阅读说明：本技术 掩膜板及掩膜组件 (Mask plate and mask assembly ) 是由 李加伟 于 2019-02-28 设计创作，主要内容包括：本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域,所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口,所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度,所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度。所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个所述掩膜板,所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上,至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上,且与所述掩膜板框架固定连接。(The application provides a mask plate and a mask assembly. The mask plate comprises a first evaporation coating area and a second evaporation coating area, the first evaporation coating area reaches a plurality of evaporation coating openings are arranged in the second evaporation coating area respectively, the density of the evaporation coating openings in the first evaporation coating area is larger than that of the evaporation coating openings in the second evaporation coating area, and the thickness of the first evaporation coating area is larger than that of the second evaporation coating area. The mask assembly comprises a mask plate frame, a support bar and at least one mask plate, the support bar is fixedly arranged on the mask plate frame, and the at least one mask plate is arranged on the support bar and fixedly connected with the mask plate frame.)

掩膜板及掩膜组件

技术领域

本申请涉及显示装置制备技术领域，尤其涉及一种掩膜板及掩膜组件。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等，但开槽区域并不能用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

发明内容

根据本申请实施例的第一方面，提供了一种掩膜板，所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域，所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度。

在一个实施例中，所述掩膜板还包括邻接所述第一蒸镀区域与所述第二蒸镀区域的过渡区域，所述过渡区域内设置有多个蒸镀开口，所述过渡区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度，且小于所述第一蒸镀区域的厚度。由于过渡区域邻接第一蒸镀区域及第二蒸镀区域，且过渡区域的厚度大于第二蒸镀区域的厚度，小于第一蒸镀区域的厚度，则掩膜板在张网过程中，过渡区域可对第一蒸镀区域及第二蒸镀区域受到的形变应力起到缓冲作用，更利于使第一蒸镀区域与第二蒸镀区域的蒸镀开口的形变量一致。

在一个实施例中，沿所述第一蒸镀区域指向所述第二蒸镀区域的方向，所述过渡区域的厚度逐渐减小，所述过渡区域的最大厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度，所述过渡区域的最小厚度小于所述第一蒸镀区域的厚度。由于过渡区域的厚度沿所述第一蒸镀区域指向所述第二蒸镀区域的方向逐渐减小，可使得过渡区域对第一蒸镀区域及第二蒸镀区域的形变应力的缓冲作用更好。过渡区域邻近第一蒸镀区域的区域的厚度与第一蒸镀区域的厚度接近，则该区域与第一蒸镀区域的抗形变能力接近，从而该区域的蒸镀开口与第一蒸镀区域的蒸镀开口的形变量接近；过渡区域邻近第二蒸镀区域的区域的厚度与第二蒸镀区域的厚度接近，则该区域与第二蒸镀区域的抗形变能力接近，从而该区域的蒸镀开口与第二蒸镀区域的蒸镀开口的形变量接近。因而过渡区域内的蒸镀开口的形变量与第一蒸镀区域及第二蒸镀区域内的蒸镀开口的形变量相差均较小，可提高蒸镀良率。

在一个实施例中，所述过渡区域包括多个子区域，多个子区域沿所述第一蒸镀区域指向第二蒸镀区域的方向排布，同一子区域的厚度各处相同，且沿所述第一蒸镀区域指向所述第二蒸镀区域的方向，子区域的厚度依次减小。如此设置，在张网过程中，过渡区域的多个子区域的形变应力由第一蒸镀区域至第二蒸镀区域逐渐变化，从而实现对第一蒸镀区域及第二蒸镀区域的形变应力的缓冲作用。

在一个实施例中，所述过渡区域的厚度各处相同。如此，制备掩膜板时，首先在掩膜板的对应过渡区域与第二蒸镀区域的区域进行刻蚀，之后再在第二蒸镀区域对应的区域进行刻蚀，即可得到掩膜板。可知，掩膜板的制备工艺比较简单。

在一个实施例中，所述过渡区域包括第一过渡区和第二过渡区，所述第一过渡区的厚度大于所述第二过渡区的厚度，所述第一过渡区与所述第一蒸镀区域邻接，所述第二过渡区与所述第二蒸镀区域邻接，所述第一过渡区内蒸镀开口的密度与所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度相同，所述第二过渡区内蒸镀开口的密度与所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度相同。由于第一过渡区内蒸镀开口的密度与第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度相同，且第一过渡区的厚度大于第二过渡区的厚度，则第一过渡区的厚度与第一蒸镀区域的厚度相差较小，因而第一过渡区内蒸镀开口的形变量与第一蒸镀区域内蒸镀开口的形变量相差较小；由于第二过渡区内蒸镀开口的密度与第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度相同，且第一过渡区的厚度大于第二过渡区的厚度，则第二过渡区的厚度与第二蒸镀区域的厚度相差较小，因而第二过渡区内蒸镀开口的形变量与第二蒸镀区域内蒸镀开口的形变量相差较小。因此掩膜板的第一蒸镀区域内蒸镀开口的形变量、第二蒸镀区域内蒸镀开口的形变量及过渡区域内蒸镀开口的形变量差别较小，可提升蒸镀良率。

在一个实施例中，所述第一蒸镀区域内各蒸镀开口的面积相同，所述第二蒸镀区域内各蒸镀开口的面积相同，且所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的面积小于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的面积。由于第一蒸镀区域内各蒸镀开口用于蒸镀显示面板的非透明显示区的像素，第二蒸镀区域内各蒸镀开口用于蒸镀显示面板的透明显示区的像素，则采用本申请实施例提供的掩膜板制备的显示面板透明显示区的像素面积较大，更有利于提高透明显示区的透光率。

在一个实施例中，所述第一过渡区内各蒸镀开口的面积相同，且所述第一过渡区内各蒸镀开口的面积与所述第一蒸镀区域内各蒸镀开口的面积相同；所述第二过渡区内各蒸镀开口的面积相同，且所述第二过渡区内各蒸镀开口的面积与所述第二蒸镀区域内各蒸镀开口的面积相同。如此设置，在蒸镀有机发光材料时，可通过第一蒸镀区域的蒸镀开口及第一过渡区的蒸镀开口向显示面板的非透明显示区蒸镀有机发光材料，通过第二蒸镀区域的蒸镀开口及第二过渡区的蒸镀开口向显示面板的透明显示区蒸镀有机发光材料，从而使掩膜板的蒸镀开口全部被利用。

在一个实施例中，所述第一蒸镀区域的厚度范围为30μm-60μm，所述第二蒸镀区域的厚度范围为20μm-50μm。如此设置更利于在掩膜板在张网过程中第一蒸镀区域内蒸镀开口的形变量与第二蒸镀区域内蒸镀开口的形变量一致。

根据本申请实施例的第二方面，提供了一种掩膜组件，所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个上述的掩膜板，所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上，至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上，且与所述掩膜板框架固定连接。

本申请实施例提供的掩膜板及掩膜组件，掩膜板的第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，由于第一蒸镀区域的厚度大于第二蒸镀区域的厚度，则掩膜板在张网过程中，可使得第一蒸镀区域内蒸镀开口的形变量减小，从而使第一蒸镀区域内蒸镀开口的形变量与第二蒸镀区域内蒸镀开口的形变量一致，避免在蒸镀过程中由于第一蒸镀区域与第二蒸镀区域内蒸镀开口的形变量不一致而导致蒸镀过程出现混色，进而提高蒸镀良率。

附图说明

图1为本申请实施例提供的一种掩膜板的俯视图；

图2是图1所示的掩膜板的一种侧视图；

图3是图1所示的掩膜板的另一种侧视图；

图4是图1所示的掩膜板的再一种侧视图；

图5为本申请实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

在诸如手机和平板电脑等智能电子设备上，由于需要集成诸如前置摄像头、光线感应器等感光器件，一般是通过在上述电子设备上设置透明显示屏的方式，来实现电子设备的全面屏显示。

一般透明显示区的像素密度小于非透明显示区的像素密度，则制备有机发光材料时采用的蒸镀掩膜板的与透明显示区对应的区域中蒸镀开口的密度较小，与非透明显示区对应的区域中蒸镀开口的密度较大。蒸镀掩膜板不同区域处蒸镀开口的密度不同将导致蒸镀掩膜板在张网过程中不同密度的蒸镀开口形变量不一致，从而导致蒸镀开口与显示区的像素开口错位，进而导致出现蒸镀混色等问题，降低电子设备的产品良率。

为解决上述问题，本申请实施例提供了一种掩膜板及掩膜组件。下面结合附图，对本申请实施例中的掩膜板及掩膜组件进行详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施方式中的特征可以相互补充或相互组合。

图1是本申请实施例提供的一种掩膜板的俯视图，图2是图1所示的掩膜板的一种侧视图，图3是图1所示的掩膜板的另一种侧视图，图4是图1所示的掩膜板的再一种侧视图，图5为本申请实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图。

本申请实施例提供了一种掩膜板。参见图1，所述掩膜板100包括第一蒸镀区域10和第二蒸镀区域20，所述第一蒸镀区域10及所述第二蒸镀区域20内分别设有多个蒸镀开口11、21，所述第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的密度大于所述第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的密度。参见图2至图4，所述第一蒸镀区域10的厚度大于所述第二蒸镀区域20的厚度。其中，第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20的厚度指的是其在垂直于掩膜板100的延伸方向上的尺寸。

当掩膜板100的厚度各处相同时，蒸镀开口密度较大的区域的抗形变能力小于蒸镀开口密度小的区域的抗形变能力。通过增大蒸镀开口密度较大的区域的厚度，可提高该区域的抗形变能力，从而使得蒸镀开口密度较大的区域的抗形变能力与蒸镀开口密度较小的区域的抗形变能力接近一致，进而使掩膜板100在张网过程中各处的蒸镀开口的形变量一致。

本申请实施例提供的掩膜板100，其第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的密度大于第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的密度，由于第一蒸镀区域10的厚度大于第二蒸镀区域20的厚度，则掩膜板100在张网过程中，可使得第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的形变量减小，从而使第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的形变量与第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的形变量一致，避免在蒸镀过程中由于第一蒸镀区域10与第二蒸镀区域20内蒸镀开口的形变量不一致而导致蒸镀过程出现混色，进而提高蒸镀良率。

采用本申请实施例提供的掩膜板100进行蒸镀时，第一蒸镀区域10可覆盖在显示面板的非透明显示区，第二蒸镀区域20可覆盖在显示面板的透明显示区，从而可通过第一蒸镀区域10的蒸镀开口11及第二蒸镀区域20的蒸镀开口21同时制备非透明显示区与透明显示区的有机发光材料。

在一个实施例中，再次参见图1，所述掩膜板100还可包括邻接所述第一蒸镀区域10与所述第二蒸镀区域20的过渡区域30，所述过渡区域30内设置有多个蒸镀开口31、32。再次参见图2至图4，所述过渡区域30的厚度大于所述第二蒸镀区域20的厚度，且小于所述第一蒸镀区域10的厚度。其中，过渡区域30邻接第一蒸镀区域10与第二蒸镀区域20指的是，过渡区域30位于第一蒸镀区域10与第二蒸镀区域20之间。

由于过渡区域30邻接第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20，且过渡区域30的厚度大于第二蒸镀区域20的厚度，小于第一蒸镀区域10的厚度，则掩膜板100在张网过程中，过渡区域30可对第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20受到的形变应力起到缓冲作用，更利于使第一蒸镀区域10与第二蒸镀区域20的蒸镀开口的形变量一致。

在一个实施例中，沿所述第一蒸镀区域10指向所述第二蒸镀区域20的方向，所述过渡区域30的厚度逐渐减小，所述过渡区域30的最大厚度大于所述第二蒸镀区域20的厚度，所述过渡区域30的最小厚度小于所述第一蒸镀区域10的厚度。

由于过渡区域30的厚度沿所述第一蒸镀区域10指向所述第二蒸镀区域20的方向逐渐减小，可使得过渡区域30对第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20的形变应力的缓冲作用更好。过渡区域30邻近第一蒸镀区域10的区域的厚度与第一蒸镀区域10的厚度接近，则该区域与第一蒸镀区域10的抗形变能力接近，从而该区域的蒸镀开口与第一蒸镀区域10的蒸镀开口的形变量接近；过渡区域30邻近第二蒸镀区域20的区域的厚度与第二蒸镀区域20的厚度接近，则该区域与第二蒸镀区域20的抗形变能力接近，从而该区域的蒸镀开口与第二蒸镀区域20的蒸镀开口的形变量接近。因而过渡区域30内的蒸镀开口的形变量与第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20内的蒸镀开口的形变量相差均较小，可提高蒸镀良率。

其中，沿所述第一蒸镀区域10指向所述第二蒸镀区域20的方向，所述过渡区域30的厚度逐渐减小时，过渡区域30的厚度分布有如下两种方式。

在一种情况下，所述过渡区域30的厚度变化不连续。参见图2，所述过渡区域30包括多个子区域33，多个子区域33沿第一蒸镀区域10指向第二蒸镀区域20的方向排布，同一子区域33的厚度各处相同，且沿所述第一蒸镀区域10指向所述第二蒸镀区域20的方向，子区域的厚度依次减小。

如此设置，在张网过程中，过渡区域30的多个子区域33的形变应力由第一蒸镀区域10至第二蒸镀区域20逐渐变化，从而实现对第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20的形变应力的缓冲作用。

在制备掩膜板100时，可对掩膜板100进行多次刻蚀而形成过渡区域30的多个子区域33。

需要说明的是，图2仅以过渡区域30包括四个子区域33进行示例说明，在其他实施例中，过渡区域30包括的子区域33的数量可小于或大于四个。

在另一种情况下，参见图3，过渡区域30的厚度连续变化。过渡区域30的厚度连续变化时，更利于提升过渡区域30对第一蒸镀区域10及第二蒸镀区域20的形变应力的缓冲作用，但是需通过很多次刻蚀才可制备得到过渡区域30，制备工艺相对图2所示的过渡区域30来说更复杂。

在另一个实施例中，参见图4，所述过渡区域30的厚度各处相同。如此，制备掩膜板100时，首先在掩膜板100的对应过渡区域30与第二蒸镀区域20的区域进行刻蚀，之后再在第二蒸镀区域20对应的区域进行刻蚀，即可得到图4所示的掩膜板。可知，掩膜板100的制备工艺比较简单。

在一个实施例中，所述第一蒸镀区域10内各蒸镀开口11的面积相同，所述第二蒸镀区域20内各蒸镀开口21的面积相同，且所述第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的面积小于所述第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的面积。由于第一蒸镀区域10内各蒸镀开口11用于蒸镀显示面板的非透明显示区的像素，第二蒸镀区域20内各蒸镀开口21用于蒸镀显示面板的透明显示区的像素，则采用本申请实施例提供的掩膜板100制备的显示面板透明显示区的像素面积较大，更有利于提高透明显示区的透光率。

在一个实施例中，再次参见图1，所述过渡区域30包括第一过渡区301和第二过渡区302，所述第一过渡区301的厚度大于所述第二过渡区302的厚度，所述第一过渡区301与所述第一蒸镀区域10邻接，所述第二过渡区302与所述第二蒸镀区域20邻接，所述第一过渡区301内蒸镀开口31的密度与所述第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的密度相同，所述第二过渡区302内蒸镀开口32的密度与所述第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的密度相同。

由于第一过渡区301内蒸镀开口31的密度与第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的密度相同，且第一过渡区301的厚度大于第二过渡区302的厚度，则第一过渡区301的厚度与第一蒸镀区域10的厚度相差较小，因而第一过渡区301内蒸镀开口的形变量与第一蒸镀区域10内蒸镀开口的形变量相差较小；由于第二过渡区302内蒸镀开口32的密度与第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的密度相同，且第一过渡区301的厚度大于第二过渡区302的厚度，则第二过渡区302的厚度与第二蒸镀区域20的厚度相差较小，因而第二过渡区302内蒸镀开口的形变量与第二蒸镀区域20内蒸镀开口的形变量相差较小。因此掩膜板100的第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的形变量、第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的形变量及过渡区域30内蒸镀开口的形变量差别较小，可提升蒸镀良率。

其中，所述第一过渡区301的厚度可沿第一蒸镀区域10指向第二过渡区302的方向逐渐减小，第二过渡区302的厚度可沿第一过渡区301指向第二蒸镀区域20的方向逐渐减小。

在一个实施例中，所述第一过渡区301内各蒸镀开口31的面积相同，且所述第一过渡区301内各蒸镀开口31的面积与所述第一蒸镀区域10内各蒸镀开口11的面积相同；所述第二过渡区302内各蒸镀开口32的面积相同，且所述第二过渡区302内各蒸镀开口32的面积与所述第二蒸镀区域20内各蒸镀开口21的面积相同。

如此设置，在蒸镀有机发光材料时，可通过第一蒸镀区域10的蒸镀开口11及第一过渡区301的蒸镀开口31向显示面板的非透明显示区蒸镀有机发光材料，通过第二蒸镀区域20的蒸镀开口21及第二过渡区302的蒸镀开口32向显示面板的透明显示区蒸镀有机发光材料，从而使掩膜板100的蒸镀开口全部被利用。

在一个实施例中，所述第一蒸镀区域10的厚度范围为30μm-60μm，所述第二蒸镀区域20的厚度范围为20μm-50μm。如此设置更利于在掩膜板100张网过程中第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的形变量与第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的形变量一致。其中，第一蒸镀区域10的厚度范围例如可以是35μm、40μm、45μm、50μm、55μm等，第二蒸镀区域20的厚度范围例如可以是25μm、30μm、45μm、40μm、45μm等。

本申请实施例还提供了一种掩膜组件，参见图5，所述掩膜组件200包括掩膜板框架210、支撑条220及至少一个上述的掩膜板100，所述支撑条220固定设置在所述掩膜板框架210上，至少一个所述掩膜板100设置在所述支撑条220上，且与所述掩膜板框架210固定连接。

掩模组件在工作过程时，掩膜板框架210及支撑条30对掩膜板100起到支撑作用，可防止掩膜板100在蒸镀过程中下垂，降低掩膜板100在张网过程中的褶皱现象。

本申请实施例提供的掩膜组件200，其掩膜板100的第一蒸镀区域10内蒸镀开口11的密度大于第二蒸镀区域20内蒸镀开口21的密度，由于第一蒸镀区域10的厚度大于第二蒸镀区域20的厚度，则掩膜板100在张网过程中，可使得第一蒸镀区域10内蒸镀开口的形变量减小，从而使第一蒸镀区域10内蒸镀开口的形变量与第二蒸镀区域20内蒸镀开口的形变量一致，避免在蒸镀过程中由于第一蒸镀区域10与第二蒸镀区域20内蒸镀开口的形变量不一致而导致蒸镀过程出现混色，进而提高蒸镀良率。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。