一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法

文档序号:1307107 发布日期:2020-08-11 浏览:46次 >En<

阅读说明:本技术 一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法 (Processing liquid recovery processing method for thinning liquid crystal display screen ) 是由 肖亮灿 于 2020-04-29 设计创作,主要内容包括:本发明公开一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法,包括以下步骤:废液收集、初步过滤、沉淀反应、萃取反应、回收和处理;本发明通过过滤箱中的过滤网分别对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行初步过滤,通过碱金属盐沉淀剂对玻璃基板减薄刻蚀废液进行化学沉淀,从而得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体,通过萃取剂和反萃剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行铟金属萃取,从而实现玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液的分类回收利用,工艺流程简单快速,处理成本较低,且处理过程中无废物排放,消除了环境污染,为液晶显示屏减薄用处理液回收处理开辟了新的途径,经济和社会效益显著,具有很好的应用前景。(The invention discloses a processing liquid recovery processing method for thinning a liquid crystal display screen, which comprises the following steps: collecting waste liquid, primarily filtering, precipitating, extracting, recovering and treating; the invention respectively carries out preliminary filtration on the glass substrate thinning etching waste liquid and the indium tin oxide etching waste liquid through the filter screen in the filter box, carries out chemical precipitation on the glass substrate thinning etching waste liquid through the alkali metal salt precipitator so as to obtain the fluosilicic acid and the pure acidic liquid for thinning etching, and carries out indium metal extraction on the indium tin oxide etching waste liquid through the extractant and the back extractant so as to realize the classified recycling of the glass substrate thinning etching waste liquid and the indium tin oxide etching waste liquid.)

一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法

技术领域

本发明涉及液晶显示屏加工技术领域,尤其涉及一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法。

背景技术

随着我国信息技术的快速发展,陈旧的电子管显示屏已经被新型的液晶显示屏所取代,清晰不伤眼的液晶显示屏已经成为人们的新宠,为了满足人们对高清画质的视觉体验和对液晶显示屏可以随意移动的要求,液晶显示屏制造厂家不断从各个方便开始对显示屏的减薄工艺进行研发,保证液晶显示屏的清晰度、轻巧性和智能化,目前液晶显示屏的减薄工艺主要分为物理研磨减薄和化学蚀刻减薄,其中化学蚀刻减薄的方法以其特有的优点而被广泛应用;

目前用于液晶显示屏减薄的化学蚀刻法通常直接采用氢氟酸混合物的水溶液对二氧化硅材质的玻璃基板进行蚀刻减薄,并在蚀刻过程中加入硝酸溶液和盐酸溶液控制蚀刻强度和速度,从而精准控制液晶显示屏的薄厚度,蚀刻过程中会产生大量的基板玻璃减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,这些废液若直接排放,在对环境造成污染的同时也浪费了资源,而现有的废液处理方法大都采用石灰中和处置法,但这一方法同样会产生大量的含氟废渣,而含氟废渣作为危险废物也需要专门处理,增了了处理成本,因此,本发明提出一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法以解决现有技术中存在的问题。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于提出一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法,该方法通过过滤箱分别对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行初步过滤,通过碱金属盐沉淀剂对玻璃基板减薄刻蚀废液进行化学沉淀,通过萃取剂和反萃剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行铟金属萃取,从而实现玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液的分类回收利用。

为了实现本发明的目的,本发明通过以下技术方案实现:一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法,包括以下步骤:

步骤一:废液收集

先准备两个收集箱,再将两个收集箱分别与液晶显示屏减薄加工装置的玻璃基板减薄刻蚀液和铟锡氧化物刻蚀液的排出口连通,接着通过两个收集箱分别对液晶显示屏减薄加工过程中产生的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行收集,最后得到待回收处理的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液;

步骤二:初步过滤

根据步骤一,将收集得到的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的过滤箱中进行初次过滤,通过设置在过滤箱内部的过滤网对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液中的油污和杂质进行拦截过滤,再将过滤后的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的反应槽中,得到相对纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液;

步骤三:沉淀反应

根据步骤二,在得到较为纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液后对其进行化学沉淀,先在玻璃基板减薄刻蚀废液反应槽中加入碱金属盐沉淀剂,使玻璃基板减薄刻蚀废液与碱金属盐沉淀剂混合均匀并充分反应一小时,接着将发生反应后玻璃基板减薄刻蚀废液倒入沉淀池并在沉淀池中加入絮凝剂,然后采用高压过滤法对玻璃基板减薄刻蚀废液进行高压过滤,得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体;

步骤四:萃取反应

根据步骤二,在得到较为纯净的铟锡氧化物刻蚀废液后对其进行萃取处理,先在铟锡氧化物刻蚀废液反应槽中加入酸性磷型萃取剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行多级萃取,使铟锡氧化物刻蚀废液中的铟金属转移至有机体系中,接着在铟锡氧化物刻蚀废液加入反萃剂,使铟金属浓缩至反萃剂中;

步骤五:回收和处理

根据步骤三和步骤四,先对得到的氟硅酸进行干燥处理,再将干燥处理得到氟硅酸盐收集,用于制成含氟产品,然后将用于减薄蚀刻的纯净酸性液体加入扩散渗析器进行渗析处理并加入酸组分,得到玻璃基板减薄刻蚀液并进行收集,最后对含有反萃剂的铟锡氧化物刻蚀混合液进行电解精炼,得到铟产品。

进一步改进在于:所述步骤二中,过滤箱中的过滤网为300目钢丝网且与过滤箱可活动安装。

进一步改进在于:所述步骤三中,碱金属盐沉淀剂为氯化钠沉淀剂且与氟硅酸的摩尔计量比为3,絮凝剂为聚合硫酸铝。

进一步改进在于:所述步骤三中,碱金属盐沉淀剂为氯化钾沉淀剂且与氟硅酸的摩尔计量比为2.8,絮凝剂为聚合氯化铝。

进一步改进在于:所述步骤四中,酸性磷型萃取剂为二磷酸酯且浓度为25%,反萃剂为氯化氢,反萃时间为十分钟。

本发明的有益效果为:本发明先通过过滤箱中的过滤网分别对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行初步过滤,从而将玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液中的油污和杂质取出,进而得到相对纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便后续回收处理,再通过碱金属盐沉淀剂对玻璃基板减薄刻蚀废液进行化学沉淀,从而得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体,进而将氟硅酸盐制成含氟产品以备自用和销售,并将纯净酸性液体制成玻璃基板减薄刻蚀液以便循环使用,接着通过酸性磷型萃取剂萃取剂和氯化氢反萃剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行铟金属萃取,并通过点解精炼得到铟产品,以便自用和销售,从而实现玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液的分类回收利用,本方法工艺流程简单快速,处理成本较低,且处理过程中无废物排放,消除了环境污染,为液晶显示屏减薄用处理液回收处理开辟了新的途径,经济和社会效益显著,具有很好的应用前景。

附图说明

图1是本发明的回收处理流程图。

具体实施方式

为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例对本发明做进一步详述,本实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。

实施例一:

根据图1所示,本实施例提供了一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法,包括以下步骤:

步骤一:废液收集

先准备两个收集箱,再将两个收集箱分别与液晶显示屏减薄加工装置的玻璃基板减薄刻蚀液和铟锡氧化物刻蚀液的排出口连通,接着通过两个收集箱分别对液晶显示屏减薄加工过程中产生的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行收集,最后得到待回收处理的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便对二者进行分类处理;

步骤二:初步过滤

根据步骤一,将收集得到的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的过滤箱中进行初次过滤,通过与过滤箱活动连接的300目钢丝过滤网对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液中的油污和杂质进行拦截过滤,再将过滤后的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的反应槽中,得到相对纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便后续的回收处理;

步骤三:沉淀反应

根据步骤二,在得到较为纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液后对其进行化学沉淀,先在玻璃基板减薄刻蚀废液反应槽中加入与氟硅酸的摩尔计量比为3的氯化钠沉淀剂,使玻璃基板减薄刻蚀废液与氯化钠沉淀剂混合均匀并充分反应一小时,接着将发生反应后玻璃基板减薄刻蚀废液倒入沉淀池并在沉淀池中加入硫酸铝絮凝剂,然后采用高压过滤法对玻璃基板减薄刻蚀废液进行高压过滤,得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体;

步骤四:萃取反应

根据步骤二,在得到较为纯净的铟锡氧化物刻蚀废液后对其进行萃取处理,先在铟锡氧化物刻蚀废液反应槽中加入25%浓度的二磷酸酯萃取剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行多级萃取,使铟锡氧化物刻蚀废液中的铟金属转移至有机体系中,接着在铟锡氧化物刻蚀废液加入氯化氢反萃剂并反萃十分钟,使铟金属浓缩至反萃剂中;

步骤五:回收和处理

根据步骤三和步骤四,先对得到的氟硅酸进行干燥处理,再将干燥处理得到氟硅酸盐收集,用于制成含氟产品,以备自用和销售,然后将用于减薄蚀刻的纯净酸性液体加入扩散渗析器进行渗析处理并加入酸组分,得到玻璃基板减薄刻蚀液并进行收集,实现了玻璃基板减薄刻蚀液的循环使用,最后对含有反萃剂的铟锡氧化物刻蚀混合液进行电解精炼,得到铟产品,以备自用和销售,带来经济效益。

实施例二:

根据图1所示,本实施例提供了一种用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法,包括以下步骤:

步骤一:废液收集

先准备两个收集箱,再将两个收集箱分别与液晶显示屏减薄加工装置的玻璃基板减薄刻蚀液和铟锡氧化物刻蚀液的排出口连通,接着通过两个收集箱分别对液晶显示屏减薄加工过程中产生的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行收集,最后得到待回收处理的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便对二者进行分类处理;

步骤二:初步过滤

根据步骤一,将收集得到的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的过滤箱中进行初次过滤,通过与过滤箱活动连接的300目钢丝过滤网对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液中的油污和杂质进行拦截过滤,再将过滤后的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液分别倒入不同的反应槽中,得到相对纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便后续的回收处理;

步骤三:沉淀反应

根据步骤二,在得到较为纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液后对其进行化学沉淀,先在玻璃基板减薄刻蚀废液反应槽中加入与氟硅酸的摩尔计量比为2.8的氯化钾沉淀剂,使玻璃基板减薄刻蚀废液与氯化钾沉淀剂混合均匀并充分反应一小时,接着将发生反应后玻璃基板减薄刻蚀废液倒入沉淀池并在沉淀池中加入聚合氯化铝絮凝剂,然后采用高压过滤法对玻璃基板减薄刻蚀废液进行高压过滤,得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体;

步骤四:萃取反应

根据步骤二,在得到较为纯净的铟锡氧化物刻蚀废液后对其进行萃取处理,先在铟锡氧化物刻蚀废液反应槽中加入25%浓度的二磷酸酯萃取剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行多级萃取,使铟锡氧化物刻蚀废液中的铟金属转移至有机体系中,接着在铟锡氧化物刻蚀废液加入氯化氢反萃剂并反萃十分钟,使铟金属浓缩至反萃剂中;

步骤五:回收和处理

根据步骤三和步骤四,先对得到的氟硅酸进行干燥处理,再将干燥处理得到氟硅酸盐收集,用于制成含氟产品,以备自用和销售,然后将用于减薄蚀刻的纯净酸性液体加入扩散渗析器进行渗析处理并加入酸组分,得到玻璃基板减薄刻蚀液并进行收集,实现了玻璃基板减薄刻蚀液的循环使用,最后对含有反萃剂的铟锡氧化物刻蚀混合液进行电解精炼,得到铟产品,以备自用和销售,带来经济效益。

该用于液晶显示屏减薄的处理液回收处理方法先通过过滤箱中的过滤网分别对玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液进行初步过滤,从而将玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液中的油污和杂质取出,进而得到相对纯净的玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液,以便后续回收处理,再通过碱金属盐沉淀剂对玻璃基板减薄刻蚀废液进行化学沉淀,从而得到氟硅酸和用于减薄蚀刻的纯净酸性液体,进而将氟硅酸盐制成含氟产品以备自用和销售,并将纯净酸性液体制成玻璃基板减薄刻蚀液以便循环使用,接着通过酸性磷型萃取剂萃取剂和氯化氢反萃剂对铟锡氧化物刻蚀废液进行铟金属萃取,并通过点解精炼得到铟产品,以便自用和销售,从而实现玻璃基板减薄刻蚀废液和铟锡氧化物刻蚀废液的分类回收利用,本方法工艺流程简单快速,处理成本较低,且处理过程中无废物排放,消除了环境污染,为液晶显示屏减薄用处理液回收处理开辟了新的途径,经济和社会效益显著,具有很好的应用前景。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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