体管层。

在本申请所提供的显示面板中，所述第一种折射率的折射率材料的折射率小于所述第二种折射率材料的折射率，所述第三种折射率材料的折射率小于所述第一种折射率材料的折射率。

在本申请所提供的显示面板中，所述第一种折射率材料的折射率为1.90-2.11，所述第二种折射率材料的折射率为2.2-4.6，所述第三种折射率材料的折射率为1.35-1.55。

在本申请所提供的显示面板中，所述第一分层的厚度为45纳米-54纳米，所述第二分层的厚度为15纳米-25纳米，所述第三分层的厚度为100纳米-130纳米。

在本申请所提供的显示面板中，所述第一种折射率材料为SiNx，所述第二种折射率材料包括SiO₂和MgF中的一种或两种组合，所述第三种折射率材料包括ZnS、TiO₂和Si中的一种或几种组合。

本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：

基板；

在所述基板上形成薄膜晶体管层；

在所述薄膜晶体管层上设置第一种折射率材料，形成第一分层；

在所述第一分层上依次交替层叠设置第二种折射率材料和第三种折射率材料形成若干第二分层和若干第三分层，所述第一分层、若干所述第二分层和所述第三分层成反射层；

对所述反射层进行蚀刻形成通孔，所述通孔暴露所述薄膜晶体管层；

在所述通孔中设置迷你发光二极管，以电连接所述薄膜晶体管层。

在本申请所提供显示面板的制备方法中，所述第一种折射率材料的折射率小于所述第二种折射率材料的折射率，所述第三种折射率材料的折射率小于所述第一种折射率材料的折射率。

在本申请所提供显示面板的制备方法中，所述第一种折射率材料的折射率为1.90-2.11，所述第二种折射率材料的折射率为2.2-4.6，所述第三种折射率材料的折射率为1.35-1.55。

在本申请所提供显示面板的制备方法中，所述第一分层的厚度为45纳米-54纳米，所述第二分层的厚度为15纳米-25纳米，所述第三分层的厚度为100纳米-130纳米。

在本申请所提供显示面板的制备方法中，所述第一种折射率材料为SiNx，所述第二种折射率材料包括SiO₂和MgF中的一种或两种组合，所述第三种折射率材料包括ZnS、TiO₂和Si中的一种或几种组合。

本申请提供一种显示面板及其制备方法，所述显示面板包括基板、薄膜晶体管层、反射层和迷你发光二极管，所述薄膜晶体管层设置于所述基板上，所述反射层由一第一分层、若干第二分层和若干第三分层组成，所述第一分层设置于所述薄膜晶体管层上，若干所述第二分层和若干所述第三分层依次交替层叠设置于所述第一分层上，所述第一分层采用第一种折射率材料形成，若干所述第二分层采用第二种折射率材料形成，若干所述第三分层采用第三种折射率材料形成，所述反射层具有通孔，所述通孔暴露所述薄膜晶体管层，所述迷你发光二极管设置于所述通孔中，以电连接所述薄膜晶体管层。在本申请中，若干所述第二分层和若干所述第三分层交替层叠设置于所述第一分层上形成反射层，若干所述第一分层由第一种折射率材料形成，若干所述第二分层由第二种折射率材料形成，若干所述第三分层由第三种折射率材料形成，所述反射层采用高折射率分层设置在低折射率分层两侧，提高了迷你发光二极管的光利用率，并降低了功率消耗，进而提高了显示面板的性能。

附图说明

为了更清楚地说明本申请中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请所提供的显示面板的剖视图。

图2为本申请所提供的薄膜晶体管的结构剖视图。

图3为本申请所提供的反射层结构及其光线反射路径示意图。

图4为本申请提供的反射层的反射曲线示意图。

图5为本申请所提供的另一种反射层结构及其光线反射路径示意图。

图6为本申请提供的显示面板的制备方法的流程剖视图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护的范围。

本申请提供一种显示面板。请参阅图1，图1为本申请所提供的显示面板的剖视图。所述显示面板10包括基板100、薄膜晶体管层200、反射层300和迷你发光二极管400。

基板100，所述基板100可以为玻璃基板。

请参阅图2，图2为本申请所提供的薄膜晶体管的结构剖视图。所述薄膜晶体管层200设置于所述基板100上。所述薄膜晶体管层200包括薄膜晶体管210，所述薄膜晶体管210包括栅极201、第一保护层202、栅极绝缘203、有源层204、源极205、漏极206和第二保护层207。所述第一保护层202覆盖所述栅极201。所述栅极201的材料包括Mo、Al、Ti、In和Ga中的一种或几种组合。所述栅极绝缘层203设置于所述第一保护层202上。所述栅极绝缘层203的材料包括Al₂O₃、SiOx和SiN_X中的一种或几种组合。所述有源层设204置于所述栅极绝缘层203上。所述有源层204的材料包括非晶硅。所述源极205设置于所述栅极绝缘层203的一端及所述有源层204的一端。所述漏极206设置于所述栅极绝缘层203的另一端及所述有源层204的另一端。所述源极205与所述漏极206相互绝缘。所述第二保护层207覆盖所述源极205、所述漏极206及所述栅极绝缘层203。所述第二保护层207用于保护所述薄膜晶体管210中的结构，避免其他结构或水氧对所述薄膜晶体管层200的影响。所述薄膜晶体管210除图2中所示出的结构外，还包括其他结构，此处不一一列出。

请参阅图3，图3为本申请所提供的反射层结构及其光线反射路径示意图。反射层300，所述反射层300设置于所述薄膜晶体管层200上。所述反射层300包括一第一分层310、若干第二分层320和若干第三分层330。所述第一分层310设置于所述薄膜晶体管层200上。若干所述第二分层320和若干所述第三分层303交替层叠设置于所述第一分层310上。在本实施例中，所述反射层具有4层分层的结构。即，在所述第一分层上由两种不同折射率的材料依次交替层叠形成反射层。具体地，在所述第一分层310上依次层叠设置第二分层320、第三分层330和第四分层340。所述第一分层310、所述第二分层320、所述第三分层330和所述第四分层340组成反射层300。所述反射层300为分布式布拉格反射层。所述第一分层310采用第一种折射率材料形成。所述第一种折射材料为高折射率材料。所述第二分层320和所述第四分层340采用第二种折射率材料形成。所述第二种折射率材料为高折射率材料。所述第二种折射率的折射率材料大于所述第一种折射率材料的折射率。所述第三分层330采用第三种折射率材料形成。所述第三种折射率材料为低折射率材料。所述第三种折射率材料的折射率小于所述第一种折射率材料的折射率。所述反射层300具有通孔301。所述通孔301暴露所述薄膜晶体管层200。

请参阅图4，图4为本申请提供的反射层的反射曲线示意图。当光线经过两种不同折射率材料形成的分层的界面时，反射层300将对光线进行反射，由于各层反射回来的光因相位角的改变而进行建设性干涉，然后互相结合在一起，得到强烈的反射光，提高了迷你发光二极管的光利用率，并降低功率的消耗，进而提高了显示面板的性能。在波长400纳米-690纳米之间，所述反射层300对光线的反射达到75％以上，更甚者，在530纳米-590纳米之间，所述反射层300对光线的反射达到80％以上。所述第一分层310除对光线具有反射作用外，还用于保护所述反射层300的结构。

在另一实施例中，所述第一种折射率材料的折射率为1.90-2.11。所述第二种折射率材料的折射率为2.2-4.6。所述第三种折射率材料的折射率为1.35-1.55。

在另一实施例中，所述第一种折射率材料为SiNx。所述第二种折射率材料包括SiO₂和MgF中的一种或两种组合。所述第三种折射率材料包括ZnS、TiO₂和Si中的一种或几种组合。

在另一实施例中，所述第一分层310的厚度为45纳米-54纳米。所述第二分层320和所述第四分层340的厚度为15纳米-25纳米。所述第三分层330的厚度为100纳米-130纳米。

请参阅图5，图5为本申请所提供的另一种反射层结构及其光线反射路径示意图。在另一实施例中，所述第二分层320、所述第三分层330和所述第四分层340形成所述分布式布拉格反射层300。

所述迷你发光二极管500底部设置有一金属膏层400。将带有所述金属膏层400的迷你发光二极管500设置于所述通孔301中以电连接所述薄膜晶体管层200。所述金属层400的材料包括Sn、In、Bi、Cu、Al和Mo中的一种或几种组合。在本实施例中，所述金属膏层500为锡膏层。

在本申请中，将迷你发光二极管设置于一金属膏层上，因金属膏层具有流动性和粘附性，之后将设置于迷你发光二极管的金属膏层固化，进而将迷你发光二极管固定于金属膏层上，将带有金属膏层的迷你发光二极管设置于通孔中，进而将所述迷你发光二极管固定于所述薄膜晶体管层上，避免迷你发光二极管在制备或使用的过程中丢失，影响了显示面板的性能。

本申请提供一种显示面板，在所述显示面板中，将所述反射层的结构设置成由高折射率材料和低折射率材料形成，所述由低折射率形成的分层位于所述由高折射率材料形成的分层之间，使得所述反射层的结构呈现为高-低-高结构，当光线经过反射层时，由于各层反射回来的光因相位角的改变而进行建设性干涉，然后互相结合在一起，得到强烈的反射光，提高了反射层的反射率，提高了迷你发光二极管的光利用率，并降低了功耗，且，所述反射层反射带宽大，可作为白色背光的反射层，同时，所述反射层结构简单，与薄膜晶体管制程兼容性好，成本低，进而提高了显示面板的性能，并降低了显示面板的制备成本。

请参阅图6，图6为本申请提供的显示面板的制备方法的流程剖视图。本申请还提供一种显示面板10的制备方法，包括：

11、在所述基板100上形成薄膜晶体管层200。

提供一基板100。所述基板100可以为玻璃基板。在所述基板100上形成薄膜晶体管层200。所述薄膜晶体管层200包括薄膜晶体管210，所述薄膜晶体管210包括栅极201、第一保护层202、栅极绝缘203、有源层204、源极205、漏极206和第二保护层207。所述第一保护层202覆盖所述栅极201。所述栅极201的材料包括Mo、Al、Ti、In和Ga中的一种或几种组合。所述栅极绝缘层203设置于所述第一保护层202上。所述栅极绝缘层203的材料包括Al₂O₃、SiOx和SiN_X中的一种或几种组合。所述有源层204设置于所述栅极绝缘层203上。所述有源层204的材料包括非晶硅。所述源极205设置于所述栅极绝缘层203的一端及所述有源层204的一端。所述漏极206设置于所述栅极绝缘层203的另一端及所述有源层204的另一端。所述源极205与所述漏极206相互绝缘。所述第二保护层207覆盖所述源极205、所述漏极206及所述栅极绝缘层203。所述第二保护层207用于保护所述薄膜晶体管层200的结构，避免其他结构或水氧对所述薄膜晶体管210中其他结构的影响。所述薄膜晶体管210除图2中所示出的结构外，还包括其他结构，此处不一一列出。

12、在所述薄膜晶体管层200上形成一第一分层310。

在所述薄膜晶体管层200上沉积第一种折射率材料，形成第一分层310。所述第一种折射率材料为高折射率材料。

在另一实施例中，所述第一种折射率材料的折射率为1.90-2.11。

在另一实施例中，所述第一种折射率材料为SiNx。

在另一实施例中，所述第一分层的厚度为45纳米-54纳米。

13、在所述第一分层310上依次交替层叠设置第二分层320和第三分层330。

请参阅图4，图4为本申请所提供的反射层结构及其光线反射路径示意图。在所述第一分层310上交替层叠设置第二种折射率材料和第三种折射率材料形成若干第二分层320和若干第三分层330。具体地，在所述第一分层310上一层叠设置第二种折射率材料、第三种折射率材料和第二种折射率材料，形成第二分层320、第三分层330和第四分层340。所述第一分层310、第二分层320、第三分层330和所述第四分层形成反射层300。所述反射层300为分布式布拉格反射层，所述分布式布拉格反射层是当光经过不同介质时在界面的地方会反射的一种结构。所述第二分层320与所述第四分层340的材料为同一材料。所述第二种折射率材料为高折射率材料。所述第三种折射率材料为低折射率材料。所述第一种折射率材料的折射率小于所述第二种折射率材料的折射率。所述第三种折射率材料的折射率小于所述第一种折射率材料的折射率。

在另一实施例中，所述第二种折射率材料的折射率为2.2-4.6。所述第三种折射率材料的折射率为1.35-1.55。

在另一实施例中，所述第二种折射率材料包括SiO₂和MgF中的一种或两种组合。所述第三种折射率材料包括ZnS、TiO₂和Si中的一种或几种组合。

在另一实施例中，所述第二分层320和所述第四分层340的厚度为15纳米-25纳米。所述第三分层330的厚度为100纳米-130纳米。

在本申请中，所述显示面板的反射层的结构采用高折射率材料和低折射率材料形成，呈现出的分层结构为由高折射率材料形成的分层、由低折射率材料形成的分层及由高折射率材料形成的分层，所述由低折射率材料形成的分层被设置在由所述高折射率材料形成的分层之间，当光线经过反射层时，光线经过不同折射率材料形成的相邻分层时，光线将发生反射，由于各层反射回来的光因相位角的改变而进行建设性干涉，然后互相结合在一起，得到强烈的反射光，反射层对光的反射率提高，将所述迷你发光二极管背光与所述反射层结构结合，进而提高了迷你发光二极管的光利用率，并降低了功耗，且，所述反射层反射带宽大，可作为白色背光的反射层，同时，所述反射层结构简单，与薄膜晶体管制程兼容性好，制备成本低，易于实现，进而提高了显示面板的性能，并降低了显示面板的制备成本。

请参阅图5，图5为本申请所提供的另一种反射层结构及其光线反射路径示意图。在另一实施例中，所述第二分层320、所述第三分层330和所述第四分层340形成所述分布式布拉格反射层300。

14、对所述反射层300进行蚀刻形成通孔301，所述通孔301暴露所述薄膜晶体管层200。

对所述反射层300进行干法蚀刻，形成所述通孔301。对所述反射层300蚀刻成所述通孔301所采用的方法不限制，可根据具体需求采取相应的蚀刻方法。

15、在所述通孔301中设置迷你发光二极管500，以电连接所述薄膜晶体管层200。

所述迷你发光二极管500的底部设置有一金属膏层400。将带有所述金属膏层400的迷你发光二极管500设置于所述通孔301中。所述金属膏层400的材料包括Sn、In、Bi、Cu、Al和Mo中的一种或几种组合。在本实施例中，所述金属膏层400为锡膏层。

在本申请中，将迷你发光二极管设置于一金属膏层上，因金属膏层具有流动性和粘附性，之后将设置于迷你发光二极管的金属膏层固化，进而将迷你发光二极管固定于金属膏层上，将带有金属膏层的迷你发光二极管设置于通孔中，进而将所述迷你发光二极管固定于所述薄膜晶体管层上，避免迷你发光二极管在制备或使用的过程中丢失，影响了显示面板的性能。

本申请提供一种显示面板及其制备方法，在所述显示面板的制备方法中，所述反射层的结构采用高折射率材料和低折射率材料形成，呈现出的分层结构为由高折射率材料形成的分层、由低折射率材料形成的分层、由高折射率材料形成的分层，所述由低折射率材料形成的分层被设置于由所述高折射率材料形成的分层之间，当光线经过反射层时，光线会在两种不同折射率分层的界面上发生反射，且各层反射回来的光因相位角的改变而进行建设性干涉，然后互相结合在一起，得到强烈的反射光，反射层的反射率提高，所述反射层结构简单，与薄膜晶体管制程兼容性好，制备成本低，易于实现，提高了显示面板的制备效率，并降低了显示面板的制备成本。

以上对本申请实施方式提供了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施方式的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。