阅读说明：本技术 用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置 (Device for preparing continuous conductive film by coating apparatus ) 是由 马宏图 张丽娜 李琳琳 李国庆 何伟 李帅 韩华 于 2019-10-10 设计创作，主要内容包括：本发明涉及薄膜制备技术,具体涉及一种用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置。为了解决现有方式得到的镀膜条带连续性、导电性差的问题,本发明提出的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置包括基体和控制部,基体上设置有：转接口,其用于使基体连接到镀膜仪上；条带运载头,其末端固定在基体上,在基体连接于镀膜仪之后,条带运载头的前端伸入到镀膜仪的真空腔内；主腔室,在基体连接于镀膜仪之后,主腔室与镀膜仪的真空腔连通；送带卷轴和收带卷轴,其位于主腔室内；控制部能够控制送带卷轴和收带卷轴转动以使条带沿条带运载头绕转,并因此使条带从送带卷轴运转到收带卷轴上。利用本发明的装置能够有效改善制备的连续导电薄膜材料表面导电性差的问题。(The invention relates to a film preparation technology, in particular to a device for preparing a continuous conductive film by using a coating instrument. In order to solve the problems of poor continuity and poor conductivity of a coating strip obtained by the existing method, the device for preparing the continuous conductive film by the coating instrument provided by the invention comprises a substrate and a control part, wherein the substrate is provided with: the adapter is used for connecting the substrate to the coating instrument; the tail end of the strip carrying head is fixed on the substrate, and the front end of the strip carrying head extends into a vacuum cavity of the coating instrument after the substrate is connected with the coating instrument; the main cavity is communicated with the vacuum cavity of the coating instrument after the substrate is connected to the coating instrument; a tape feed spool and a tape take-up spool located within the main chamber; the control portion is capable of controlling the payout and take-up spools to rotate to cause the tape to orbit along the tape carrying head and thereby cause the tape to be transferred from the payout spool onto the take-up spool. The device can effectively solve the problem of poor surface conductivity of the prepared continuous conductive film material.)

用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置

技术领域

本发明涉及薄膜制备技术，具体涉及一种用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置。

背景技术

随着近年来基于连续超薄切片扫描电镜成像的方法(ssSEM)的广泛应用，使得神经生物学、细胞生物学等对细胞、乃至组织层面的更大尺度立方毫米级别的三维结构信息获取得以快速实现。该技术主要是通过收集带、钻石刀及超薄切片机对树脂包埋样品的连续超薄切片进行自动化收集，然后将切片进行等离子体减薄显著化处理、原子力显微镜测量、切片表面镀导电膜后转移至扫描电镜，再对获得的系列电子显微图像进行高分辨率的大尺度三维重构。它的独特优势在于序列切片可以保存，同时可在不同分辨率下多次成像，因此，一些珍贵的样品就像图书馆里的书一样可供研究者反复“查阅”，且科研人员可针对感兴趣的切片区分次研究，从而提高了采集效率和灵活性。

市面在售的表面平整度和柔韧度均符合连续超薄切片自动收集需求的条带宽度恒定为8mm，材料多为聚酰亚胺等高分子薄膜材料，受材料组分影响条带表面导电性都很差。如将切片收集在其表面后，如果直接用于扫描电镜成像，表面荷电会非常严重，不但无法获取到清晰的神经网络结构图像，还会导致样本永久性损伤。因此，必须解决承载有连续切片的条带表面导电性差的问题。传统的解决方法是利用不导电的条带自动收取连续切片，剪裁后将条带通过导电性胶带粘贴到晶圆表面后，再对整个晶圆表面进行喷镀导电层处理。如此一来，虽然连续切片阵列表面的导电性问题解决了，但是会在切片表面蒙上一层碳膜或贵金属膜，这会对高分辨率电镜成像产生一定影响，导致神经元膜结构边缘的锐度下降，进而影响到后期算法对神经元的自动识别和分割。

现有的高真空镀膜仪，常用的连续条带表面导电性处理方式有碳丝蒸发镀碳模式、碳棒蒸发模式、脉冲式碳丝蒸发方式及贵金属溅射方式。不论是哪种方式其镀膜的范围面积只局限于其4寸样品台的表面，若对连续收集条带进行表面导电性处理，只能将其剪断进行镀膜，且每次所能连续镀膜的长度小于100mm，每次镀膜完成后要破真空将处理好的条带取出，换上需要进行导电性处理的条带。即使花费很长时间也不能得到足够的连续收集条带，且这种方式得到的条带连续性很差根本无法满足使用。

基于以上问题，本发明提供了一种用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置来解决上述问题。

发明内容

为了解决现有技术中的上述问题，即为了解决现有方式得到的镀膜条带连续性、导电性差的问题，本发明提出了一种用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置，该装置包括基体和控制部，所述基体上设置有：转接口，所述转接口用于使所述基体连接到镀膜仪上；条带运载头，所述条带运载头的末端固定在所述基体上，在所述基体连接于所述镀膜仪之后，所述条带运载头的前端伸入到所述镀膜仪的真空腔内；主腔室，在所述基体连接于所述镀膜仪之后，所述主腔室与所述镀膜仪的真空腔连通；送带卷轴和收带卷轴，所述送带卷轴和所述收带卷轴位于所述主腔室内，并且，位于所述送带卷轴上的条带绕过所述条带运载头并粘贴到所述收带卷轴；所述控制部能够控制所述送带卷轴和所述收带卷轴转动以使所述条带沿所述条带运载头绕转，并因此使所述条带从所述送带卷轴运转到所述收带卷轴上；其中，在所述条带沿所述条带运载头绕转的过程中，所述镀膜仪对所述条带进行镀膜。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述主腔室内靠近所述条带运载头末端的位置设置有第一条带限位模块和第二条带限位模块，位于所述送带卷轴上的条带穿过所述第一条带限位模块后绕过所述条带运载头，再穿过所述第二条带限位模块之后粘贴到所述收带卷轴。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述第一条带限位模块位于所述第二条带限位模块的上方；所述第一条带限位模块由安装于所述主腔室内的第一圆柱体和第二圆柱体组成，所述第一圆柱体和所述第二圆柱体之间留有用于条带穿过的缝隙，通过所述缝隙以防止条带在运动过程中发生偏离；所述第二条带限位模块由安装于所述主腔室内的第三圆柱体和第四圆柱体组成，所述第三圆柱体和所述第四圆柱体之间留有用于条带穿过的缝隙，通过所述缝隙以防止条带在运动过程中发生偏离。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述条带运载头以可拆卸的方式安装于所述基体上；并且/或者，所述条带运载头上靠近前端的位置预设与所述条带宽度相匹配的槽；所述镀膜仪能够对经过所述槽的条带进行镀膜。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述条带运载头上沿所述条带绕转的方向设置有多个条带运转限位滚轴，穿过所述第一条带限位模块后的条带绕过所述条带运载头的过程中，依次穿过所述条带运转限位滚轴，以防止所述条带在沿所述条带运载头绕转的过程中发生偏移。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述条带运转限位滚轴为三个，分别设置于所述条带运载头的上表面、所述条带运载头的前端和所述条带运载头的下表面；并且/或者，所述条带运转限位滚轴为可转动的金属圆柱或聚四氟乙烯橡胶圆柱。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述基体上还设置有检测模块，所述检测模块用于检测所述条带是否用尽。在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述检测模块为应力检测模块或红外线物体检测模块。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述主腔室的内壁上安装有LED灯，所述LED灯用于主腔室内部的照明。

在上述用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的优选实施方式中，所述主腔室包括透明材质制成的主腔室门。

利用本发明的装置能够有效改善制备的连续导电薄膜材料表面导电性差的问题。使用时，只需要将本发明的装置通过转接口连接于镀膜仪上，然后将空白条带安装于送带卷轴上，绕过条带运载头在粘贴到收带卷轴上，通过控制部将空白条带在导电粒子气氛中(镀膜仪的真空腔内)匀速通过，通过调节空白条带的转速，来调控导电粒子在空白条带表面的着陆数量，从而控制导电膜的厚度。这样可以可得到表面导电性良好、导电层连续、均匀的连续条带。

附图说明

图1是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的剖视结构图

图2是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的整体结构示意图(正面视角)；

图3是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的整体结构示意图(侧面视角)

附图说明：1-基体；11-转接头；12-条带运载头；121-条带运转限位滚轴；13-主腔室；131-主腔室门；14-送带卷轴；15-收带卷轴；16-第一条带限位模块；161-第一圆柱体；162-第二圆柱体；17-第二条带限位模块；171-第三圆柱体；172-第四圆柱体；18-检测模块；19-LED灯。

具体实施方式

为使本发明的实施例、技术方案和优点更加明显，下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理，并非旨在限制本发明的保护范围。本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置适用于各种薄膜类材料。

参照图1-3，图1是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的剖视结构图；图2是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的整体结构示意图(正面视角)；图3是本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置的整体结构示意图(背面视角)。图1相当于图2的剖视图，其清楚地示出本发明装置的内部结构。如图1-3所示，本发明的装置包括基体1和控制部(图中未示出控制部)。基体1上设置有转接口11、条带运载头12、主腔室13、送带卷轴14和收带卷轴15。

具体而言，转接口11用于使基体1连接到镀膜仪上，本申请附图中省略了镀膜仪。作为示例，镀膜仪上预先设置有扩展口，该转接口11位于基体1的前端，其尺寸大小与镀膜仪扩展口吻合，基体1通过该转接口11可以直接安装于镀膜仪上。

条带运载头12的末端(图1中的右侧位置)固定在基体1上，在基体1连接于镀膜仪之后，条带运载头12的前端(图1中的左侧位置)伸入到镀膜仪的真空腔内。作为示例，该条带运载头12呈长条体，其材质可以为金属或聚四氟乙烯，其末端可以固定在主腔室13的内壁。在条带运载头12伸入到镀膜仪的真空腔内的情形下，待镀膜的条带可以在条带运载头12的表面运行，便于镀膜仪对条带进行镀膜操作。换言之，条带运载头12能够起到支撑条带在导电气氛中运动的作用。

主腔室13可以采用不锈钢材质，在基体1连接于镀膜仪之后，主腔室13与镀膜仪的真空腔连通。送带卷轴14和收带卷轴15位于主腔室13内，并且，位于送带卷轴14上的条带绕过条带运载头12并粘贴到收带卷轴15。控制部能够控制送带卷轴14和收带卷轴15转动以使条带沿条带运载头12绕转，并因此使条带从送带卷轴14运转到收带卷轴15上；其中，在条带沿条带运载头12绕转的过程中，镀膜仪对条带进行镀膜，从而可以制备连续导电薄膜。

作为示例，条带缠绕于条带承载盘上，条带承载盘的轴心规格与上述送带卷轴14和收带卷轴15的轴心规格相对应。这样一来，承载空白条带的承载盘可以安装到送带卷轴14上，然后空的承载盘可以安装到收带卷轴15上，控制部可以选择步进电机控制，步进电机驱动送带转轴14转动，收带卷轴15作为从动轮跟随送带转轴14转动，从而使送带卷轴14上的条带绕着条带运载头12缠绕于收带卷轴15上。该控制部还可以控制送带卷轴14和收带卷轴15的转动速度，从而控制条带绕转条带运载头12的速度，进而调控镀膜仪的真空腔内的导电粒子在空白条带表面的着陆数量，这样可以控制导电膜的厚度。

本领域技术人员可以理解的是，步进电机也可以驱动收带卷轴15转动，送带卷轴14作为从动轮跟随收带卷轴15转动；或者控制部也可以采取其他合理的方式控制送带卷轴14和收带卷轴15转动，以实现将送带卷轴14上的条带转移至收带卷轴14上的目的。还需要说明的是，送带卷轴14和收带卷轴15是相同规格的卷轴，可以上下互换，也就是说，空白卷轴放置在那个卷轴上哪个卷轴就是送带卷轴，另一个卷轴则作为收带卷轴，用于收取镀膜后的条带。

在一种具体的实施例中，条带运载头12上靠近前端的位置预设与条带宽度相匹配的槽(如图3中所示的S区域，该区域S即作为镀膜区)，镀膜仪能够对经过该槽的条带进行镀膜。具体地，选用8mm宽的条带时，该槽的宽度也为8mm，条带沿条带运载头12绕转的过程中，在经过该槽的位置时，镀膜仪的真空腔内的导电粒子在此着陆于条带表面以形成导电膜。另外，条带运载头12以可拆卸的方式安装于基体1上，在不需要制备连续导电薄膜时，可以将条带运载头12拆除，不影响镀膜仪的正常使用。

在一种更具体的实施方式中，主腔室13内靠近条带运载头12末端的位置设置有第一条带限位模块16和第二条带限位模块17(第一条带限位模块16位于第二条带限位模块17的上方；)，位于送带卷轴14上的条带穿过第一条带限位模块16后绕过条带运载头12，再穿过第二条带限位模块17之后粘贴到收带卷轴15。通过第一条带限位模块16和第二条带限位模块17可以有效防止条带在绕条带运载头12传送的过程中发生偏离。具体而言，第一条带限位模块16由安装于主腔室13内的第一圆柱体161和第二圆柱162体组成，第一圆柱体161和第二圆柱体162之间留有用于条带穿过的缝隙，通过该缝隙以防止条带在运动过程中发生偏离。第二条带限位模块17由安装于主腔室13内的第三圆柱体171和第四圆柱体172组成，第三圆柱体171和第四圆柱体172之间留有用于条带穿过的缝隙，通过该缝隙以防止条带在运动过程中发生偏离。更具体地，第一圆柱体161、第二圆柱体162、第三圆柱体171和第四圆柱体172为聚四氟乙烯橡胶圆柱，其通过金属内芯固定于主腔室13，在条带穿过圆柱之间的缝隙后，第一圆柱体161和第二圆柱体162(第三圆柱体171和第四圆柱体172)相互接触挤压，为运动的条带进行限位，防止条带在运动过程中发生偏离。优选地，四个圆柱体中心留有空槽，空槽的宽度可以设为6mm(不限于该宽度)，该空槽防止由于第一圆柱体161和第二圆柱体162(第三圆柱体171和第四圆柱体172)之间的应摩擦造成的条带表面平整度的破坏。

进一步，在条带运载头12上沿条带绕转的方向设置有多个条带运转限位滚轴121，穿过第一条带限位模块16后的条带绕过条带运载头的过程中，依次穿过条带运转限位滚轴121，以防止条带在沿条带运载头12绕转的过程中发生偏移。换言之，换言之，在条带绕过条带运载头12后，条带运转限位滚轴121位于条带的上方，从而将条带限制在条带运载头12的表面以防止条带在沿条带运载头12绕转的过程中发生偏移。具体地，条带运转限位滚轴121为三个，分别设置于条带运载头12的上表面、条带运载头12的前端和条带运载头12的下表面。该条带运转限位滚轴121为表面平整度极高的金属圆柱或聚四氟乙烯橡胶圆柱，以保证条带在条带运载头12表面运动时位置不会偏移；并且，该条带运转限位滚轴121可转动，以防止其与运动的条带之间产生硬摩擦。

进一步，在基体1上还设置有检测模块18，检测模块18用于检测条带是否用尽。作为示例，检测模块18为应力检测模块或红外线物体检测模块，本领域技术人员也可以选择其他合适的检测模块。以采用应力检测模块为例，该应力检测模块可以通过软弹簧与主腔室13连接。在未安装条带时，应力检测模块所受到的应力值为0，在安装条带的过程中，使条带通过该应力检测模块，安装条带后所受应力为非0值。在工作状态下，当送带卷轴14中的条带用尽时，条带最后转过下方的第二限位模块17，此时应力检测模块所受应力解除，即应力值归0，开始蜂鸣，提醒工作人员实验工艺即将完成，5秒后自动停止，可准备下一次实验工艺。

可选的，主腔室13的内壁上安装有LED灯19，LED灯用于主腔室13内部的照明。还可以安装LED灯开关以控制LED灯19的开闭。另外，主腔室13还包括透明材质制成的主腔室门131，打开该主腔室门131之后，可以将带镀膜的空白条带安装到送带卷轴14上，安装完成后，关闭该主腔室门131。

本发明的具体应用方式如下：

实施例一：将本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置(以下简称本装置)通过转接口安装于镀膜仪之后，准备做导电膜处理的空白条带卷盘(即绕有待镀膜的空白条带)和空卷盘。启动镀膜仪并打开镀膜仪的真空腔，同时启动本装置并打开本装置的主腔室门。打开本装置的LED灯，将需要做导电膜处理的空白条带卷盘安装于上方的送带卷轴，将空卷盘安装于下方的收带卷盘，再将空白条带依次穿过第一条带限位模块、条带运转限位滚轴和第二条带限位模块，从而使空白条带绕过位于镀膜仪真空腔中的条带运载头，同时使空白条带绕过应力检测模块，此时应力检测模块检测当前的应力值为1，最后将空白条带粘贴于收带卷轴上。

条带安装完成之后，关闭镀膜仪的真空腔室门，关闭本装置的主腔室门。然后设置镀膜仪菜单，选取镀膜工艺参数(包括镀膜仪工作时真空值、所用靶材、连续工作时间等参数，在此不再对具体的工艺参数进行详细说明)。在本实施例中，所用靶材可以选取实验室常用的铂金靶材，连续工作时间可以选择1800秒。

当镀膜仪的真空读数达到预设值后，开始进行导电膜形成溅射，此时调节条带转动方向为顺时针转动，根据经验值调节条带转速为0.5mm/s，通过控制部使条带匀速转动。连续工作时间达到1800秒后，镀膜仪内金属溅射自动停止。同时手动控制条带停止运动，连续条带表面导电膜已经形成。打开镀膜仪的真空腔室门，打开本装置的主腔室门，取下收带卷轴上的卷盘，此时卷盘上绕有镀膜后的条带。

将条带的导电膜厚度进行原子力显微镜测量，得到镀膜的真实厚度。原子力显微镜测试由本装置与镀膜仪联用制备10nm厚度的铂金导电膜实际厚度为10.01nm，与实际设置值偏差为0.1％，通过表面导电性测试，导电性良好，导电膜连续厚度均匀，通过此工艺得到镀铂金膜厚度为10nm的连续条带。

实施例二：将本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置(以下简称本装置)通过转接口安装于镀膜仪之后，准备做导电膜处理的空白条带卷盘(即绕有待镀膜的空白条带)和空卷盘。启动镀膜仪并打开镀膜仪的真空腔，同时启动本装置并打开本装置的主腔室门。打开本装置的LED灯，将需要做导电膜处理的空白条带卷盘安装于上方的送带卷轴，将空卷盘安装于下方的收带卷盘，再将空白条带依次穿过第一条带限位模块、条带运转限位滚轴和第二条带限位模块，从而使空白条带绕过位于镀膜仪真空腔中的条带运载头，同时使空白条带绕过应力检测模块，此时应力检测模块检测当前的应力值为1，最后将空白条带粘贴于收带卷轴上。

条带安装完成之后，关闭镀膜仪的真空腔室门，关闭本装置的主腔室门。然后设置镀膜仪菜单，选取镀膜工艺参数(包括镀膜仪工作时真空值、所用靶材、连续工作时间等参数，在此不再对具体的工艺参数进行详细说明)。在本实施例中，所用靶材可以选取实验室常用的非金属炭靶材，连续工作时间可以选择1800秒。

当镀膜仪的真空读数达到预设值后，开始进行导电膜热蒸发形成工艺，此时调节条带转动方向为顺时针转动，根据经验值调节条带转速为0.4mm/s，通过控制部使条带匀速转动。连续工作时间达到1800秒后，镀膜仪内碳热蒸发自动停止。同时手动控制条带停止运动，连续条带表面导电膜已经形成。打开镀膜仪的真空腔室门，打开本装置的主腔室门，取下收带卷轴上的卷盘，此时卷盘上绕有镀膜后的条带。

将条带的导电膜厚度进行原子力显微镜测量，得到镀膜的真实厚度。原子力显微镜测试由装置与镀膜仪联用制备10nm厚度的碳导电膜实际厚度为10.02nm，与实际设置值偏差为0.2％，通过表面导电性测试，导电性良好，导电膜连续厚度均匀，通过此工艺得到镀碳膜厚度为10nm的连续条带。

实施例三：将本发明的用于镀膜仪制备连续导电薄膜的装置(以下简称本装置)通过转接口安装于镀膜仪之后，准备做导电膜处理的空白条带卷盘(即绕有待镀膜的空白条带)和空卷盘。启动镀膜仪并打开镀膜仪的真空腔，同时启动本装置并打开本装置的主腔室门。打开本装置的LED灯，将需要做导电膜处理的空白条带卷盘安装于下方的送带卷轴，将空卷盘安装于上方的收带卷盘，再将空白条带依次穿过第二条带限位模块、条带运转限位滚轴和第一条带限位模块，从而使空白条带绕过位于镀膜仪真空腔中的条带运载头，同时使空白条带绕过应力检测模块，此时应力检测模块检测当前的应力值为1，最后将空白条带粘贴于收带卷轴上。

条带安装完成之后，关闭镀膜仪的真空腔室门，关闭本装置的主腔室门。然后设置镀膜仪菜单，选取镀膜工艺参数(包括镀膜仪工作时真空值、所用靶材、连续工作时间等参数，在此不再对具体的工艺参数进行详细说明)。在本实施例中，所用靶材可以选取实验室常用的非金属炭靶材，连续工作时间可以选择1800秒。

当镀膜仪的真空读数达到预设值后，开始进行导电膜形成溅射，此时调节条带转动方向为逆时针转动，根据经验值调节条带转速为0.8mm/s，通过控制部使条带匀速转动。连续工作时间达到1800秒后，镀膜仪内金属溅射自动停止。同时手动控制条带停止运动，连续条带表面导电膜已经形成。打开镀膜仪的真空腔室门，打开本装置的主腔室门，取下收带卷轴上的卷盘，此时卷盘上绕有镀膜后的条带。

将条带的导电膜厚度进行原子力显微镜测量，得到镀膜的真实厚度。原子力显微镜测试由装置与镀膜仪联用制备5nm厚度的碳导电膜实际厚度为5.01nm，与实际设置值偏差为0.1％，通过表面导电性测试，导电性良好，导电膜连续厚度均匀，通过此工艺得到镀碳膜厚度为5nm的连续条带。

如上所述，在实际制备的过程中，送带卷轴和收带卷轴可以人为选取，即放置待镀膜空白条带卷盘的为送带卷轴，放置空卷盘的为收带卷轴。另外，可以选择送带卷轴为主动轮，收带卷轴为从动轮；也可以选择收带卷轴为主动轮，送带卷轴为从动轮；条带的转动方向可以根据实际需要进行顺时针旋转或逆时针旋转。另外，根据所需制备导电膜的厚度，通过调节连续条带在导电粒子气氛中(镀膜仪的真空腔内)的速度，即主动轴(送带卷轴或收带卷轴)的转速而完成。随着卷盘中带子的长度增加，本发明同时控制条带厚度影响转速的结果，如条带厚度为50um，卷轴起始中心直径为25mm，随着镀膜的进行，实时计算并调整实际卷轴转速保证条带传送的线速度恒定。

关于累计运行时间可以理解为，主动轴运动开始时，累计运行时间开始计时，主动轴运动停止时，累计运行时间停止计时。同时通过当前的条带运行速度，共同调控主动轴的实际转速。

至此，已经结合附图所示的优选实施方式描述了本发明的技术方案，但是，本领域技术人员容易理解的是，本发明的保护范围显然不局限于这些具体实施方式。在不偏离本发明的原理的前提下，本领域技术人员可以对相关技术特征作出等同的更改或替换，这些更改或替换之后的技术方案都将落入本发明的保护范围之内。