阅读说明：本技术 一种蒸发源和蒸镀装置 (Evaporation source and evaporation device ) 是由 刘全宝 王宝 毋炳辉 史治化 高松 邱林林 于 2020-06-29 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种蒸发源和蒸镀装置,包括循环冷却通道,所述循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道和内部循环冷却通道,所述隔热腔室循环冷却通道设置于所述隔热壁内,所述内部循环冷却通道设置于所述隔热腔室内部,本发明利用冷却介质直接对蒸发源进行降温,以使得蒸发源能够在短时间内即可达到所需温度,提高设备生产稼动率,提高生产效率；另外,本发明通过在隔热壁内及隔热腔室内部均设置循环冷却通道,可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙,利用隔热壁内及隔热腔室内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温,从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间,进一步提高生产效率。(The invention provides an evaporation source and an evaporation device, which comprise a circulating cooling channel, wherein the circulating cooling channel comprises a heat-insulating cavity circulating cooling channel and an internal circulating cooling channel, the heat-insulating cavity circulating cooling channel is arranged in a heat-insulating wall, and the internal circulating cooling channel is arranged in the heat-insulating cavity; in addition, the circulating cooling channels are arranged in the heat insulation wall and the heat insulation chamber, so that the gap between the circulating cooling channel and the heat source position in the evaporation source can be reduced or even eliminated, and the circulating cooling channels arranged in the heat insulation wall and the heat insulation chamber are used for cooling the evaporation source together, thereby further shortening the cooling time of the evaporation source and further improving the production efficiency.)

一种蒸发源和蒸镀装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种蒸发源和蒸镀装置。

背景技术

有机电致发光显示器制作过程中，所使用的蒸镀装置采用将待蒸镀的基板与蒸发源放置于同一真空腔室中，蒸发源放置于待蒸镀的基板下方，在该真空腔室中放置有用来镀膜的蒸发源，蒸镀时将该蒸发源加热至预定温度，促使放置于其中的蒸镀材料(一般为固态或粉末态的有机小分子材料)升华或蒸发，最终沉积在带有掩膜版的基板上，蒸镀完成后去除掩膜版即可得到所需图形的有机电致发光显示器的功能膜层。

蒸镀结束后，蒸发源中的蒸镀材料的补充作业、设备的维护作业等均需要在将被加热的蒸发源冷却至一定的温度后进行，但是如果仅通过停止对蒸发源的加热并放置在真空环境中自然冷却，要将蒸发源冷却到所需的温度有时需要几个小时甚至十几个小时，严重影响生产效率。

发明内容

针对上述问题，本发明实施例提供一种蒸发源和蒸镀装置，以加快蒸发源的降温速率，提高设备生产稼动率，提高生产效率。

为实现上述目的，本发明实施例的一方面提供一种蒸发源，包括：

隔热腔室，包括隔热壁，所述隔热壁相互连接形成所述隔热腔室；

坩埚，设于所述隔热腔室内部，用于容纳蒸镀材料；

加热装置，以围绕所述坩埚的方式设置，用于加热所述坩埚；

反射体，以围绕所述坩埚的方式设置，并设于所述加热装置远离所述坩埚的一侧，用于将所述加热装置产生的热量反射至所述坩埚；

循环冷却通道，所述循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道和内部循环冷却通道，所述隔热腔室循环冷却通道设置于所述隔热壁内，所述内部循环冷却通道设置于所述隔热腔室内部。

进一步地，所述内部循环冷却通道设置于所述反射体与所述加热装置之间。

进一步地，所述蒸发源还包括固定装置，所述固定装置用于将所述内部循环冷却通道固定于所述反射体与所述加热装置之间。

进一步地，所述内部循环冷却通道设置于所述反射体内部。

进一步地，所述反射体在所述坩埚的由底部向开口的方向上间隔排布，所述内部循环冷却通道设置于所述间隔排布的反射体之间。

进一步地，所述蒸发源还包括固定装置，所述固定装置用于将所述内部循环冷却通道固定于所述间隔排布的反射体之间。

进一步地，所述内部循环冷却通道环绕设置于所述坩埚的周侧。

进一步地，所述循环冷却通道为液体循环冷却通道或气体循环冷却通道。

进一步地，所述蒸发源还包括温度传感器，所述温度传感器设置于所述蒸发源内部，用于对蒸发源内部的温度进行检测。

本发明实施例的另一方面提供一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括前述第一个方面中所述的蒸发源。

本发明实施例提供的蒸发源和蒸镀装置，包括循环冷却通道，所述循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道和内部循环冷却通道，所述隔热腔室循环冷却通道设置于所述隔热壁内，所述内部循环冷却通道设置于所述隔热腔室内部，相比于对蒸发源的自然冷却降温，本发明实施例方案利用冷却介质直接对蒸发源进行降温，以使得蒸发源能够在短时间内即可达到所需温度，提高设备生产稼动率，提高生产效率。另外，本发明实施例通过在隔热壁内及隔热腔室内部均设置循环冷却通道，可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙，利用隔热壁内及隔热腔室内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温，从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间，进一步提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有的蒸发源的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的蒸发源的一结构示意图；

图3为本发明实施例提供的蒸发源的另一结构示意图；

图4为本发明实施例提供的蒸发源的另一结构示意图；

图5为本发明实施例提供的蒸发源的另一结构示意图；

图6为本发明实施例提供的蒸发源的另一结构示意图；

图7为本发明实施例提供的蒸发源的降温过程示意图。

附图标记说明：

1、隔热腔室；2、坩埚；3、反射体；4、加热装置；5、蒸镀材料；6、隔热腔室循环冷却通道；7、内部循环冷却通道。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

OLED器件主要是膜层结构，各功能膜层都是使用蒸发源蒸镀技术，在基板上形成OLED膜层结构，蒸镀结束后，蒸发源中的蒸镀材料的补充作业、设备的维护作业等均需要在将被加热的蒸发源冷却至一定的温度后进行，但是如果仅通过停止对蒸发源的加热并放置在真空环境中自然冷却，要将蒸发源冷却到所需的温度有时需要几个小时甚至十几个小时，严重影响生产效率。

针对上述问题，现有技术通常采用如图1所示的蒸发源结构，如图1所示，蒸发源包括隔热腔室1，该隔热腔室1包括隔热壁，隔热壁相互连接形成所述隔热腔室1；坩埚2，设于隔热腔室1内部，用于容纳蒸镀材料5；加热装置4，以围绕坩埚2的方式设置，用于加热坩埚2；反射体3，以围绕坩埚2的方式设置，并设于加热装置4远离坩埚2的一侧，用于将加热装置4产生的热量反射至坩埚2；该蒸发源还包括隔热腔室循环冷却通道6，其设置于隔热腔室1的隔热壁内，在该隔热腔室循环冷却通道6内通入冷却介质，以对蒸发源进行降温，相对于自然冷却降温，可以在一定程度上缩短冷却时间。然而该冷却方式中，循环冷却通道与蒸发源内的热源位置(如坩埚2、加热装置4等)间隙较大，并且蒸发源处于真空环境，因此依然存在冷却降温时间较长、生产效率较低的问题。

鉴于此，本发明实施例提供一种蒸发源，包括循环冷却通道，所述循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道和内部循环冷却通道，所述隔热腔室循环冷却通道设置于所述隔热壁内，所述内部循环冷却通道设置于所述隔热腔室内部，相比于对蒸发源的自然冷却降温，本发明实施例方案利用冷却介质直接对蒸发源进行降温，以使得蒸发源能够在短时间内即可达到所需温度，提高设备生产稼动率，提高生产效率；另外，相比于现有的仅在隔热壁内设置循环冷却通道，本发明实施例通过在隔热壁内及隔热腔室内部均设置循环冷却通道，可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙，利用隔热壁内及隔热腔室1内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温，从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间，进一步提高生产效率。

图2至图6为本发明实施例提供的蒸发源的结构示意图，如图2至图6所示，本发明实施例提供的蒸发源，包括：

隔热腔室1，包括隔热壁，隔热壁相互连接形成隔热腔室1；

坩埚2，设于隔热腔室1内部，用于容纳蒸镀材料；

加热装置4，以围绕坩埚2的方式设置，用于加热坩埚2；

反射体3，以围绕坩埚2的方式设置，并设于加热装置4远离坩埚2的一侧，用于将加热装置4产生的热量反射至坩埚2；

循环冷却通道，循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7，隔热腔室循环冷却通道6设置于隔热壁内，内部循环冷却通道7设置于隔热腔室1内部。

本发明实施例提供的蒸发源的循环冷却通道，相比于对蒸发源的自然冷却降温，本发明实施例利用冷却介质直接对蒸发源进行降温，以使得蒸发源能够在短时间内即可达到所需温度，提高设备生产稼动率，提高生产效率；另外，相比于现有的仅在隔热壁内设置循环冷却通道，本发明实施例在隔热壁内及隔热腔室1内部均设置循环冷却通道，可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙，利用隔热壁内及隔热腔室1内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温，从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间，进一步提高生产效率。

本发明实施例中，隔热腔室1用于在蒸镀过程中隔绝蒸发源内部与外界环境，使得蒸镀温度稳定。在隔热腔室1的隔热壁内设置隔热腔室循环冷却通道6，可以在对蒸发源降温过程中，利用通入的冷却介质对蒸发源内部进行降温，以提高降温速率。隔热腔室循环冷却通道6可以环绕设置于隔热腔室1内，也可以以蜿蜒延伸的方式设置于隔热腔室1的隔热壁内，且隔热腔室循环冷却通道6 具有冷却介质入口和冷却介质出口，用于将冷却介质充入及排出隔热腔室循环冷却通道6，从而实现冷却介质在隔热腔室循环冷却通道6内的循环，以实现对蒸发源的降温作用。

坩埚2用于容纳蒸镀材料5，坩埚2的材质可以为金属材料或陶瓷材料，作为金属材料，优选Mo、Ta、W等金属或其中至少两种金属的合金，作为陶瓷材料，优选氧化铝、碳化硅、氮化硼、氮化铝等，除上述金属材料和陶瓷材料外，也可以使用碳石墨等材质。

反射体3用于将加热装置4产生的热量反射至坩埚2，以增强热利用率。反射体3的材质可以选择为不锈钢、金属、陶瓷材等，只要能够实现对热量的反射作用即可，为了进一步提高反射率，可以选择对反射体3表面进行镜面加工，或者在其表面镀Ag、Au、Cu、Al等金属层。

加热装置4用于蒸镀过程中对蒸发源进行加热，以实现蒸镀材料的升华或蒸发，最终使得蒸镀材料沉积在基板上形成有机电致发光显示器的功能膜层。加热装置4设置于坩埚2周侧，以实现对坩埚及其内的蒸镀材料的均匀加热。加热装置4可以为加热丝，也可以为板状体，在此不作具体限定。

内部循环冷却通道7可以环绕设置于坩埚2的周侧，也可以以蜿蜒延伸的方式设置于坩埚2的周侧，且内部循环冷却通道7具有冷却介质入口和冷却介质出口，用于将冷却介质充入及排出内部循环冷却通道7，从而实现冷却介质在内部循环冷却通道7内的循环，以实现对蒸发源的降温作用。

上述实施例中，循环冷却通道可以为液体循环冷却通道，也可以为气体循环冷却通道，即冷却介质可以为液体，如普通冷却水、去离子水等，也可以为气体，如氮气、压缩空气等，在此不作具体限定。

本申请实施例中的蒸发源还可以包括温度传感器，温度传感器设置于蒸发源内部，用于对蒸发源内部的温度进行检测。

具体地，参照图2，内部循环冷却通道7设置于反射体3和加热装置4之间，内部循环冷却通道7可以选择与反射体3接触设置，也可以选择与加热装置4 接触设置，或者与反射体3和加热装置4均接触设置，如此可以实现对反射体3 和加热装置4的直接接触冷却降温，提高降温速率。该设置方式下，内部循环冷却通道7可以通过固定装置(如固定环等)固定于反射体3和/或加热装置4 上，也可以在反射体3和/或加热装置4的表面上直接开设内部循环冷却通道7。

当然，内部循环冷却通道7也可以仅设置于反射体3和加热装置4之间，而与反射体3和加热装置4不直接接触，该设置方式下，可以使用固定装置将内部循环冷却通道7固定于反射体3和加热装置4之间。

请参照图3，该实施例中，内部循环冷却通道7设置于反射体3内部，该设置方式下，可以通过在反射体3内部开设通道以形成内部循环冷却通道7。反射体3围绕坩埚2设置，反射体3可以设置于坩埚2的周侧、底部和顶部，内部循环冷却通道7可以同时设置于坩埚2的周侧、底部和顶部的反射体内，以增大冷却面积，当然，内部循环冷却通道7也可以根据需要设置在任意位置的反射体3内。

请参照图4，反射体3在坩埚2的由底部向开口的方向上间隔排布，内部循环冷却通道7设置于间隔排布的反射体3之间，该设置方式下，可以使用固定装置将内部循环冷却通道7固定于间隔排布的反射体3之间。

请参照图5和图6，内部循环冷却通道7可以同时位于反射体3和加热装置 4之间及反射体3内，内部循环冷却通道7也可以同时位于反射体3和加热装置 4之间及间隔排布的反射体3之间，上述设置方式可以进一步增大冷却面积。

内部循环冷却通道7也可以位于坩埚2和加热装置4之间，并通过固定装置对内部循环冷却通道7进行固定。该设置方式下，可以将内部循环冷却通道7 固定于坩埚2上或加热装置4上。

当然，内部循环冷却通道7的具体设置位置取决于加工难度、设备精度等，可以根据实际情况具体选择，在此不作特别限定，且上述实施例并不构成对本申请方案的特别限制。

蒸发源的具体降温过程如图7所示，具体如下：

S1：断开加热装置4，停止对蒸发源的加热；

S2：利用温度传感器检测蒸发源内部温度，得到蒸发源实际温度；

S3：比较蒸发源实际温度与目标温度的大小；

S4：如果蒸发源实际温度小于等于目标温度，则循环冷却通道的冷却介质入口关闭，降温结束；

S5：如果蒸发源实际温度大于目标温度，则循环冷却通道的冷却介质入口和冷却介质出口打开，并通入冷却介质，使冷却介质在循环冷却通道内进行循环，对蒸发源进行降温，直至蒸发源实际温度小于等于目标温度，循环冷却通道的冷却介质入口关闭，降温结束。

其中，循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7，隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7可以使用相同的冷却介质入口和相同的冷却介质出口，也可以使用不同的冷却介质入口和不同的冷却介质出口。当隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7使用不同的冷却介质入口和不同的冷却介质出口时，对蒸发源进行降温的过程中，隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7可以对冷却介质的注入进行单独控制。其中，优选地，隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7使用不同的冷却介质入口和不同的冷却介质出口，如此可以实现对隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7的单独控制，从而在降温前的蒸镀过程中，可以根据蒸镀温度需求，仅在隔热腔室循环冷却通道6中注入冷却介质，以达到蒸镀所需的温度。

本发明实施例提供的蒸发源和蒸镀装置，包括循环冷却通道，所述循环冷却通道包括隔热腔室循环冷却通道6和内部循环冷却通道7，所述隔热腔室循环冷却通道6设置于所述隔热壁内，所述内部循环冷却通道7设置于所述隔热腔室1内部，相比于对蒸发源的自然冷却降温，本发明实施例方案利用冷却介质直接对蒸发源进行降温，以使得蒸发源能够在短时间内即可达到所需温度，提高设备生产稼动率，提高生产效率。另外，本发明实施例通过在隔热壁内及隔热腔室1内部均设置循环冷却通道，可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙，利用隔热壁内及隔热腔室1内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温，从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间，进一步提高生产效率。

本发明实施例还提供一种蒸镀装置，包括上述任一项所述的蒸发源。由于上述蒸发源在隔热壁内及隔热腔室内部均设置循环冷却通道，可以减小甚至消除循环冷却通道与蒸发源内的热源位置的间隙，利用隔热壁内及隔热腔室内部设置的循环冷却通道共同对蒸发源进行降温，从而进一步缩短蒸发源的冷却降温时间，进一步提高生产效率，故本发明提供的蒸镀装置也可以提高降温速率，提高生产效率。

本发明可以以其他的具体形式实现，而不脱离其精神和本质特征。因此，当前的实施例在所有方面都被看作是示例性的而非限定性的，本发明的范围由所附权利要求而非上述描述定义，并且，落入权利要求的含义和等同物的范围内的全部改变从而都被包括在本发明的范围之中。并且，在不同实施例中出现的不同技术特征可以进第一组合，以取得有益效果。本领域技术人员在研究附图、说明书及权利要求书的基础上，应能理解并实现所揭示的实施例的其他变化的实施例。