一种减反射膜及其生产工艺
阅读说明：本技术 一种减反射膜及其生产工艺 (Antireflection film and production process thereof ) 是由 王军 何茵 于 2021-06-18 设计创作，主要内容包括：本发明提供了一种减反射膜,包括基层与设置在基层上的防反射层,所述防反射层包括AR膜层与AF膜层,所述AR膜层包括三层SiO2层与两层Nb2O5层,两层所述Nb2O5层分别夹在三层SiO2层之间,一侧的所述SiO2层固定在基层上,所述AF膜层固定在另一侧的SiO2层上；其生产工艺为通过A、清洗,B、镀AR膜,C、镀AF膜,D、存放检测,四个步骤完成生产。本发明具有如下有益效果：通过三层SiO2层与两层Nb2O5层叠加的AR膜与表面的AF膜,在保证手机屏幕具有优良的防油污性能与高的耐磨性能的前提下,进一步提高了手机屏幕的清晰度。(The invention provides an antireflection film, which comprises a base layer and an antireflection layer arranged on the base layer, wherein the antireflection layer comprises an AR film layer and an AF film layer, the AR film layer comprises three SiO2 layers and two Nb2O5 layers, the two Nb2O5 layers are respectively clamped between the three SiO2 layers, the SiO2 layer on one side is fixed on the base layer, and the AF film layer is fixed on the SiO2 layer on the other side; the production process comprises the steps of A, cleaning, B, AR film plating, C, AF film plating, D, storage and detection, and the production is finished. The invention has the following beneficial effects: by the aid of the AR film formed by overlapping the three SiO2 layers and the two Nb2O5 layers and the AF film on the surface, the definition of the mobile phone screen is further improved on the premise that the mobile phone screen is guaranteed to have excellent oil stain resistance and high wear resistance.)
技术领域
本发明涉及减反射膜生产技术领域，尤其涉及一种减反射膜及其生产工艺。
背景技术
玻璃的减反射指的是降低玻璃表面的反射率，而降低反射率能起到增加玻璃透光度的作用，在屏幕中透光度会影响屏幕的画面质量。
AF膜具有优良的防油污性能、优秀的透光度与高的耐磨性能，常用于手机屏幕，而AR膜对比AF膜具有更加优良的透光度，常用于镜片。
发明内容
针对现有技术中所存在的不足，本发明提供了一种减反射膜及其生产工艺，提高了屏幕的画面质量，同时也保证了手机屏幕表面优良的防油污性能与高的耐磨性能。
根据本发明的实施例记载的一种减反射膜，包括基层与设置在基层上的防反射层，所述防反射层包括AR膜层与AF膜层，所述AR膜层包括三层SiO2层与两层Nb2O5层，两层所述Nb2O5层分别夹在三层SiO2层之间，一侧的所述SiO2层固定在基层上，所述AF膜层固定在另一侧的SiO2层上。
进一步的，固定在所述基层上的SiO2层的厚度为5nm，靠近所述AF膜层的SiO2层的厚度为70.6nm，靠近所述基层的Nb2O5层的厚度为12.6nm，靠近所述AF膜层的Nb2O5层的厚度为115.4nm，两层所述Nb2O5层之间的SiO2层的厚度为30.7nm。
进一步的，两层所述Nb2O5层都为双凸透镜形状，两层所述Nb2O5层之间的SiO2层为双凹透镜形状；另两层所述SiO2层都为单凹透镜形状，且所述单凹透镜的凹陷侧靠近Nb2O5层。
进一步的，两层所述Nb2O5层最厚处与最薄处的差值为10±2nm，两层所述Nb2O5层之间的SiO2层最厚处与最薄处的差值为10±2nm，另两层所述SiO2层最厚处与最薄处的差值为5±1nm。
进一步的，所述AF膜层的厚度为18-30nm。
根据本发明的实施例记载的一种减反射膜的生产工艺，包括：
A、清洗：先进行一次清洗后，放入基层，并将真空室的空气抽出，使得所述真空室内真空度≤5.0*10-3Pa，最后再进行一次清洗；
B、镀AR膜：继续抽出真空室的空气，使得所述真空室内真空度≤3.5*10-3Pa，然后进行镀膜，镀膜时排入氩气与氧气，所述真空室内真空度保持≤0.5±0.3Pa，在所述基层上先镀一层SiO2层，然后镀一层Nb2O5层，重复再镀一层SiO2层与一层Nb2O5层，最后再镀一层SiO2层；
C、镀AF膜：先抽出真空室空气，使得真空室的真空度≤3.0*10-3Pa，然后进行镀AF膜；
D、存放检测：先将成品移出真空室，然后静置，最后进行检测存放。
进一步的，所述B步骤中镀Nb2O5层的凸起位置时，采用在基层两侧位置都设置一块遮挡板进行遮挡，且两块所述遮挡板会缓慢相互远离；而镀SiO2层的凹陷位置时，在基层中部位置设置一块遮挡板进行遮挡，且所述遮挡板会缓慢远离基层。
进一步的，所述A步骤包括：
A1、人工清洗：在放入产品前进行，先采用吸尘器进行清洗，然后再采用无尘布进行清洗；
A2、真空清洗：在真空室抽出空气后进行，采用的清洗方法为离子清洗。
进一步的，所述A步骤中真空室的空气抽出分粗抽真空与精抽真空，先进行粗抽真空，使得所述真空室内压力≤8Pa，且粗抽真空的时间控制在8-15min之间，然后进行精抽真空，使得所述真空室内压力≤5.0*10-3Pa。
进一步的，所述氩气以160±50sccm的速度排入，所述氧气以250±50sccm的速度排入。
本发明的技术原理为：采用三层SiO2层与两层Nb2O5层叠加的AR膜增加整个屏幕的透光度，然后采用表面的AF膜保证屏幕的防油污性能与高耐磨性能。
相比于现有技术，本发明具有如下有益效果：通过三层SiO2层与两层Nb2O5层叠加的AR膜与表面的AF膜，在保证手机屏幕具有优良的防油污性能与高的耐磨性能的前提下，进一步提高了手机屏幕的清晰度。
附图说明
图1为本发明实施例1的减反射膜结构示意图。
图2为本发明实施例1的减反射膜的生产工艺流程图。
图3为本发明实施例2的减反射膜结构示意图。
图4为本发明实施例2的镀Nb2O5层的凸起位置的原理图。
图5为本发明实施例2的镀SiO2层的凹陷位置的原理图。
上述附图中：100、基层；200、防反射层；210、AR膜层；211、SiO2层；212、Nb2O5层；220、AF膜层；300、靶；310、遮挡板。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明中的技术方案进一步说明。
实施例1
如图1所示的减反射膜，包括基层100与设置在基层100上的防反射层200，具体的防反射层200包括AR膜层210与AF膜层220，其中AR膜层210包括三层SiO2层211与两层Nb2O5层212，两层Nb2O5层212分别夹在三层SiO2层211之间，一侧的SiO2层211附着在基层100上，AF膜层220附着在另一侧的SiO2层211上，采用五层交替设置的SiO2层211与Nb2O5层212产生干涉效果来消除反射光，进而提高透光率。
如图1所示，附着在基层100上的SiO2层211的厚度为5±1nm，靠近AF膜层220的SiO2层211的厚度为70.6±5nm，靠近基层100的Nb2O5层212的厚度为12.6±2nm，靠近AF膜层220的Nb2O5层212的厚度为115.4±5nm，两层所述Nb2O5层212之间的SiO2层211的厚度为30.7±3nm，AF膜层220的厚度为18-30nm。
如图2所示的减反射膜的生产工艺，包括：
A、清洗：先进行一次清洗后，放入基层，并将真空室的空气抽出，使得真空室内真空度≤5.0*10-3Pa，最后再进行一次清洗，具体的包括：
A1、人工清洗：在放入产品前进行，先采用吸尘器进行清洗，然后再采用无尘布进行清洗。
A2、真空清洗：在真空室抽出空气后进行，采用的清洗方法为离子清洗。
具体的真空室的空气抽出分粗抽真空与精抽真空，先进行粗抽真空，使得真空室内压力≤8Pa，且粗抽真空的时间控制在8-15min之间，然后进行精抽真空，使得所述真空室内压力≤5.0*10-3Pa，分成两次抽出真空，粗抽真空以快速降低真空室内压力，提高工作效率，而精抽真空缓慢抽出空气，使得真空室内压力能准确的达到≤5.0*10-3Pa的标准。
B、镀AR膜：继续抽出真空室的空气，使得真空室内真空度≤3.5*10-3Pa，然后进行镀膜，镀膜时排入氩气与氧气，具体的氩气以160±50sccm的速度排入，氧气以250±50sccm的速度排入，通过控制排入速度控制真空室内氩气与氧气比例，同时也方便真空室内真空度保持在≤0.5±0.3Pa，在基层上先镀一层SiO2层，然后镀一层Nb2O5层，重复再镀一层SiO2层与一层Nb2O5层，最后再镀一层SiO2层。
C、镀AF膜：先抽出真空室空气，使得真空室的真空度≤3.0*10-3Pa，然后进行镀AF膜。
D、存放检测：先将成品移出真空室，然后静置，最后进行检测存放。
实施例2
如图3所示，本实施例与实施例1的区别在于：两层Nb2O5层212都为双凸透镜形状，两层Nb2O5层212之间的SiO2层211为双凹透镜形状；另两层SiO2层211都为单凹透镜形状，且单凹透镜的凹陷侧靠近Nb2O5层212，因为实施例1中虽然因为干涉效果可以消除部分反射光，但是还是会有部分反射光存在，而这些反射杠依旧会影响手机屏幕的清晰度，采用凹透镜与凸透镜的结构，将原本一个方向的反射光分为两个方向，而同一个方向的反射光也会因为产生干涉效果来消除反射光，将原本一个方向的反射光散射为两个方向，形成类似漫反射的原理，进而降低了反射率。
具体的附着在基层100上的SiO2层211最厚处的厚度为5±1nm，靠近AF膜层220的SiO2层211最厚处的厚度为70.6±1nm，靠近基层100的Nb2O5层212最厚处的厚度为12.6±1nm，靠近AF膜层220的Nb2O5层212最厚处的厚度为115.4±1nm，两层所述Nb2O5层212之间的SiO2层211最厚处的厚度为30.7±1nm，AF膜层220的厚度为18-30nm，两层Nb2O5层212最厚处与最薄处的差值为10±2nm，两层Nb2O5层212之间的SiO2层211最厚处与最薄处的差值为10±2nm，另两层SiO2层211最厚处与最薄处的差值为5±1nm。
将五层结构的AR膜层210的各膜层的厚度的精度都进行了提高，以配合凹凸结构的精度。
如图4-5所示的减反射膜的生产工艺与实施例1的生产工艺的区别在于：B步骤中镀Nb2O5层的凸起位置时，采用在基层100两侧位置都设置一块遮挡板310进行遮挡，减少靶300发散出来的Nb附着在基层100两侧位置，且两块遮挡板310会缓慢相互远离，改变基层100上Nb2O5层各个位置Nb2O5的堆积厚度，形成中间厚两边薄的结构。
而镀SiO2层的凹陷位置时，在基层100中部位置设置一块遮挡板310进行遮挡，减少靶300发散出来的Si附着在基层100中间位置，且该遮挡板310会缓缓远离基层100，改变基层100上SiO2层各个位置Nb2O5的堆积厚度，形成中间薄两边厚的结构。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
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