阅读说明：本技术 钢的连续铸造方法 (Method for continuously casting steel ) 是由 松井章敏 近藤裕计 菊池直树 于 2017-04-25 设计创作，主要内容包括：在将交流磁场向铸模内钢水施加而使铸模内钢水产生回旋搅拌流的连续铸造方法中,施加与浸渍喷嘴的浸渍深度及从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离相应的适当的交流磁通密度,制造出高品质的铸片。本发明的钢的连续铸造方法是经由在一对铸模长边的背面相对设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场而使铸模内钢水产生水平方向的回旋搅拌流的钢的连续铸造方法,相对的所述铸模长边彼此的间隔设为200～300mm,具有两个喷出孔的浸渍喷嘴的所述喷出孔的喷出角度设为向下5°至向下50°的范围,所述交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下,并且,根据所述交流磁场的峰值位置,将所述浸渍喷嘴的浸渍深度及所述交流磁场产生装置产生的交流磁场的峰值位置的磁通密度控制成规定的范围。(in a continuous casting method in which an AC magnetic field is applied to molten steel in a mold to generate a swirling flow of molten steel in the mold, an AC magnetic flux density is applied to an appropriate depth of immersion of an immersion nozzle and a distance from a molten steel surface in the mold to a peak position of the AC magnetic field, thereby producing a high-quality cast piece. The continuous casting method of steel according to the present invention is a continuous casting method of steel in which an alternating magnetic field is applied to molten steel in a mold via an alternating magnetic field generating device provided opposite to a back surface of a pair of mold long sides to generate a swirling stirring flow in a horizontal direction to the molten steel in the mold, an interval between the opposing mold long sides is set to 200 to 300mm, a discharge angle of the discharge hole of a dipping nozzle having two discharge holes is set to a range of 5 ° downward to 50 ° downward, a frequency of the alternating magnetic field is set to 0.5Hz or more and 3.0Hz or less, and a dipping depth of the dipping nozzle and a magnetic flux density at a peak position of the alternating magnetic field generated by the alternating magnetic field generating device are controlled to a predetermined range according to a peak position of the alternating magnetic field.)

钢的连续铸造方法

技术领域

本发明涉及向铸模内的钢水施加交流磁场，一边通过交流磁场来控制铸模内的钢水流动一边对钢水进行连续铸造的钢的连续铸造方法。

背景技术

近年来，机动车用钢板、罐用钢板、高功能厚钢板等高级钢板制品的品质要求严格化，在通过连续铸造而制造的扁坯铸片的阶段希望为高品质。作为扁坯铸片(以下，也简记为“铸片”)要求的品质之一，可列举在铸片的表层及内部氧化物系非金属夹设物(以下，简记为“夹设物”)少。

作为被捕捉于铸片的表层及内部的夹设物，存在(1)在基于铝等的钢水的脱氧工序中生成并悬浮于钢水中的脱氧生成物、(2)通过中间包或浸渍喷嘴向钢水内吹入的氩气的气泡、(3)向铸模内钢水熔液面上散布的模制粉被卷入到钢水中而悬浮的模制粉等。它们都在制品阶段成为表面缺陷或内部缺陷，因此减少被捕捉于铸片的表层及内部的夹设物至关重要。

以往，为了避免钢水中的脱氧生成物、模制粉及氩气泡被凝固壳捕捉以防止夹设物引起的制品缺陷，而在铸模内向钢水施加磁场，利用磁场产生的电磁力来控制钢水的流动。关于该技术，提出了较多的方案。

例如，专利文献1公开了如下的技术：向来自浸渍于铸模内钢水的浸渍喷嘴的喷出流施加交流磁场，以使铸模内钢水熔液面的钢水流速成为夹设物附着临界流速以上且模制粉卷入临界流速以下的范围的方式，向所述喷出流赋予制动力或水平方向的旋转力。

专利文献2公开了如下的方法：使交流磁场产生装置的上端位于铸模内钢水熔液面的20～60mm下方处，使用向下1～30°的浸渍喷嘴，以来自浸渍喷嘴的喷出流与从交流磁场产生装置的中心至下方450mm的范围的凝固壳碰撞的方式进行控制，来对钢水进行连续铸造。

另外，专利文献3公开了如下的方法：在通过交流磁场产生装置向铸模内钢水赋予铸模宽度方向的回旋搅拌流时，在浸渍喷嘴的喷出口处的磁通密度成为交流磁场产生装置的最大磁通密度的50％以下的位置设置所述喷出口，来对钢水进行连续铸造。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-320440号公报

专利文献2：日本特开2000-202603号公报

专利文献3：日本特开2001-047201号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在上述现有技术中存在以下的问题点。

即，专利文献1是根据铸模内钢水熔液面的钢水流速的值，向来自浸渍喷嘴的喷出流赋予制动力或水平方向的搅拌力而进行流动控制的方法，因此，需要用于对铸模内钢水熔液面的钢水流速进行测定或监控的某些设备。而且，在对设置于铸模背面的交流磁场产生装置的设置位置进行了变更的情况下，存在临界流速预测公式的精度恶化这样的可能性，难以说是对于在铸模背面的任何位置设置的交流磁场产生装置都能应对的技术。

专利文献2是着眼于来自浸渍喷嘴的喷出流发生碰撞的位置的技术，但是限定为将交流磁场产生装置设置在铸模内钢水熔液面的附近的情况，无法应对交流磁场产生装置设置在与铸模内钢水熔液面相比较为靠下方的情况。

专利文献3也与专利文献2同样地限定为交流磁场产生装置设置在铸模内钢水熔液面的附近的情况。而且，虽然在最大磁通密度的50％以下的位置设置浸渍喷嘴的喷出口，但是这种情况下，为了使来自浸渍喷嘴的喷出流朝向比交流磁场产生装置靠下方处，而夹设物等向交流磁场产生装置的下方潜入，可能会成为铸片的内部缺陷的主要原因。

本发明鉴于上述情况而作出，其目的在于提供钢的连续铸造方法，从隔着铸模长边而设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场而使铸模内钢水产生回旋搅拌流，其中，赋予与从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置为止的距离及浸渍喷嘴的浸渍深度相应的适当的交流磁通密度，由此，能够制造出高品质的铸片。

用于解决课题的方案

用于解决上述课题的本发明的主旨如以下所述。

[1]一种钢的连续铸造方法，向具有一对铸模长边和一对铸模短边形成矩形的内部空间的连续铸造用铸模注入钢水，且将所述钢水凝固而生成的凝固壳从所述铸模拉拔来制造铸片，其中，

经由在所述一对铸模长边的背面隔着该铸模长边而相对设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场，通过该交流磁场使铸模内钢水产生水平方向的回旋搅拌流，

相对的所述铸模长边彼此的间隔设为200～300mm，

具有用于向所述内部空间注入钢水的两个喷出孔的浸渍喷嘴的所述喷出孔的喷出角度设为向下5°至向下50°的范围，

所述交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下，

从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离设为200mm以上且小于300mm，

所述浸渍喷嘴的浸渍深度(从铸模内钢水熔液面至浸渍喷嘴的喷出孔的上端的距离)设为100mm以上且小于200mm，并且，

所述交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.040T以上且小于0.060T。

[2]一种钢的连续铸造方法，向具有一对铸模长边和一对铸模短边形成矩形的内部空间的连续铸造用铸模注入钢水，且将所述钢水凝固而生成的凝固壳从所述铸模拉拔来制造铸片，其中，

经由在所述一对铸模长边的背面隔着该铸模长边而相对设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场，通过该交流磁场使铸模内钢水产生水平方向的回旋搅拌流，

相对的所述铸模长边彼此的间隔设为200～300mm，

具有用于向所述内部空间注入钢水的两个喷出孔的浸渍喷嘴的所述喷出孔的喷出角度设为向下5°至向下50°的范围，

所述交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下，

从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离设为300mm以上且小于400mm，

所述浸渍喷嘴的浸渍深度(从铸模内钢水熔液面至浸渍喷嘴的喷出孔的上端的距离)设为100mm以上且小于300mm，并且，

所述交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.060T以上且小于0.080T。

[3]一种钢的连续铸造方法，向具有一对铸模长边和一对铸模短边形成矩形的内部空间的连续铸造用铸模注入钢水，且将所述钢水凝固而生成的凝固壳从所述铸模拉拔来制造铸片，其中，

经由在所述一对铸模长边的背面隔着该铸模长边而相对设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场，通过该交流磁场使铸模内钢水产生水平方向的回旋搅拌流，

相对的所述铸模长边彼此的间隔设为200～300mm，

具有用于向所述内部空间注入钢水的两个喷出孔的浸渍喷嘴的所述喷出孔的喷出角度设为向下5°至向下50°的范围，

所述交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下，

从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离设为400mm以上且小于500mm，

所述浸渍喷嘴的浸渍深度(从铸模内钢水熔液面至浸渍喷嘴的喷出孔的上端的距离)设为100mm以上且小于300mm，并且，

所述交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.080T以上且小于0.100T。

[4]一种钢的连续铸造方法，向具有一对铸模长边和一对铸模短边形成矩形的内部空间的连续铸造用铸模注入钢水，且将所述钢水凝固而生成的凝固壳从所述铸模拉拔来制造铸片，其中，

经由在所述一对铸模长边的背面隔着该铸模长边而相对设置的交流磁场产生装置向铸模内钢水施加交流磁场，通过该交流磁场使铸模内钢水产生水平方向的回旋搅拌流，

相对的所述铸模长边彼此的间隔设为200～300mm，

具有用于向所述内部空间注入钢水的两个喷出孔的浸渍喷嘴的所述喷出孔的喷出角度设为向下5°至向下50°的范围，

所述交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下，

根据所述交流磁场的峰值位置，使所述浸渍喷嘴的浸渍深度(从铸模内钢水熔液面至浸渍喷嘴的喷出孔的上端的距离)及由所述交流磁场产生装置产生的交流磁场的峰值位置的磁通密度满足下述的条件(A)、条件(B)、条件(C)这三种中的任一种。

条件(A)：在从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离为200mm以上且小于300mm时，将所述浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于200mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.040T以上且小于0.060T。

条件(B)：在从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离为300mm以上且小于400mm时，将所述浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于300mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.060T以上且小于0.080T。

条件(C)：在从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离为400mm以上且小于500mm时，将所述浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于300mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.080T以上且小于0.100T。

发明效果

根据本发明，施加与从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离及浸渍喷嘴的浸渍深度相应的适当的磁通密度的交流磁场而向铸模内钢水赋予回旋搅拌流，因此能抑制脱氧生成物、氩气气泡、模制粉的向凝固壳的捕捉，容易实现制造出高品质的铸片的情况。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的一例的图，是扁坯连续铸造机的铸模部位的概略图。

图2是图1所示的浸渍喷嘴的放大图。

具体实施方式

以下，说明本发明的实施方式。

关于向铸模内的钢水施加交流磁场并通过交流磁场使铸模内的钢水产生水平方向的回旋搅拌流的钢的连续铸造方法中的铸模内的钢水流动状况，本发明者们使用低熔点合金装置进行了试验及研究。在试验中，使用具有一对铸模长边和一对铸模短边并形成矩形的内部空间的铸模，在内部空间的中心部设置具有2个喷出孔的浸渍喷嘴(以下，也记为“双孔式浸渍喷嘴”)，模拟从各个喷出孔朝向铸模短边喷出钢水的喷出流的状态，特别是关于使交流磁场的峰值位置及浸渍喷嘴的浸渍深度变化时的铸模内的钢水流动状况进行了试验。

在此，交流磁场的峰值位置是将铸模的内部空间包围的铸模内壁面的交流磁场的磁通密度中的与内壁面正交的成分的每时间周期的均方根值最大值沿着内壁面成为最大的位置。而且，浸渍喷嘴的浸渍深度通过从铸模内钢水熔液面(也称为“弯液面”)至浸渍喷嘴的喷出孔的上端为止的距离进行定义。

在试验中，变更与铸模长边背面相对设置的交流磁场产生装置的设置位置及浸渍喷嘴的设置位置即浸渍深度，有效利用数值计算及实机1/4尺寸的低熔点合金装置研究了此时的低熔点合金的铸模内的流动状况及铸模内的流速分布等。作为低熔点合金，使用了Bi-Pb-Sn-Cd合金(熔点；70℃)。

研究的结果可知，根据交流磁场的峰值位置及浸渍喷嘴的浸渍深度而存在交流磁场的磁通密度的适当的施加范围。即，可知根据交流磁场的峰值位置及浸渍喷嘴的浸渍深度而交流磁场的施加条件能够大体分为条件(A)～(C)这3个种类的模式。研究结果如表1所示。需要说明的是，交流磁场的峰值位置通过从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离进行定义。

[表1]

1；条件(A)

在交流磁场的峰值位置距铸模内钢水熔液面为200mm以上且小于300mm的情况下，将双孔式浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于200mm，而且将交流磁场的峰值位置处的磁通密度设为0.040T以上且小于0.060T。

需要说明的是，磁通密度通过如下的值的算出平均值来定义，该值是在从铸模铜板中的在其背后配设有交流磁场产生装置的铸模铜板的形成内部空间的平面，在沿该平面的法线方向而朝向所述内部空间的方向上从所述平面分离15mm的位置处的所述法线方向的磁通密度中，沿铸片拉拔方向的所述磁通密度的峰值位置处的所述磁通密度的实效值(均方根值；Root Mean Square)在铸模宽度方向上以任意的间距测定的值。铸模宽度方向的测定间距考虑为能够充分地表现磁通密度的空间轮廓的代表性的程度的间距即可。

在磁通密度小于0.040T的情况下，回旋搅拌力弱，因此难以发挥氩气气泡或脱氧生成物的从凝固壳的清洁效果。另一方面，在磁通密度为0.060T以上的情况下，回旋搅拌力过强，因此会助长模制粉的卷入。

在浸渍喷嘴的浸渍深度小于100mm的情况下，铸模内钢水熔液面与喷出流的距离过近，因此在铸模内容易助长熔液面变动。在浸渍深度为200mm以上的情况下，可能会存在因浸渍喷嘴主体部变长而耐火物成本增大的情况，或在耐热性、耐载荷性的观点上浸渍喷嘴也容易损伤反而操作成本增大的情况。

2；条件(B)

在交流磁场的峰值位置距铸模内钢水熔液面为300mm以上且小于400mm的情况下，将双孔式浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于300mm，而且将交流磁场的峰值位置处的磁通密度设为0.060T以上且小于0.080T。

交流磁场的峰值位置与条件(A)相比成为距铸模内钢水熔液面深的位置，因此需要比条件(A)强的磁通密度。即，在磁通密度小于0.060T的情况下，回旋搅拌力弱，因此难以发挥氩气气泡或脱氧生成物的从凝固壳的清洁效果。另一方面，在磁通密度为0.080T以上的情况下，回旋搅拌力过强，因此会助长模制粉的卷入。

在浸渍喷嘴的浸渍深度小于100mm的情况下，铸模内钢水熔液面与喷出流的距离过近，因此在铸模内容易助长熔液面变动。在浸渍深度为300mm以上的情况下，可能会存在因浸渍喷嘴主体部变长而耐火物成本增大的情况，或在耐热性、耐载荷性的观点上浸渍喷嘴也容易损伤反而操作成本增大的情况。

3；条件(C)

在交流磁场的峰值位置距铸模内钢水熔液面为400mm以上且小于500mm的情况下，将双孔式浸渍喷嘴的浸渍深度设为100mm以上且小于300mm，而且将交流磁场的峰值位置处的磁通密度设为0.080T以上且小于0.100T。

交流磁场的峰值位置与条件(A)及条件(B)相比成为距铸模内钢水熔液面更深的位置，因此需要更强的磁通密度。即，在磁通密度小于0.080T的情况下，回旋搅拌力弱，因此难以发挥对凝固壳的氩气气泡或脱氧生成物的清洁效果。另一方面，在磁通密度为0.100T以上的情况下，回旋搅拌力过强，因此会助长模制粉的卷入。

在浸渍喷嘴的浸渍深度小于100mm的情况下，铸模内钢水熔液面与喷出流的距离过近，因此在铸模内容易助长熔液面变动。在浸渍深度为300mm以上的情况下，可能会存在因浸渍喷嘴主体部变长而耐火物成本增大的情况，或在耐热性、耐载荷性的观点上浸渍喷嘴也容易损伤反而操作成本增大的情况。

在条件(A)～(C)中，使用的浸渍喷嘴的喷出角度设为从向下5°至向下50°的范围。在喷出角度小于向下5°的情况下，无法使交流磁场充分地作用于喷出流。另一方面，在喷出角度大于向下50°的情况下，喷出流的向下流变得过强，因此存在脱氧生成物或气体气泡向铸造方向的深的位置潜入，成为内部缺陷而在钢板的成形加工时成为破裂的起点的担忧。

在本发明中，交流磁场的峰值位置设为距铸模内钢水熔液面为200mm以上且小于500mm。在将交流磁场的峰值位置设为距铸模内钢水熔液面小于200mm的情况下，为了使交流磁场作用于来自浸渍喷嘴的喷出流而不得不将浸渍喷嘴的浸渍深度设为比交流磁场峰值位置浅的位置，会产生操作上的制约，无法实现交流磁场的有效的施加。而且，在将交流磁场的峰值位置设为从铸模内钢水熔液面分离了500mm以上的位置的情况下，在凝固壳生长的区域赋予回旋搅拌流，对凝固壳的脱氧生成物或氩气气泡的清洁效果缺乏。

交流磁场的频率设为0.5～3.0Hz，优选设为1.0～2.0Hz。频率小于0.5Hz的话，交流磁场产生的电磁力的赋予断断续续，对凝固壳的脱氧生成物或氩气气泡的清洁效果不稳定。另一方面，当频率超过3.0Hz时，基于铸模或凝固壳的磁通密度的减衰变大，无法向铸模内钢水有效地施加交流磁场。

以下，基于附图，说明本发明的具体的实施方法。图1是示出本发明的实施方式的一例的图，是扁坯连续铸造机的铸模部位的概略图，图2是图1所示的浸渍喷嘴的放大图。

在图1及图2中，符号1为钢水，2为凝固壳，3为铸模内钢水熔液面，4为喷出流，5为铸片，6为铸模，7为水冷式的铸模长边，8为水冷式的铸模短边，9为浸渍喷嘴，10为喷出孔，11为交流磁场产生装置，12为模制粉，θ为浸渍喷嘴的喷出角度。

铸模6具有相对的一对铸模长边7和由该铸模长边7夹持的相对的一对铸模短边8，通过一对铸模长边7和一对铸模短边8形成矩形的内部空间。在铸模长边7的背面设置有隔着铸模长边7而相对的配置的一对交流磁场产生装置11。在此，相对的铸模长边彼此的间隔为200～300mm，浸渍喷嘴9具有2个喷出孔10，喷出孔10的喷出角度(θ)为向下5°至向下50°的范围。

在铸模6的矩形的内部空间的中心部设置浸渍喷嘴9，从2个喷出孔10朝向各个喷出孔10相对的铸模短边8喷出钢水1的喷出流4，向铸模6的内部空间注入钢水1。注入到铸模6的内部空间的钢水1由铸模长边7及铸模短边8冷却，形成凝固壳2。并且，在向铸模6的内部空间注入了规定量的钢水1时，在使喷出孔10浸渍于铸模内的钢水1的状态下对夹送辊(未图示)进行驱动，以外壳为凝固壳2而开始在内部具有未凝固的钢水1的铸片5的拉拔。在拉拔开始后，将铸模内钢水熔液面3的位置控制成大致恒定位置，并对铸片拉拔速度进行增速而设为规定的铸片拉拔速度。在图1中，浸渍喷嘴9的浸渍深度由“L₁”表示，而且，从铸模内钢水熔液面3至交流磁场的峰值位置的距离由“L₂”表示。

向铸模内钢水熔液面3上添加模制粉12。模制粉12熔融，能发挥钢水1的氧化防止或向凝固壳2与铸模6之间流入而作为润滑剂的效果。而且，为了防止钢水中悬浮的脱氧生成物的向浸渍喷嘴内壁的附着而向经浸渍喷嘴9流下的钢水1中吹入氩气、氮气或氩气与氮气的混合气体。

在这样连续铸造钢水1时，从交流磁场产生装置11向铸模内的钢水1施加交流磁场，使铸模内的钢水1产生水平方向的回旋搅拌流。交流磁场的频率设为0.5Hz以上且3.0Hz以下。

在施加交流磁场的情况下，在从铸模内钢水熔液面3至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)为200mm以上且小于300mm时(条件(A))，将浸渍喷嘴9的浸渍深度(L₁)设为100mm以上且小于200mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.040T以上且小于0.060T。

另外，在从铸模内钢水熔液面3至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)为300mm以上且小于400mm时(条件(B))，将浸渍喷嘴9的浸渍深度(L₁)设为100mm以上且小于300mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.060T以上且小于0.080T。

此外，在从铸模内钢水熔液面3至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)为400mm以上且小于500mm时(条件(C))，将浸渍喷嘴9的浸渍深度(L₁)设为100mm以上且小于300mm，并将交流磁场的峰值位置的磁通密度设为0.080T以上且小于0.100T。

交流磁场的峰值位置处的磁通密度的调整如以下那样实施。即，预先测定向交流磁场产生装置11供给的电力与铸模6的内部空间中的交流磁场的峰值位置处的从铸模铜板表面分离了15mm的位置的磁通密度的关系，以交流磁场的峰值位置的磁通密度成为所希望的磁通密度的方式调整向交流磁场产生装置11供给的电力。

如以上说明所述，根据本发明，施加与从铸模内钢水熔液面3至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)及浸渍喷嘴的浸渍深度(L₁)相应的适当的磁通密度的交流磁场而向铸模内钢水赋予回旋搅拌流，因此能抑制脱氧生成物、氩气气泡、模制粉12的向凝固壳2的捕捉，能容易地实现制造高品质的扁坯铸片的情况。

实施例

使用具有图1所示的铸模的扁坯连续铸造机，对浸渍喷嘴的浸渍深度(L₁)及从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)进行各种变更，实施了对约300吨的铝镇静钢水进行连续铸造的试验。扁坯铸片的厚度为250mm，宽度为1000～2200mm，稳定铸造域的钢水注入流量为2.0～6.5吨/min(以铸片拉拔速度计为1.0～3.0m/min)。而且，交流磁场的频率为1.0Hz。

使用的浸渍喷嘴是喷出角度(θ)为向下25°的双孔式浸渍喷嘴，经由上喷嘴向经浸渍喷嘴流下的钢水吹入氩气。对于铸造出的扁坯铸片，依次实施热轧、冷轧、合金化熔融镀锌处理。利用在线表面缺陷计测装置连续地测定了该合金化熔融镀锌钢板的表面缺陷。实施了测定的缺陷的概观观察、SEM分析及ICP分析，在测定的缺陷之中判别制钢性缺陷(脱氧生成物性缺陷、氩气气泡性缺陷、模制粉性缺陷)，通过合金化熔融镀锌钢板的每100m长度的制钢性缺陷个数(制品缺陷指数)进行了评价。

相当于本发明例的试验结果如表2所示，而且，相当于比较例的试验结果如表3所示。

[表2]

[表3]

本发明例1～12相当于表1的条件(A)，本发明例13～24相当于表1的条件(B)，本发明例25～36相当于表1的条件(C)。本发明例1～36都是制品缺陷指数为0.21～0.34个/100m的范围而为良好的结果。

另一方面，比较例1～24是交流磁场的峰值位置处的磁通密度为本发明的范围外的试验，制品缺陷指数为0.46～0.55个/100m，较差。

另外，比较例25～32是浸渍喷嘴的浸渍深度(L₁)为本发明的范围外的试验，它们的制品缺陷指数都为0.47～0.55个/100m，较差。比较例25～32仅是从铸模内钢水熔液面至交流磁场的峰值位置的距离(L₂)相当于表1的条件(A)的情况，但是在条件(B)及条件(C)的情况下，在浸渍喷嘴的浸渍深度(L₁)为本发明的范围外的条件下确认到制品缺陷指数恶化的情况。

需要说明的是，虽然在本实施例中未记载，但是在铸片的厚度为200～300mm的范围内，确认到能得到与本实施例记载的效果同等的效果。而且，关于浸渍喷嘴的形状，也没有限定为本实施例中记载的条件，如果喷出角度(θ)为向下5°至向下50°的范围，则确认到能得到同等的效果的情况。

这样，通过适用本发明的连续铸造方法，确认到能够铸造出优异的品质的扁坯铸片的情况。

符号说明

1 钢水

2 凝固壳

3 铸模内钢水熔液面

4 喷出流

5 铸片

6 铸模

7 铸模长边

8 铸模短边

9 浸渍喷嘴

10 喷出孔

11 交流磁场产生装置

12 模制粉。